防反射涂層膜厚儀技術支持

來源: 發(fā)布時間:2022-03-29

F10-RT同時測量反射和透射以真空鍍膜為設計目標,F(xiàn)10-RT只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。只需傳統(tǒng)價格的一小部分,用戶就能進行蕞低/蕞高分析、確定FWHM并進行顏色分析。可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用FilmetricsF10的分析能力。測量結果能被快速地導出和打印。包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件BK7參考材料Al2O3參考材料Si參考材料防反光板鏡頭紙額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應用更超過數(shù)百種應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃F50測厚范圍:20nm-70μm;波長:380-1050nm。防反射涂層膜厚儀技術支持

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F40系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40產(chǎn)品系列用于測量小到1微米的光斑。對大多數(shù)顯微鏡而言,F(xiàn)40能簡單地固定在c型轉接器上,這樣的轉接器是顯微鏡行業(yè)標準配件。F40配備的集成彩色攝像機,能夠對測量點進行準確監(jiān)控。在1秒鐘之內(nèi)就能測定厚度和折射率。像我們所有的臺式儀器一樣,F(xiàn)40需要連接到您裝有Windows計算機的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)完成設定。F40:20nm-40μm400-850nmF40-EXR:20nm-120μm400-1700nmF40-NIR:40nm-120μm950-1700nmF40-UV:4nm-40μm190-1100nmF40-UVX:4nm-120μm190-1700nm防反射涂層膜厚儀技術支持可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

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F10-AR無須處理涂層背面我們探頭設計能抑制1.5mm厚基板98%的背面反射,使用更厚的鏡頭抑制的更多。就像我們所有的臺式儀器一樣,F(xiàn)10-AR需要連接到您裝有Windows計算機的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)即可完成設定。包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件FILMeasure獨力軟件(用于遠程數(shù)據(jù)分析)CP-1-1.3探頭BK7參考材料整平濾波器(用于高反射基板)備用燈額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應用更超過數(shù)百種應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃

FSM413MOT紅外干涉測量設備:適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側壁角度粗糙度薄膜厚度不同半導體材料的厚度環(huán)氧樹脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點高度(bumpheight)MEMS薄膜測量TSV深度、側壁角度...如果您想了解更多關于FSM膜厚儀的技術問題,請聯(lián)系我們岱美儀器。應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響),平整度。

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測量復雜的有機材料典型的有機發(fā)光顯示膜包括幾層: 空穴注入層,空穴傳輸層,以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機分子(小分子和/或聚合物)。雖然有機分子高度反常色散,測量這些物質的光譜反射充滿挑戰(zhàn),但對Filmetrics卻不盡然。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個OLED的開發(fā)歷史,能夠處理隨著有機分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,要求測量像PET(聚乙烯)塑料這樣有高雙折射的基準,這對托偏儀測量是個嚴重的挑戰(zhàn): 或者模擬額外的復雜光學,或者打磨PET背面。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要,極大地節(jié)約了人員培訓和測量時間。操作箱中測量有機發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮氣操作箱中測量。 而我們體積小,模塊化,光纖設計的儀器提供非密封、實時“操作箱”測量。適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物等。Filmetrics F32sX膜厚儀當?shù)貎r格

一般較短波長 (例如, F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,而較長波長可以測量更厚、更不平整和更不透明的薄膜。防反射涂層膜厚儀技術支持

平臺和平臺附件標準和磚用平臺。CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺,可測波長范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺,F(xiàn)20系統(tǒng)的標準配置。可調節(jié)鏡頭高度,103mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-88“×8”樣品平臺??烧{節(jié)鏡頭高度,139mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺??烧{節(jié)鏡頭高度,550mm進深。適用所有波長范圍。SS-56"x6"吋樣品臺,具有可調整焦距的反射光學配件,需搭配具有APC接頭的光纖,全波長范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺,50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺,110mmx110mm防反射涂層膜厚儀技術支持

岱美儀器技術服務(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術團隊,各種專業(yè)設備齊全。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB是岱美儀器技術服務(上海)有限公司的主營品牌,是專業(yè)的磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易,商務信息咨詢服務 公司,擁有自己**的技術體系。公司堅持以客戶為中心、磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易,商務信息咨詢服務 市場為導向,重信譽,保質量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。自公司成立以來,一直秉承“以質量求生存,以信譽求發(fā)展”的經(jīng)營理念,始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,為客戶提供良好的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,從而使公司不斷發(fā)展壯大。