杭州礦渣檢測(cè)分析

D8DISCOVER應(yīng)用范圍材料研究殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線衍射、廣角X射線散射（WAXS）XRD可研究材料的結(jié)構(gòu)和物理特性，是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布魯克推出的、用于材料研究的旗艦款XRD儀器。D8DISCOVER配備了技術(shù)超過(guò)的組件，可為您帶來(lái)較好的性能和充分的靈活性，同時(shí)讓研究人員對(duì)材料進(jìn)行細(xì)致入微的表征：定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定微米應(yīng)變和微晶尺寸分析應(yīng)力和織構(gòu)分析粒度和粒度分布測(cè)定使用微米大小的X射線束進(jìn)行局部XRD分析倒易空間掃描UMC樣品臺(tái)通常用于分析大塊樣品、掃描測(cè)量應(yīng)用和涂層分析，也能測(cè)量多個(gè)小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實(shí)驗(yàn)。杭州礦渣檢測(cè)分析

石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點(diǎn)陣參數(shù),石墨化度就愈高。南京量子阱檢測(cè)分析D8測(cè)角儀巨有市場(chǎng)超前地精確度，為布魯克獨(dú)有的準(zhǔn)直保證奠定了基礎(chǔ)。

材料屬性D2PHASER是一款便攜的臺(tái)式XRD儀器，主要用于研究和質(zhì)控。您可以使用TOPAS軟件提供的基本參數(shù)方法研究晶體結(jié)構(gòu)、研究快速可靠的SAXS測(cè)量的納米結(jié)構(gòu)或研究微觀結(jié)構(gòu)（微晶尺寸）。SAXS—分析SBA-15介觀催化劑（PDF）Er-Melilite的晶體結(jié)構(gòu)（PDF）陽(yáng)極焦炭（LC值）分析（PDF）DIFFRAC.DQUANT：對(duì)殘余奧氏體進(jìn)行合規(guī)量化（PDF）布魯克為礦物和采礦業(yè)提供了先進(jìn)的解決方案，旨在以可靠的方式，支持地質(zhì)學(xué)家和礦產(chǎn)勘探者隨時(shí)隨地開(kāi)展礦床發(fā)現(xiàn)和分析工作。

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質(zhì)量不論在何種應(yīng)用場(chǎng)合，它都是您的可選的探測(cè)器：高的計(jì)數(shù)率、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率，峰位精度布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976c）整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證，面向未來(lái)的多用途采用了開(kāi)放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí)，將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì)，布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù)，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換，且無(wú)需人工干預(yù)，是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內(nèi)的所有類型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇。在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同不，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。

藥物制劑生產(chǎn)過(guò)程中除需添加各種輔料外，往往還需要經(jīng)過(guò)溶解、研磨、干燥(溫度)、壓片等工藝過(guò)程，在此過(guò)程中API的晶型有可能發(fā)生改變，進(jìn)而可能影響到藥物的療效。國(guó)內(nèi)外FDA規(guī)定多晶型藥物在研制、生產(chǎn)、貯存過(guò)程中必須保證其晶型的一致性，固體制劑中使用的晶型物質(zhì)應(yīng)該與API晶型一致。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對(duì)藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾，特別是API含量非常少的制劑樣品，檢測(cè)更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一，配合高性能的先進(jìn)檢測(cè)器，為制劑中微量API的晶型檢測(cè)提供了有利工具。使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像，進(jìn)行1D掃描，來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。蘇州組分檢測(cè)分析

卡口安裝式Eulerian托架可支持多種應(yīng)用，如應(yīng)力、織構(gòu)和外延膜分析，包括在非環(huán)境條件下。杭州礦渣檢測(cè)分析

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試，X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡(jiǎn)單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無(wú)法利用整個(gè)樣品的體積，衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問(wèn)題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說(shuō)明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。杭州礦渣檢測(cè)分析