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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-31

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試,X射線(xiàn)的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米,這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡(jiǎn)單較高,那么X射線(xiàn)只能輻射到部分樣品,無(wú)法利用整個(gè)樣品的體積,衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問(wèn)題。所謂掠入射是指使X射線(xiàn)以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線(xiàn)在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說(shuō)明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜??稍跀?shù)秒內(nèi),輕松從先焦點(diǎn)切換到點(diǎn)焦點(diǎn),從而擴(kuò)大應(yīng)用范圍,同事縮短重新匹配的時(shí)間。深圳購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀用戶(hù)體驗(yàn)

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X射線(xiàn)反射率測(cè)定引言X射線(xiàn)反射率(XRR:X-RayReflectivity)是一種表面表征技術(shù),是利用X射線(xiàn)在不同物質(zhì)表面或界面的反射線(xiàn)之間的干涉現(xiàn)象分析薄膜或多層膜結(jié)構(gòu)的工具。通過(guò)分析XRR圖譜(圖1)可以確定各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結(jié)構(gòu)參數(shù)。XRR的特點(diǎn):1無(wú)損檢測(cè)2對(duì)樣品的結(jié)晶狀態(tài)沒(méi)有要求,不論是單晶膜、多晶膜還是非晶膜均可以進(jìn)行測(cè)試3XRR適用于納米薄膜,要求厚度小于500nm4晶面膜,表面粗糙度一般不超過(guò)5nm5多層膜之間要求有密度差湖北購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀什么價(jià)格先進(jìn)的傳感器設(shè)計(jì),包括第二代**性的EIGER:極限尺寸為75 x 75mm2的50萬(wàn)像素,實(shí)現(xiàn)微觀分辨率的宏觀覆蓋。

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D8 DISCOVER特點(diǎn):微焦源IμS

配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線(xiàn)束,非常適合小范圍或小樣品的研究。

1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景

2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無(wú)耗水、使用壽命延長(zhǎng)

3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度

4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。

5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線(xiàn)源,用于產(chǎn)生X射線(xiàn)。

6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線(xiàn)焦斑或點(diǎn)焦斑。

7.專(zhuān)業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線(xiàn)焦斑和點(diǎn)焦斑。

8.微焦斑X射線(xiàn)源(IμS)可提高極小焦斑面積上的X射線(xiàn)通量,而功耗卻很低。

9.TURBOX射線(xiàn)源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線(xiàn)焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線(xiàn)通量。

10.**性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無(wú)出其右的X射線(xiàn)光源亮度。

11.高效TurboX射線(xiàn)源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線(xiàn)焦斑應(yīng)用提供比較高X射線(xiàn)通量,適用于D8DISCOVERPlus。

12.這些X射線(xiàn)源結(jié)合指定使用X射線(xiàn)光學(xué)元件,可高效捕獲X射線(xiàn),并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線(xiàn)束。

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質(zhì)量不論在何種應(yīng)用場(chǎng)合,它都是您的可選的探測(cè)器:高的計(jì)數(shù)率、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率,峰位精度布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM 1976c)整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證,面向未來(lái)的多用途采用了開(kāi)放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí),將用戶(hù)友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致,這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì),布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡(jiǎn)化了D8 ADVANCE的操作,使之適用于多種應(yīng)用和樣品類(lèi)型。為便于用戶(hù)使用,該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù),即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換,且無(wú)需人工干預(yù),是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)在內(nèi)的所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇。無(wú)論面對(duì)何種應(yīng)用,DIFFRAC.DAVINCI都會(huì)指引用戶(hù)選擇較好的儀器配置。

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殘余應(yīng)力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。

使用了2D檢測(cè)器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。

定性相分析:候選材料鑒別(PMI) 為常見(jiàn),這是因?yàn)槠鋵?duì)原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無(wú)法通過(guò)元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。

高通量篩選(HTS):在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,以現(xiàn)實(shí)孔板上不同相的濃度。

非環(huán)境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線(xiàn)并將其與測(cè)量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果。

小角X射線(xiàn)散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,對(duì)EIGER2 R 500K通過(guò)2D模式手機(jī)的NIST SRM 8011 9nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。 X射線(xiàn)反射法、掠入射衍射(GID)、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析。廣東XRD衍射儀銷(xiāo)售廠(chǎng)家

殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線(xiàn)衍射、廣角X射線(xiàn)散射(WAXS)。深圳購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀用戶(hù)體驗(yàn)

藥用滑石粉中石棉的測(cè)定引言滑石粉主要成分是滑石(含水的硅酸鎂)?;塾糜卺t(yī)藥、食品行業(yè)的添加劑。在滑石成礦過(guò)程中,常伴生有其他礦石,如角閃石和蛇紋石等石棉成分。石棉為物質(zhì)。而根據(jù)中國(guó)藥典,藥用滑石粉中,石棉應(yīng)“不得檢出”。在2θ=10.5±0.1°處的XRD特征峰為角閃石特征峰,在2θ=12.1±0.1°和2θ=24.3±0.1°處的XRD特征峰為蛇紋石特征峰。無(wú)論是新手用戶(hù)還是**用戶(hù),都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。深圳購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀用戶(hù)體驗(yàn)

束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家貿(mào)易型的公司。公司業(yè)務(wù)涵蓋布魯克顯微CT1272,布魯克XRD衍射儀D8,布魯克顯微CT2214,布魯克XRD衍射儀D2等,價(jià)格合理,品質(zhì)有保證。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí),遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。在社會(huì)各界的鼎力支持下,持續(xù)創(chuàng)新,不斷鑄造高質(zhì)量服務(wù)體驗(yàn),為客戶(hù)成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持。

標(biāo)簽: 顯微CT XRD衍射儀