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如圖3所示，所述溫控裝置包括溫控管40，所述溫控管40連接位于外腔體10外的恒溫控制器41。溫控管40的引入口及引出口與外部的恒溫控制器41連接，恒溫控制器41可用于恒溫制冷也可用于恒溫加熱，保證內(nèi)反應腔20中的溫度可以持續(xù)恒定，從而使工藝反應區(qū)域內(nèi)的工藝環(huán)境溫度更穩(wěn)定。經(jīng)過在真空鍍膜設備上的實際應用驗證，該真空腔體對于工藝成膜質(zhì)量及鍍膜均勻性均有十分有效的改善和提升。其中，溫控管40包括加熱管和/或冷卻管。一般情況下，在工藝反應過程中，通常需要升溫以完成相關的工藝反應，因此，溫控管40包括必要的加熱管，而冷卻管可以根據(jù)實際的工藝需要選選擇性地添加即可。例如，若在工藝反應過程中，需要進行快速降溫，此時可以設置冷卻管。所述加熱管非限制性地例如可以為電加熱管、水加熱管或油加熱管。冷卻管例如可以為水冷卻管或油冷卻管。為了增加溫控效果，第二側壁22和第二底板21處均設有溫控管40。其中，所述溫控管40纏繞于所述第二側壁22的外部，且所述溫控管40鋪設于所述第二底板21的底部。除上述纏繞方式外，還可以用埋設的方式鋪設加熱管，例如，所述第二底板21內(nèi)和所述第二側壁22內(nèi)均設有用于穿設溫控管40的通道，所述溫控管40埋設于所述通道內(nèi)。 寶來利多弧離子真空鍍膜設備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細膩有光澤，有需要可以來咨詢！車載監(jiān)控真空鍍膜設備供應商

提升了清理效率。附圖說明圖1為本實用新型結構示意圖。圖2為本實用新型的結構示意俯視圖。圖中：1控制箱、2前罐體、3后罐體、4清理裝置、41通孔、42噴頭、43刮板、44u形架、5驅動裝置、51半圓槽、52半圓板、53轉軸通孔、54減速電機、55防護罩、6泵、7集料盒、71出料口、72外螺管、73收集盒、8清洗箱。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例**是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1、圖2，本實用新型提供一種技術方案：一種磁控濺射真空鍍膜機，包括控制箱1，控制箱1的上表面后側固定安裝后罐體3，后罐體3的前表面鉸接有前罐體2，后罐體3的前表面上側固定安裝有驅動裝置5，驅動裝置5，驅動裝置5的下側安裝有清理裝置4，清理裝置4包括u形架44，u形架44的下端通過軸承轉動安裝在后罐體3的內(nèi)部下側，u形架44的外側固定安裝有刮板43，刮板43的外側與后罐體3、前罐體2的內(nèi)表面緊密貼合，后罐體3和前罐體2的上表面外側均勻開設有通孔41。 上海光學真空鍍膜設備供應商家寶來利真空鍍膜設備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，鈦鋁，有需要可以咨詢！

進一步地，所述第二底板內(nèi)和所述第二側壁內(nèi)均設有用于穿設溫控管的通道，所述溫控管埋設于所述通道內(nèi)。一種真空鍍膜設備，包括機械模塊部件、工藝模塊部件和本實用新型所述的真空反應腔室，所述工藝模塊部件位于所述內(nèi)反應腔內(nèi)，部分所述機械模塊部件位于所述外腔體內(nèi)。本實用新型實施例提供的上述技術方案與現(xiàn)有技術相比具有如下***：本實用新型提供的真空反應腔室，包括用于提供真空環(huán)境的外腔體，以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進行工藝反應的內(nèi)反應腔；并且，內(nèi)反應腔的側壁上設有自動門，工件自外腔體經(jīng)自動門進入內(nèi)反應腔中。其中，外腔室和內(nèi)反應腔為嵌套結構，其內(nèi)反應腔位于外腔室內(nèi)。該結構中，相當于設置了兩個腔室，其中外腔體用于提供真空環(huán)境，而工藝反應則在內(nèi)反應腔中進行。由于采用雙腔室結構，可以將工藝模塊部件設置于內(nèi)反應腔中，而與工藝反應無直接關系的機械模塊部件則被設置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后，位于外腔體中的工件再經(jīng)自動門進入內(nèi)反應腔中進行工藝反應，可以有效避免設備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進入內(nèi)反應腔中。該結構可以避免工藝環(huán)境外的污染源進入工藝反應區(qū)域，避免工藝污染，提供工藝質(zhì)量。由于設置雙腔室，作為工藝反應區(qū)的內(nèi)反應腔相對較小。

