天津扁平形溫度傳感器精度哪家好

    提供這些實施例的目的是使對本發(fā)明的公開內(nèi)容更加透徹。除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。本申請?zhí)峁┮环N溫度傳感器的制備方法，如圖1所示，其步驟包括：步驟s110：在硅片上形成若干溝槽。結(jié)合圖2a所示，獲取一硅晶片20，從硅片20上方垂直向下開設(shè)若干并列的溝槽21形成溝槽陣列。在一實施例中，先在硅片20上形成具有陣列圖案的光刻膠層，再以光刻膠作為掩膜版對硅片20進行刻蝕形成若干溝槽21。在本實施例中，刻蝕可為常規(guī)的干法刻蝕，具體為深度離子刻蝕。干法刻蝕具有更高的刻蝕精度和更好的各向異性性能，其精度可達亞微米級別，通過干法刻蝕，可以得到形態(tài)較好的溝槽，尤其是溝槽尺寸較小時利用干法刻蝕效果更佳?？赏ㄟ^調(diào)節(jié)掩膜板圖案和控制刻蝕參數(shù)得到不同形態(tài)的溝槽，其中，溝槽21的寬度可為～1μm，溝槽21的深度可為1～10μm，相鄰溝槽21之間的間隔可為～1μm。溝槽21的俯視形貌可以為圓形、方形或其他形狀。溫度傳感器是溫度測量儀表的重心部分，品種繁多。天津扁平形溫度傳感器精度哪家好

    凌特）以及TI、MAXIM、NXP等國際品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：汽車、通信、消費電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。本公司一直秉承優(yōu)勢服務(wù)，誠信合作的原則，以現(xiàn)代化管理以及優(yōu)勢的渠道價格、良好的信譽與廣大客戶建立了長期友好的合作關(guān)系，為廣大廠商和市場客戶提供優(yōu)勢的產(chǎn)品服務(wù)。測溫單元形成于空腔上方的氧化硅薄膜后得到的溫度傳感器性能較好。在其中一個實施例中，所述測溫單元包括：金屬層，所述金屬層為金屬鉑層，所述金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)；和第二金屬層，位于所述金屬鉑層外側(cè)兩端。用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。在其中一個實施例中，所述測溫單元包括：多晶硅層，包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條；和第三金屬層，所述第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu)，所述n型多晶硅條和p型多晶硅條通過所述金屬結(jié)構(gòu)串聯(lián)，所述第三金屬層還包括位于所述多晶硅層外側(cè)兩端的第二金屬結(jié)構(gòu)，用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。附圖說明圖為一實施例中溫度傳感器制備方法的方法流程圖；圖a～c為一實施例中溫度傳感器制備方法各步驟對應(yīng)生成的結(jié)構(gòu)剖視圖。圖為一實施例中溫度傳感器側(cè)視圖。江蘇數(shù)字溫度傳感器廠家溫度傳感器對于環(huán)境溫度的測量非常準確，廣泛應(yīng)用于農(nóng)業(yè)、工業(yè)、車間、庫房等領(lǐng)域。

    涉及溫度傳感器領(lǐng)域，特別是涉及一種溫度傳感器制備方法及溫度傳感器。背景技術(shù)：溫度傳感器包括測溫單元和承載該測溫單元的基底。溫度傳感器通常以導(dǎo)熱率低的材料做基底，如在二氧化硅上淀積測溫材料形成溫度傳感器。在工藝制程中，通過氧化硅片以在硅片表面生產(chǎn)一層二氧化硅，其中，二氧化硅的導(dǎo)熱率較低，但是硅的導(dǎo)熱率較高，為避免通過基底下部的硅導(dǎo)熱，通常還需通過深槽刻蝕的方式對氧化硅層背面的硅進行刻蝕，如通過氫氧化鉀的刻蝕液進行濕法刻蝕，也可用深反應(yīng)離子刻蝕(deepreactiveionetching)工藝進行干法刻蝕。無論是濕法刻蝕還是干法刻蝕，其工藝時間都會較長且成本較高。技術(shù)實現(xiàn)要素：基于此，有必要針對傳統(tǒng)技術(shù)中溫度傳感器以二氧化硅為基底時獲取基底的工藝時間較長且成本較高的問題，提出了一種新的溫度傳感器制備方法。一種溫度傳感器制備方法，包括：在硅片形成若干溝槽；熱退火使所述若干溝槽變形后相互連通形成一空腔，且所述硅片在所述空腔上方連接起來，將所述空腔封閉；氧化所述空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜；在所述氧化硅薄膜上形成測溫單元，所述測溫單元用于感測環(huán)境溫度。上述溫度傳感器制備方法，先通過刻蝕在硅片上形成若干溝槽。

