河北磁控濺射真空鍍膜機(jī)制造商

    高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-1800F型常規(guī)配置;

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型，公自轉(zhuǎn)，多行星型，可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國產(chǎn)IC-6，XTC-3S/M，INFICON310。石英晶體感應(yīng)器:1，2，6頭光控控制國產(chǎn)光控(或進(jìn)口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼，RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng):真空室麥斯納阱擴(kuò)散泵冷阱全程自動(dòng)控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品ZUI終所需要求。 磁控濺射真空鍍膜機(jī)具有較高的鍍膜效率和能耗效益，可以降低生產(chǎn)成本。河北磁控濺射真空鍍膜機(jī)制造商

真空鍍膜機(jī)的鍍膜厚度是通過控制涂層過程中沉積材料的速率來實(shí)現(xiàn)的。涂層厚度的控制是一個(gè)精密的過程，受到多種因素的影響。以下是一些影響真空鍍膜機(jī)鍍膜厚度控制的因素：1.蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的速率：蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材釋放涂層材料的速率直接影響涂層的沉積速率。通過控制這些速率，可以調(diào)整涂層的厚度。2.襯底旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)：襯底在真空腔體中的旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)可以確保涂層在整個(gè)表面上均勻沉積，影響涂層的均勻性和厚度。3.真空度：真空度的高低影響蒸發(fā)或?yàn)R射過程中氣體分子的數(shù)量，從而影響沉積速率。較高的真空度通常有助于更準(zhǔn)確地控制涂層厚度。4.溫度：物體表面的溫度可以影響涂層的附著力和晶體結(jié)構(gòu)，從而影響厚度的控制。加熱蒸發(fā)源或襯底可以調(diào)整涂層的性質(zhì)和厚度。5.沉積材料的性質(zhì)：不同的沉積材料在相同的條件下可能具有不同的沉積速率，這需要在控制中進(jìn)行調(diào)整。6.氣氛氣體的控制：在一些特定的涂層過程中，引入氣氛氣體可以改變沉積速率和涂層的性質(zhì)。7.鍍膜設(shè)備的設(shè)計(jì)和性能：不同設(shè)計(jì)和性能的真空鍍膜機(jī)可能具有不同的控制精度和穩(wěn)定性，影響涂層的一致性。8.監(jiān)測和控制系統(tǒng)：精密的監(jiān)測和控制系統(tǒng)可以實(shí)時(shí)檢測涂層的厚度，并根據(jù)需求進(jìn)行調(diào)整。 江蘇鏡片鍍膜機(jī)加工光學(xué)真空鍍膜機(jī)采用真空鍍膜技術(shù)，可以在物體表面形成均勻、透明的薄膜。

生活用品中需要真空鍍膜的有：1.金屬餐具：真空鍍膜可以使餐具表面更加光滑、美觀，同時(shí)還可以提高餐具的耐腐蝕性和耐磨性。2.金屬首飾：真空鍍膜可以使首飾表面更加光滑、亮麗，同時(shí)還可以提高首飾的耐磨性和耐腐蝕性。3.金屬手表：真空鍍膜可以使手表表面更加光滑、美觀，同時(shí)還可以提高手表的耐磨性和耐腐蝕性。4.金屬眼鏡框：真空鍍膜可以使眼鏡框表面更加光滑、美觀，同時(shí)還可以提高眼鏡框的耐磨性和耐腐蝕性。5.金屬手機(jī)殼：真空鍍膜可以使手機(jī)殼表面更加光滑、美觀，同時(shí)還可以提高手機(jī)殼的耐磨性和耐腐蝕性。6.金屬家居飾品：真空鍍膜可以使家居飾品表面更加光滑、美觀，同時(shí)還可以提高家居飾品的耐磨性和耐腐蝕性。

