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    減輕了電路設(shè)計(jì)師的重?fù)?dān)，不需凡事再由基礎(chǔ)的一個(gè)個(gè)晶體管處設(shè)計(jì)起。集成電路可以把模擬和數(shù)字電路集成在一個(gè)單芯片上，以做出如模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器和數(shù)字模擬轉(zhuǎn)換器等器件。這種電路提供更小的尺寸和更低的成本，但是對(duì)于信號(hào)必須小心。[1]制造播報(bào)編輯參見：半導(dǎo)體器件制造和集成電路設(shè)計(jì)從20世紀(jì)30年始，元素周期表中的化學(xué)元素中的半導(dǎo)體被研究者如貝爾實(shí)驗(yàn)室的威廉·肖克利（WilliamShockley）認(rèn)為是固態(tài)真空管的可能的原料。從氧化銅到鍺，再到硅，原料在20世紀(jì)40到50年代被系統(tǒng)的研究。盡管元素周期表的一些III-V價(jià)化合物如砷化鎵應(yīng)用于特殊用途如：發(fā)光二極管、激光、太陽能電池和高速集成電路，單晶硅成為集成電路主流的基層。創(chuàng)造無缺陷晶體的方法用去了數(shù)十年的時(shí)間。半導(dǎo)體集成電路工藝，包括以下步驟，并重復(fù)使用：光刻刻蝕薄膜（化學(xué)氣相沉積或物相沉積）摻雜（熱擴(kuò)散或離子注入）化學(xué)機(jī)械平坦化CMP使用單晶硅晶圓（或III-V族，如砷化鎵）用作基層，然后使用光刻、摻雜、CMP等技術(shù)制成MOSFET或BJT等組件，再利用薄膜和CMP技術(shù)制成導(dǎo)線，如此便完成芯片制作。因產(chǎn)品性能需求及成本考量，導(dǎo)線可分為鋁工藝（以濺鍍?yōu)橹鳎┖豌~工藝（以電鍍?yōu)橹鲄⒁奃amascene）。IC芯片要保證焊接質(zhì)量，焊接時(shí)確實(shí)焊牢，焊錫的堆積、氣孔容易造成虛焊。TM4C1231E6PMI

    FCBGA封裝使得輸入輸出信號(hào)陣列（稱為I/O區(qū)域）分布在整個(gè)芯片的表面，而不是限制于芯片的。如今的市場，封裝也已經(jīng)是出來的一環(huán)，封裝的技術(shù)也會(huì)影響到產(chǎn)品的質(zhì)量及良率。[1]集成電路芯片封裝概述播報(bào)編輯封裝概念狹義:利用膜技術(shù)及微細(xì)加工技術(shù)，將芯片及其他要素在框架或基板上布置、粘貼固定及連接，引出接線端子并通過可塑性絕緣介質(zhì)灌封固定，構(gòu)成整體立體結(jié)構(gòu)的工藝。廣義:將封裝體與基板連接固定，裝配成完整的系統(tǒng)或電子設(shè)備，并確保整個(gè)系統(tǒng)綜合性能的工程。芯片封裝實(shí)現(xiàn)的功能1、傳遞功能；2、傳遞電路信號(hào)；3、提供散熱途徑；4、結(jié)構(gòu)保護(hù)與支持。封裝工程的技術(shù)層次封裝工程始于集成電路芯片制成之后，包括集成電路芯片的粘貼固定、互連、封裝、密封保護(hù)、與電路板的連接、系統(tǒng)組合，直到終產(chǎn)品完成之前的所有過程。層次:又稱為芯片層次的封裝，是指把集成電路芯片與封裝基板或引腳架之間的粘貼固定、電路連線與封裝保護(hù)的工藝，使之成為易于取放輸送，并可與下一層次組裝進(jìn)行連接的模塊(組件)元件。第二層次:將數(shù)個(gè)第-層次完成的封裝與其他電子元器件組成--個(gè)電路卡的工藝。仿真機(jī) 5S-I-S02B交流工作電壓測量法適用于工作頻率較低的IC，如電視機(jī)的視頻放大級(jí)、場掃描電路等。