    使氧化硅薄膜結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定。步驟s130：在所述氧化硅薄膜上形成測溫單元，所述測溫單元用于感測環(huán)境溫度。在溫度傳感器基作完成后，需要做基底上形成測溫單元，測溫單元是溫度傳感器的工作單元，溫度傳感器通過該測溫單元感知溫度后形成電信號并輸出。在一實施例中，測溫單元為一熱電阻傳感結(jié)構(gòu)，其具體形成過程為：步驟s131：在氧化硅薄膜上淀積一層金屬層，金屬層為金屬鉑層，金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)。參考圖3所示，在氧化硅薄膜23上淀積一層金屬層30，該金屬層30可為金屬鉑層，即熱電阻傳感結(jié)構(gòu)選用鉑熱電阻。在另一實施例中，也可選用其他電阻溫度系數(shù)較高的材料如鎳、鐵等。為減小溫度傳感器的尺寸，在小尺寸的基底上增大鉑熱電阻的接觸面積，將鉑熱電阻做成連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)(如圖4所示)。步驟s132：在所述金屬鉑層外側(cè)兩端各淀積一層第二金屬層，用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。繼續(xù)參見圖3和圖4，在金屬鉑層30外側(cè)兩端淀積一層第二金屬層40，該第二金屬層40可為金屬鋁層，從金屬鋁處引出該溫度傳感器的輸出端子，即溫度傳感器的輸出導(dǎo)線與鋁層連接以通過鋁層與金屬鉑層連接。上述鉑熱電阻傳感器。溫度傳感器哪家服務(wù)好？認準深圳市美信美科技有限公司。

    在所述金屬鉑層外側(cè)兩端各淀積一層第二金屬層，用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。在其中一個實施例中，在所述氧化硅薄膜上形成測溫單元具體為：在所述氧化硅薄膜上淀積一層多晶硅層，所述多晶硅層包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條；在所述多晶硅上淀積第三金屬層，所述第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu)，所述n型多晶硅條和p型多晶硅條通過所述金屬結(jié)構(gòu)串聯(lián)，所述第三金屬層還包括位于所述多晶硅層外側(cè)兩端的第二金屬結(jié)構(gòu)，用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。在其中一個實施例中，所述制備方法還包括：在所述金屬層上形成鈍化層，并在所述鈍化層上對應(yīng)所述溫度傳感器引出輸出端子處設(shè)有通孔。本發(fā)明還公開了一種溫度傳感器，包括：基底，所述基底包括硅片和在所述硅片上形成的氧化硅薄膜，所述硅片與所述氧化硅薄膜之間形成有空腔；和測溫單元，所述測溫單元形成于所述空腔上方的氧化硅薄膜上，所述測溫單元用于感測環(huán)境溫度。上述溫度傳感器，由于其基底中氧化硅薄膜與硅之間形成有空腔，空腔下部的硅不會影響上部氧化硅的隔熱效果，因此無需通過刻蝕工藝將基底下部的硅刻蝕掉，從而縮短產(chǎn)品制備的時間，且節(jié)約了成本。由于基底隔熱效果較好。邁來芯 MLX90614 是一款行業(yè)ling先的遠紅外溫度傳感器，可進行非接觸式溫度測量。太原扁平形溫度傳感器排名

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    步驟s：熱退火使所述若干溝槽變形后相互連通形成一空腔，且所述硅片在空腔上方連接起來，將所述空腔封閉。對開設(shè)有溝槽的硅片進行適當?shù)臒崽幚?，當硅片被加熱到一定溫度時，硅原子的振動能較大，導(dǎo)致原子的移動能加強，硅原子會發(fā)生遷移。由于硅片上開設(shè)有溝槽，且溝槽側(cè)壁的間距較小，當硅原子遷移運動達到一定程度時，硅原子會進入溝槽內(nèi)，硅片內(nèi)部的溝槽會發(fā)生形變，溝槽上部被硅封閉，若干溝槽中間部位相互連通，形成一空腔(如圖b所示)。即空腔處于硅片的中間，空腔的上部和下部均具有硅結(jié)構(gòu)，上下硅結(jié)構(gòu)被空腔隔離開。在一實施例中，熱退火的溫度可為℃。改變溝槽的間距，可以得到不同形態(tài)的空腔，且間距越大，所需的退火溫度就越高，但是退火的持續(xù)時間不超過min。在本實施例中，溝槽陣列中溝槽之間的間距大于內(nèi)部溝槽的間距，如此可以避免在空腔邊緣處形成缺口。同時，熱退火需要在一隔離環(huán)境中進行，如真空環(huán)境或者惰性氣體環(huán)境，保證在熱退火過程中硅不會與環(huán)境中的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。在本實施例中。熱退火在氫氣環(huán)境中進行。步驟s：氧化所述空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜。通過熱氧化工藝氧化空腔上部的硅片以形成氧化硅薄膜(如圖c所示)。在℃～℃的高溫環(huán)境中。天津扁平形溫度傳感器精度哪家好