低真空閘閥UMC

微泰，專門用閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。期特點(diǎn)是*使用維修配件工具包易于維護(hù)*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關(guān)*?速度控制器&電磁閥（2Port+N2Port）用不銹鋼管連接（φ6）*應(yīng)用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：4英寸~ 8英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體業(yè)績(jī)。

真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。低真空閘閥UMC

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過(guò)閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程。蝶閥通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力?？梢栽诟哒婵窄h(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值，通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?a href="http://www.sd-js.cn/zdcbsx/4ivboge38o/24394249.html" target="_blank">低真空閘閥Global Foundries高壓閘閥按閥桿螺紋的位置分外螺紋式、內(nèi)螺紋式、法蘭、焊接等。按介質(zhì)的流向分，有直通式、直流式和角式。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)，首先介紹一下起三重保護(hù)的保護(hù)環(huán)機(jī)能，采用鋁質(zhì)材料減少重量，并提高保護(hù)環(huán)的內(nèi)部粗糙度，防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì)，保護(hù)環(huán)逐步收窄，提升流速，防止粉塵黏附。采用三元系O型圈，保證保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定（保證30萬(wàn)次驅(qū)動(dòng)）。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，保證高耐用性和長(zhǎng)壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊，易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的特點(diǎn)是閘門在兩個(gè)階段從垂直到水平方向移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維護(hù)。它的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，包括一個(gè)LM導(dǎo)向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營(yíng)地結(jié)構(gòu)，保證了高耐用性和長(zhǎng)壽命，同時(shí)提供穩(wěn)定和精確的運(yùn)動(dòng)。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng)，并且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長(zhǎng)的使用壽命。此外，即使長(zhǎng)時(shí)間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。微泰，高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，氣動(dòng)多位置閘閥，氣動(dòng)多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position 其特點(diǎn)是1，全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動(dòng)電磁閥進(jìn)行控制；2，所有位置控制都由控制器進(jìn)行操作。1)控制類型-全開：高速閘門全開操作-全閉：高速閘門全閉操作-位置（POS.）控制：將閘門移動(dòng)到設(shè)定的位置值；2)操作時(shí)間-完全打開?完全關(guān)閉：<2秒（取決于速度控制器設(shè)置)-位置（POS。）控制： 0%?100%工作，<MAX18秒（偏差： < ±0.5%）。微泰氣動(dòng)多位置閘閥，氣動(dòng)多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position，有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。真空閘閥由一個(gè)滑動(dòng)門或板組成，可以移動(dòng)以阻止或允許通過(guò)真空閥體，從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。低真空閘閥UMC

閘閥的結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單，一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。低真空閘閥UMC

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰。控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動(dòng)控制操作。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。低真空閘閥UMC