真空鍍膜機(jī)通常由多個(gè)主要部件組成，每個(gè)部件都有特定的功能，以確保涂層過程的順利進(jìn)行。以下是真空鍍膜機(jī)的一些主要部件及其功能：1.真空腔體（VacuumChamber）：功能：提供一個(gè)密封的空間，用于創(chuàng)建真空環(huán)境。在這個(gè)腔體中，涂層過程將在無空氣或真空的條件下進(jìn)行。2.真空泵（VacuumPump）：功能：用于抽取真空腔體內(nèi)的空氣，創(chuàng)造高度真空的工作環(huán)境。不同類型的真空泵包括機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、離心泵等，其選擇取決于所需的真空度。3.靶材或蒸發(fā)源（TargetorEvaporationSource）：功能：提供薄膜材料，可以是金屬靶材或化合物靶材。靶材通過蒸發(fā)或?yàn)R射的方式將薄膜材料釋放到真空腔體中，從而沉積在物體表面。4.襯底臺(tái)（SubstrateHolder）：功能：支持待涂層的物體，也稱為襯底。襯底臺(tái)通?？尚D(zhuǎn)、傾斜或移動(dòng)，以確保薄膜均勻沉積在整個(gè)表面。5.加熱系統(tǒng)（HeatingSystem）：功能：在蒸發(fā)涂層中，加熱靶材使其蒸發(fā)。加熱系統(tǒng)可能采用電阻加熱或電子束加熱等方法。6.冷卻系統(tǒng)（CoolingSystem）：功能：控制真空腔體內(nèi)的溫度，防止部分設(shè)備過熱。冷卻系統(tǒng)通常包括冷卻水或其他冷卻介質(zhì)。7.控制系統(tǒng)（ControlSystem）：功能：監(jiān)測和控制整個(gè)涂層過程。 真空鍍膜機(jī)可以應(yīng)用于太陽能電池、LED等新能源領(lǐng)域。

    BLL-1500F燈管真空鍍膜機(jī)

1.工藝文件選擇框；2.為廠家的每一爐產(chǎn)品識(shí)別號(hào)（如沒有則不用輸入），使用可方便日后查找鍍膜過程記錄文件；3.讀取當(dāng)前選擇工藝文件按鈕；4.點(diǎn)擊可打開當(dāng)前所選擇的Excel文件；5.晶控復(fù)位按鈕，可以恢復(fù)晶控里一些生產(chǎn)廠家預(yù)設(shè)；6.用于鍍膜過程中出現(xiàn)突發(fā)狀況的暫停，點(diǎn)擊之后可對(duì)設(shè)備做任何操作（如放氣，開門，斷電，重啟），完成之后只需繼續(xù)按鈕，就可以繼續(xù)執(zhí)行暫停時(shí)執(zhí)行的膜層未完成的膜厚；7.鍍膜手自動(dòng)開始選擇按鈕，選擇自動(dòng)時(shí)，則當(dāng)真空點(diǎn)1E-3Pa為綠、鍍膜溫度、滿足時(shí)自動(dòng)開始執(zhí)行當(dāng)前所選擇工藝文件；8工藝開始時(shí)蜂鳴器響2下提示音。11處可以打開深冷控制畫面1.深冷溫控表，溫度設(shè)置和顯示窗口（PV為實(shí)際值，SV為設(shè)定值，上限為最高溫度，下限為最低溫度）；2.深冷預(yù)冷時(shí)間為固定25分鐘，每次開機(jī)（無論手動(dòng)自動(dòng)都需要預(yù)冷），預(yù)冷時(shí)“預(yù)冷中”閃爍，預(yù)冷完成后常綠。3.制冷需滿足RP開啟、“1E+3Pa”條件4.真空室放氣（充大氣）前深冷必須先除霜，除霜時(shí)間3分鐘（自動(dòng)控制時(shí)會(huì)自動(dòng)執(zhí)行除霜）10/13二.正常抽真空流程確認(rèn)壓縮空氣，冷卻水正常后可以開始抽真空；①手動(dòng)方式：冷機(jī)狀態(tài)→開機(jī)械泵RP→開前級(jí)閥HV→開分子泵FP。 磁控濺射真空鍍膜機(jī)具有較高的鍍膜速率，可以大幅提高生產(chǎn)效率。河南頭盔鍍膜機(jī)價(jià)位

真空鍍膜機(jī)的鍍膜效果穩(wěn)定，鍍層均勻。河北磁控濺射真空鍍膜機(jī)制造商

磁控濺射真空鍍膜機(jī)BLL-1660RS型常規(guī)配置；

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600/1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):最高溫度:0到200℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號(hào):12軸公轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)偏壓電源濺射電源:HUTTINGER電源或AE電源深冷系統(tǒng):DW-3全程自動(dòng)控制鍍膜，保障生產(chǎn)產(chǎn)品的一致性，重復(fù)性，穩(wěn)定性。 河北磁控濺射真空鍍膜機(jī)制造商

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