對膜層質(zhì)量及均勻性的改善均有很大的幫助。需要說明的是，在本文中，諸如“寶來利真空”和“第二”等之類的關系術語真空鍍膜設備真空鍍膜設備用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設備不真空鍍膜設備包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設備中還存在另外的相同要素。以上所述真空鍍膜設備是本實用新型的具體實施方式，使本領域技術人員能夠理解或實現(xiàn)本實用新型。對這些實施例的多種修改對本領域的技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本實用新型將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所實用新型的原理和新穎特點相一致的真空鍍膜設備寬的范圍。 品質(zhì)真空鍍膜設備，請選丹陽市寶來利真空機電有限公司，有需要可以來咨詢！

避免工藝污染，提供工藝質(zhì)量。由于設置雙腔室，作為工藝反應區(qū)的內(nèi)反應腔20相對較小，因此可以有效減少工藝原料的浪費，降低原料的使用成本，提高原料的利用率。同時，由于工藝反應區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化，進而提高工藝質(zhì)量。需要說明的是，內(nèi)反應腔20位于外腔體10內(nèi)，但內(nèi)反應腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài)，并非完全隔絕，當對外腔體10進行抽真空處理時，內(nèi)反應腔20內(nèi)也同時進行抽真空操作。外腔體10和內(nèi)反應腔20處于相互連通的狀態(tài)，只是在外腔體10內(nèi)劃分出了一個立體空間以進行工藝反應。本實施方式中，參照圖2，所述外腔體10包括寶來利真空底板11和沿所述寶來利真空底板11周向設置的寶來利真空側壁12；所述內(nèi)反應腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設置的第二側壁22；所述寶來利真空底板11與所述第二底板21相互分離設置，所述寶來利真空側壁12與所述第二側壁22相互分離設置；寶來利真空側壁12與蓋設于所述寶來利真空側壁12上的密封蓋板30密閉連接，所述第二側壁22與所述密封蓋板30相互分離設置。該結構中，相當于用第二底板21和第二側壁22在外腔體10中分割出一個更小的空間。 品質(zhì)真空鍍膜設備工藝成熟，請選丹陽市寶來利真空機電有限公司，有需要可以來咨詢考察！浙江風鏡真空鍍膜設備供應商家

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在進一步的實施例中，結合圖1可得，沉降組件包括沉降管51、擠壓管52、氣缸53及水箱55；沉降管51安裝在抽氣管3上；擠壓管52安裝在沉降管51遠離真空泵4的側壁上、且擠壓管52與沉降管51之間連通；水箱55安裝在真空泵4與擠壓管52中間、且水箱55與擠壓管52之間連通；氣缸53安裝在擠壓管52遠離沉降管51一側；擠壓管52內(nèi)設有活塞54；氣缸53的伸縮軸穿過擠壓管52并與活塞54連接；通過擠壓活塞54，對擠壓管52內(nèi)的水擠壓，使其噴出到沉降管51中，沉降粉塵。在進一步的實施例中，結合圖1和圖3可得，沉降管51遠離擠壓管52一側設有出水口；出水口上設有塞蓋511；擠壓管52靠近沉降管51處設有第二過濾網(wǎng)521；當沉降管51內(nèi)水過多時，打開塞蓋511排出廢水及粉塵，第二過濾網(wǎng)521用于防止粉塵進行擠壓管52中污染水源。在進一步的實施例中，結合圖2所示，頂蓋22側壁設有寶來利真空凸塊221；第二連接套2內(nèi)側壁靠近頂蓋22處設有寶來利真空凹槽21；寶來利真空凸塊221嵌于寶來利真空凹槽21中；頂蓋22遠離鍍膜機1一側與寶來利真空凹槽21靠近抽氣管3一側通過彈簧連接；寶來利真空凸塊221與寶來利真空凹槽21配合用于對頂蓋22的移動方向進行限位，保證其準確的蓋在出氣管11口上。在進一步的實施例中。 車載監(jiān)控真空鍍膜設備供應商