江蘇手機(jī)殼真空鍍膜設(shè)備設(shè)備廠家

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-07-17

進(jìn)一步地,所述第二底板內(nèi)和所述第二側(cè)壁內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管的通道,所述溫控管埋設(shè)于所述通道內(nèi)。一種真空鍍膜設(shè)備,包括機(jī)械模塊部件、工藝模塊部件和本實(shí)用新型所述的真空反應(yīng)腔室,所述工藝模塊部件位于所述內(nèi)反應(yīng)腔內(nèi),部分所述機(jī)械模塊部件位于所述外腔體內(nèi)。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下***:本實(shí)用新型提供的真空反應(yīng)腔室,包括用于提供真空環(huán)境的外腔體,以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔;并且,內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門,工件自外腔體經(jīng)自動(dòng)門進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。其中,外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔為嵌套結(jié)構(gòu),其內(nèi)反應(yīng)腔位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中,相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室,其中外腔體用于提供真空環(huán)境,而工藝反應(yīng)則在內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu),可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔中,而與工藝反應(yīng)無直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后,位于外腔體中的工件再經(jīng)自動(dòng)門進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中進(jìn)行工藝反應(yīng),可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域,避免工藝污染,提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室,作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔相對(duì)較小。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,高爾夫球具鍍膜,有需要可以咨詢!江蘇手機(jī)殼真空鍍膜設(shè)備設(shè)備廠家

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真空鍍膜設(shè)備在操作過程中,膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當(dāng)、磁場設(shè)計(jì)不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內(nèi)容如下:距離問題:靶材與待鍍基片之間的距離若未優(yōu)化,會(huì)影響濺射的均勻性。磁場設(shè)計(jì)問題:磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場的設(shè)計(jì),如果磁場分布和強(qiáng)度不均,則會(huì)導(dǎo)致膜層均勻度不佳。氣體引入問題:如乙炔在反應(yīng)濺射過程中引入不均,也會(huì)導(dǎo)致沉積膜層的質(zhì)量在基片上存在差異。為了解決這些問題,可以考慮以下方案:調(diào)整靶材與基片間的距離:確保兩者間距離適宜,以便改善濺射的均勻性。優(yōu)化磁場設(shè)計(jì):通過改善和優(yōu)化磁場的分布及強(qiáng)度,提高靶材表面離子轟擊的均勻性,進(jìn)而提升膜層均勻度。旋轉(zhuǎn)基片或靶材:在濺射過程中,改變它們的相對(duì)位置和角度,使得材料能夠更均勻地分布在基片上。防指紋真空鍍膜設(shè)備推薦貨源品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備,請(qǐng)選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司,有需要可以電話聯(lián)系我!

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真空鍍膜機(jī)在操作過程中常見的膜層不均勻問題可能有以下幾個(gè)可能的原因:沉積速率不均勻:沉積速率不均勻可能是由于鍍液中的成分不均勻、電場分布不均勻或鍍液流動(dòng)不良等原因引起的。這會(huì)導(dǎo)致膜層厚度不一致,出現(xiàn)明顯的不均勻現(xiàn)象?;谋砻娌黄秸喝绻谋砻娲嬖诎纪共黄健⒀趸锘蛭廴疚锏?,會(huì)導(dǎo)致真空鍍膜機(jī)在沉積膜層時(shí)難以實(shí)現(xiàn)均勻的覆蓋,從而導(dǎo)致膜層厚度不均勻。電解液濃度變化:真空鍍膜機(jī)長時(shí)間運(yùn)行后,電解液中的成分可能會(huì)發(fā)生變化,導(dǎo)致濃度不均勻,進(jìn)而影響到沉積速率和膜層厚度的均勻性。寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,鎳鉻,有需要可以咨詢!

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