    這是**次從國外引進(jìn)集成電路技術(shù)；成立電子計(jì)算機(jī)和大規(guī)模集成電路領(lǐng)導(dǎo)小組，制定了**IC發(fā)展規(guī)劃，提出“六五”期間要對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)進(jìn)行技術(shù)改造。1985年，塊64KDRAM在無錫國營724廠試制成功。1988年，上無十四廠建成了我國條4英寸線。1989年，機(jī)電部在無錫召開“八五”集成電路發(fā)展戰(zhàn)略研討會(huì)，提出振興集成電路的發(fā)展戰(zhàn)略；724廠和永川半導(dǎo)體研究所無錫分所合并成立了**華晶電子集團(tuán)公司。[5]1990-2000年重點(diǎn)建設(shè)期1990年，決定實(shí)施“908”工程。1991年，首都鋼鐵公司和日本NEC公司成立中外合資公司——首鋼NEC電子有限公司。1992年，上海飛利浦公司建成了我國條5英寸線。1993年，塊256KDRAM在**華晶電子集團(tuán)公司試制成功。1994年，首鋼日電公司建成了我國條6英寸線。1995年，決定繼續(xù)實(shí)施集成電路專項(xiàng)工程（“909”工程），集中建設(shè)我國條8英寸生產(chǎn)線。1996年，英特爾公司投資在上海建設(shè)封測廠。1997年，由上海華虹集團(tuán)與日本NEC公司合資組建上海華虹NEC電子有限公司，主要承擔(dān)“909”主體工程超大規(guī)模集成電路芯片生產(chǎn)線項(xiàng)目建設(shè)。1998年，華晶與上華合作生產(chǎn)MOS圓片合約簽定，開始了**大陸的Foundry時(shí)代。

    由于美國對(duì)華為的第二輪制裁，到9月16日華為麒麟芯片就將用光庫存。在芯片危機(jī)上華為如何破局，美國CNBC網(wǎng)站11日分析稱，華為有5個(gè)選擇，但同時(shí)“所有5個(gè)選擇都面臨重大挑戰(zhàn)”。[8]3、德國《經(jīng)濟(jì)周刊》表示，以半導(dǎo)體行業(yè)為例，盡管**芯片需求達(dá)到全球60％，但**自產(chǎn)的只有13％。路透社稱，美國對(duì)華為打壓加劇，**則力推經(jīng)濟(jì)內(nèi)循環(huán)，力爭在高科技領(lǐng)域不受制于人。[8]4、美國消費(fèi)者新聞與商業(yè)頻道網(wǎng)站8月10日?qǐng)?bào)道指出，**計(jì)劃到2020年將半導(dǎo)體自給率提高到40%，到2025年提高到70%。[4]瑞士米拉博證券公司技術(shù)、媒體和電信研究主管尼爾·坎普林在電子郵件中告訴消費(fèi)者新聞與商業(yè)頻道記者：“我認(rèn)為，這場新的技術(shù)冷戰(zhàn)正是**攀爬技術(shù)曲線、積極開發(fā)本土技術(shù)的原因?！盵4]歐亞集團(tuán)地緣-技術(shù)業(yè)務(wù)負(fù)責(zé)人保羅·特廖洛說：“新政策中列出的優(yōu)惠待遇將在某些領(lǐng)域起到幫助作用，但從短期看，對(duì)**半導(dǎo)體企業(yè)向價(jià)值鏈上游攀升和提高全球競爭力幫助有限?！盵4]相關(guān)新聞播報(bào)編輯2020年8月13日消息，近日印發(fā)《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》，讓本已十分火熱的國產(chǎn)芯片行業(yè)再添重磅利好。重磅政策萬億市場，“新經(jīng)濟(jì)”“新基建”催生新機(jī)遇?！靶滦枨蟆北l(fā)。硅宇電子的IC芯片為客戶提供高效可靠的解決方案，幫助他們實(shí)現(xiàn)更高效的生產(chǎn)力。

