寧波標準納米硅磨石地坪材料區(qū)別

來源: 發(fā)布時間:2023-02-12

    納米硅材料一般認為,當硅材料的尺寸在1nm至數(shù)十納米時,可以被稱為“納米硅”材料,包括硅納米顆粒(SiQuantumDots)、硅納米線(SiNanowire)、硅納米管(SiNanotube)和硅納米帶(SiNanobelt)等。納米硅是當前國際上硅材料研究的一個熱點,由于其優(yōu)異的光電特性、無毒性,以及和現(xiàn)有硅集成電路工藝良好的兼容性,未來納米硅可以應用在集成電路、生物成像、鋰離子電池、太陽能光伏、發(fā)光器件、探測器等領域。不同結構的硅納米材料,其制備方法、性質(zhì)和應用都不相同。(1)硅納米顆粒:又稱硅量子點。硅納米顆粒是主要的納米硅結構之一,它有兩種存在形式,一種是存在的硅納米顆粒,另一種是鑲嵌在介質(zhì)(如氧化硅或氮化硅等)中的納米硅顆粒。當硅納米顆粒尺寸進一步變小,小于激子波爾(Bohr)半徑,由于量子限域(QuantumConfinemet)效應、表面效應和多激子效應等原因,硅納米顆粒呈現(xiàn)出更多與體材料不同的性質(zhì)。例如,由于量子限域效應,硅納米顆粒中的載流子的運動會受到限制,隨著其尺寸的減小,其能隙(EnergyGap)變寬。 杭州標準納米硅磨石地坪材料區(qū)別?寧波標準納米硅磨石地坪材料區(qū)別

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    近些年來,將高純度納米晶硅制備成硅電子漿料涂覆在太陽能電池基板表面,進一步提高硅太陽能電池的轉化效率成為太陽能工業(yè)中的一個重要方向。大規(guī)模、高效地生產(chǎn)高純度的納米硅粉成為提高太陽能電池轉化效率、生產(chǎn)高效太陽能電池的關鍵環(huán)節(jié)。納米硅粉的制備技術備受關注,按制備納米硅粉所需原料的不同進行分類,可將其分為以硅烷(SiH4)、二氧化硅(SiO2)、多晶硅(Si)和四氯化硅及其衍生物(SiCl4、SiHCl3等)為原料的4大類。01以硅烷為反應原料進行納米硅粉生產(chǎn)的技術主要有等離子增強化學氣相沉積法(PECVD)、激光誘導化學氣相沉積法(LICVD)和流化床法(FBR)等。其中PECVD和LICVD是目前生產(chǎn)納米硅粉主要的工業(yè)生產(chǎn)技術。 寧波什么是納米硅磨石地坪報價行情品牌納米硅磨石地坪供應商家。

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零維納米硅材料納米級的硅顆粒對于解決硅基負極體積膨脹有一定效果,納米硅顆粒具有更高的比表面積,而且表面原子也具有更高的平均結合能,所以在體積膨脹過程中能更好地釋放應力,避免自身結構的坍塌。此外,微小的納米硅顆粒材料還能夠縮短鋰離子擴散時間,提高電化學反應速率,增加電極的有效反應面積:一維納米硅材料一維納米硅材料因其高軸徑比,能夠減小硅在循環(huán)過程中的軸向體積膨脹,徑向較小的尺寸可有效避免硅的粉化和縮短Li+的擴散距離,可在高倍率條件下充分釋放容量,展現(xiàn)出良好的電化學性能。[10]一維納米硅材料有硅納米線、硅納米纖維、硅納米管等。

    硅納米管:納米硅管也可以作為納電子器件的結構單元,其載流子遷移率遠高于硅納米線。與硅納米線相比,硅納米管具有更大的比表面積。同時載流子還具有彈道輸運特性,因此在微電子器件、鋰離子負極材料等領域具有很大的應用潛力。由于硅屬于金剛石結構,與碳的層狀結構不同,很難形成管狀結構,因此硅納米管的制備相對比較困難,通常需要借助于模板(Template)技術。常用的模板技術有兩種,一種是利用具有納米孔洞的Al2O3,模板,通過SiH4的熱分解,借助局域化的Au等金屬催化劑,在模板孔洞內(nèi)壁沉積硅材料,去除模板制備成納米硅管;另一種是利用Zn0等納米線作為“軟模板",在制備Zn0納米線后,通過化學合成、物理濺射、化學氣相沉積等工藝,在Zn0納米線表面包裹一層硅材料,通過化學刻蝕成加溫燒蝕等技術,將Zn0納米線模板去除,從而獲得硅納米管。 上海節(jié)能納米硅磨石地坪供應商家。

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在高容量材料方面,由于硅含量較高,其體積膨脹所帶來的后續(xù)循環(huán)穩(wěn)定性問題較大,項目組則是從原材料出發(fā),制備了一種粒徑更小(D50<100nm)的摻雜納米硅作為原材料,并在此基礎上開發(fā)出使表面包覆更加均勻且更加適合于規(guī)模化生產(chǎn)的氣相包覆工藝,提升材料性能。如500mA·h/g的碳包覆納米硅材料,首周效率可達88%,500周后容量保持80%;其中,低容量材料主要通過摻混更多的石墨來緩解應變、抑制反彈,同時結合液相分散工藝和表面包覆軟碳等措施,使材料與當前商業(yè)化的電池體系相容性更高。如400mA·h/g的碳包覆納米硅材料,首周效率可達91%,600周后容量保持80%天津本地納米硅磨石地坪供應商家。杭州標準納米硅磨石地坪設備工程

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    以多晶硅為反應原料制備超細硅粉的技術主要有電弧等離子法和墜落法兩種。研究人員通過電弧等離子法成功制備納米硅粉,其粒度在30nm左右。關于墜落法,研究者將多晶硅在石英坩堝中完全熔化,然后按一定速率將硅液滴落進Ar氣作保護氣的管道中,利用硅液滴的表面能形成球形,并在下落過程中快速冷卻形成硅粉,其粉末粒度為。墜落法的生產(chǎn)效率較低,且硅粉的粒度尺寸較大,不適宜用于大規(guī)模生產(chǎn)超細硅粉。工業(yè)生產(chǎn)多晶硅的主要方法是以SiCl4或SiHCl3為反應原料,俗稱“西門子法”。此法是將SiCl4或SiHCl3、H2、Cl2等反應氣體通入高溫反應器內(nèi)發(fā)生化學氣相沉積從而生成高純多晶硅。相比于以SiH4為原料生產(chǎn)納米硅粉,以SiCl4及其衍生物為原料需要調(diào)節(jié)各種反應氣體的比例,以達到比較好的生產(chǎn)效率。如反應氣體Cl2雖然可起到防止納米硅粉被氧化的作用,但過多的Cl2會降低硅的形核率,導致納米硅的產(chǎn)率下降。因此,合理調(diào)控各反應氣體的比例對生產(chǎn)納米硅粉至關重要。 寧波標準納米硅磨石地坪材料區(qū)別

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