粉末冶金真空氣氛爐加工洛陽華熔窯爐

作者:[195vnp] 發(fā)布時間:[2024-11-10 06:02:19]

 

真空氣氛爐是大家所熟知的能夠提供氣氛保護(hù)和各種氣氛環(huán)境的高溫實驗設(shè)備,也可以用于生產(chǎn)。

但是使用者更希望能夠有一個穩(wěn)定的氣氛環(huán)境。如何實現(xiàn)自動穩(wěn)定爐內(nèi)壓力并及時補(bǔ)充氣體成了很多使用者關(guān)心的功能。

一個電磁閥控制進(jìn)氣,另一個電磁閥控制泄壓。當(dāng)壓力表探測到壓力低于某一設(shè)定壓力時會給電磁閥一個電信號,電磁閥接通此時氣源會向真空氣氛爐內(nèi)補(bǔ)充氣體,當(dāng)氣氛爐內(nèi)壓力恢復(fù)至設(shè)定值時電磁閥關(guān)閉,不再繼續(xù)通入氣體。同樣的原理可實現(xiàn)自動泄壓。如此循環(huán)工作來保證爐內(nèi)氣體的穩(wěn)定和充足。

其實原理固然簡單,但是要做好真空氣氛爐各個電器的配合以及氣管接頭的密封等等都是要仔細(xì)考慮的細(xì)節(jié)。廠家表示,如果配以混氣系統(tǒng)加以配合效果會更好,能很大程度上實現(xiàn)自動化,解放實驗人員的時間和空間,同時控制更加精準(zhǔn)。

當(dāng)箱式電阻爐溫升高,應(yīng)隨時注意,壓力長,間斷打開放氣閥門,使?fàn)t膽內(nèi)的壓力在0.1MPa以下,這時膽的油煙等雜質(zhì)可隨之排出。實行光亮退火,在升溫時打開放氣閥,隨后充入保護(hù)氣體,流量由小變大,當(dāng)氣氛爐爐內(nèi)壓力為正壓時,即關(guān)閉全部閥門,此工藝應(yīng)經(jīng)工藝試驗,由熟練工人掌握。

 

工件畸變小是真空氣氛爐的一個非常重要的優(yōu)點(diǎn)。據(jù)國內(nèi)外經(jīng)驗,氣氛爐的畸變量僅為鹽浴加熱淬火的三分之一。研究各種材料、不同復(fù)雜程度零件的真空加熱方式和各種冷卻條件下的畸變規(guī)律,并用計算機(jī)加以模擬,對于推廣真空氣氛爐技術(shù)具有重要意義。真空加熱、常壓或高壓氣冷淬火時氣流均勻性對零件淬硬效果和質(zhì)量分散度有很大影響。采用計算機(jī)模擬手段研究爐中氣流循環(huán)規(guī)律,對于改進(jìn)爐子結(jié)構(gòu)變具有重要意義。真空滲碳是實現(xiàn)高溫滲碳的可能的方式。

但在高溫下長時間加熱會使大多數(shù)鋼種的奧氏體晶粒度長得很大,對于具體鋼材高溫滲碳,重新加熱淬火對材料和工件性能的影響規(guī)律加以研究,對優(yōu)化真空滲碳、冷卻、加熱淬火工藝和設(shè)備是很有必要的。近幾年,國際上有研究開發(fā)使用氣體燃料的燃燒式真空爐的動向。在真空氣氛爐采用氣體燃料加熱的困難太多,雖然有節(jié)約能源的說法,但不一定是一個重要的發(fā)展方向。

目前我國使用的真空氣氛爐基本上都是單室或雙室間歇式真空爐,其缺點(diǎn)是效率低、能耗大、成本高、產(chǎn)量小、不適合大批量生產(chǎn)。為了克服間歇式真空爐存在的上述缺點(diǎn),滿足現(xiàn)代工業(yè)大批量生產(chǎn)的需要。

華熔在多年研制單室、雙室間真空氣氛爐的基礎(chǔ)上,針對連續(xù)式真空爐的關(guān)鍵性技術(shù)難題進(jìn)行攻關(guān),獨(dú)立開發(fā)、精心設(shè)計,成功地研制出多室連續(xù)式真空爐。該產(chǎn)品為全自動流水線式多室組合機(jī)電一體化真空加熱設(shè)備,其結(jié)構(gòu)新穎,操作簡便。

真空氣氛爐是于二十世紀(jì)四十年代逐漸發(fā)展起來的重要的工業(yè)加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于鈦、鋯、鎢、鉬、鈮等活性金屬、難熔金屬及其合金、鋁箔、電工純鐵、軟磁合金、銅管帶等金屬材料的無氧化光亮退火;高速工具鋼、模具鋼的光亮淬火;不銹鋼、鈦、鋁、銅、硬質(zhì)合金、高溫合金、陶瓷等同種材料或異種材料之間的無釬劑真空釬焊;硬質(zhì)合金、稀土永磁材料釹鐵硼等粉末冶金材料的真空燒結(jié);電子管、真空開關(guān)、不銹鋼保溫容器的真空排氣與封接等等。在航空、航天、船舶、車輛、機(jī)械、電子、石化、工具、材料、家電等行業(yè)正日益發(fā)揮越來越大的作用。

真空氣氛爐功率控制采用可擰肢調(diào)壓器加大電流變壓器,溫度控制采用兩臺數(shù)顯智能程序校制儀。


 

真空氣氛爐就是可以抽真空又可以通氣氛的爐型,它有箱式、管式爐、升降爐等很多種不同爐型,雖然種類很多,但是在操作時候的注意事項卻大差不差,下面咱們就來了解一下:

1、不能超負(fù)荷使用高溫真空氣氛爐,zui高使用溫度是指元件在真空中允許的本身表面溫度,并不是指加熱物質(zhì)的溫度或加熱元件周圍的溫度。要注意真空電熱元件本身的溫度一股比它周圍的介質(zhì)溫度或被加熱溫度高100℃。

2、測量真空氣氛爐溫均勻性時,應(yīng)注意測溫觸點(diǎn)方式,以及距加熱元件的遠(yuǎn)近。氣氛爐內(nèi)經(jīng)常(至少每天或每班使用前)用毛刷、掃帚或壓縮空氣、吸塵器等清潔爐膛,要防止?fàn)t內(nèi)氧化皮等雜質(zhì)掉在電熱元件上,發(fā)生短路,甚至燒壞鉬加熱棒。底板、鉬加熱棒、爐保溫層等耐熱鋼構(gòu)件每使用一段時間,應(yīng)該進(jìn)行清理,嚴(yán)禁敲擊,可小心清除其氧化皮。

3、爐子升溫后,不能突然破壞真空系統(tǒng),更不可打開爐門。注意充大氣進(jìn)去前,應(yīng)關(guān)閉真空計開關(guān),防止真空計老化。當(dāng)溫度高于400℃時,不得急劇冷卻。要避免加熱元件和產(chǎn)品發(fā)生反應(yīng),尤其足銅、鋁、鋅、錫、鉛等與真空加熱元件接觸,無論是細(xì)粉、熔液或蒸汽等,防止在電加熱體表面侵蝕形成“麻坑”,截面變小,zui后過熱而燒斷。

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