    臺(tái)全部采用國產(chǎn)處理器構(gòu)建的超級(jí)計(jì)算機(jī)“神威太湖之光”獲世界超算。2017年，長江存儲(chǔ)一期項(xiàng)目封頂；存儲(chǔ)器產(chǎn)線建設(shè)開啟；全球AI芯片獨(dú)角獸初創(chuàng)公司成立；華為發(fā)布全球款人工智能芯片麒麟970。2018年，紫光量產(chǎn)32層3DNAND（零突破）。2019年，華為旗下海思發(fā)布全球5GSoC芯片海思麒麟990，采用了全球**的7納米工藝；64層3DNAND閃存芯片實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)；中芯**14納米工藝量產(chǎn)。[5]2021年7月，采用自主指令系統(tǒng)LoongArch設(shè)計(jì)的處理器芯片，龍芯3A5000正式發(fā)布[12]挑戰(zhàn)2020年8月7日，華為常務(wù)董事、華為消費(fèi)者業(yè)務(wù)CEO余承東在**信息化百人會(huì)2020年峰會(huì)上的演講中說，受管制影響，下半年發(fā)售的Mate40所搭載的麒麟9000芯片，或?qū)⑹侨A為自研的麒麟芯片的后一代。以制造為主的芯片下游，是我國集成電路產(chǎn)業(yè)薄弱的環(huán)節(jié)。由于工藝復(fù)雜，芯片制造涉及到從學(xué)界到產(chǎn)業(yè)界在材料、工程、物理、化學(xué)、光學(xué)等方面的長期積累，這些短板短期內(nèi)難以補(bǔ)足。[6]任正非早就表示：華為很像一架被打得千瘡百孔的飛機(jī)，正在加緊補(bǔ)洞，現(xiàn)在大多數(shù)洞已經(jīng)補(bǔ)好，還有一些比較重要的洞，需要兩三年才能完全克服。隨著禁令愈加嚴(yán)苛，要補(bǔ)的洞越來越多，[10]余承東是承認(rèn)，當(dāng)初只做設(shè)計(jì)不做生產(chǎn)是個(gè)錯(cuò)誤。如何判斷IC芯片的好壞：不在路檢測，歡迎來電咨詢。TM4C1231E6PMI

制作工藝：IC芯片按制作工藝可分為半導(dǎo)體IC芯片和膜IC芯片。TM4C1231E6PMI

    所述第二熱接口材料層與所述集成電路熱耦聯(lián)，和能夠移除的散熱器，所述散熱器與所述第二熱接口材料層熱耦聯(lián)，所述散熱器具有越過印刷電路板的與所述連接側(cè)相對(duì)的側(cè)延伸的頂表面；其中，所述兩個(gè)印刷電路裝配件被相對(duì)地放置在一起，使得在所述印刷電路裝配件中的每個(gè)印刷電路裝配件上的散熱器的頂表面與另一個(gè)印刷電路裝配件的所述熱接口材料層接觸，并且與該熱接口材料層熱耦聯(lián)。在另一個(gè)方面中，本公開的實(shí)施方式提供一種用于冷卻集成電路的裝置，所述裝置包括：兩個(gè)印刷電路裝配件，每個(gè)所述印刷電路裝配件包括：系統(tǒng)板，所述系統(tǒng)板上的多個(gè)印刷電路板插座，多個(gè)液體冷卻管，每個(gè)所述液體冷卻管鄰接于所述印刷電路板插座中的一個(gè)印刷電路板插座地耦聯(lián)至所述系統(tǒng)板，連接至所述印刷電路板插座的多個(gè)集成電路模塊，和多個(gè)散熱器，每個(gè)所述散熱器與所述集成電路模塊中的一個(gè)集成電路模塊熱耦聯(lián)；其中，所述印刷電路裝配件彼此相對(duì)地布置，使得所述兩個(gè)印刷電路裝配件的集成電路模塊彼此交錯(cuò)，并且所述印刷電路裝配件中的每個(gè)印刷電路裝配件的散熱器的頂表面與另一個(gè)印刷電路裝配件的液體冷卻管熱耦聯(lián)。在又一個(gè)方面中，本公開的實(shí)施方式提供一種用于冷卻集成電路的方法。TM4C1231E6PMI