沈陽計(jì)算機(jī)集成電路封裝

    然后在開口內(nèi)沉積導(dǎo)電材料(例如，銅和/或鋁)，以及隨后的平坦化工藝(例如，化學(xué)機(jī)械平坦化工藝)以形成互連層b。的截面圖所示，可以在存儲(chǔ)單元a,上方形成存儲(chǔ)單元b,。存儲(chǔ)單元b?？梢园üぷ鱩tj器件和調(diào)節(jié)訪問裝置，調(diào)節(jié)訪問裝置具有形成在第三互連層c和第四互連層d之間的調(diào)節(jié)mtj器件和。存儲(chǔ)單元b,可以根據(jù)與關(guān)于圖至圖描述的那些類似的步驟形成。出了形成具有存儲(chǔ)器電路的集成芯片的方法的一些實(shí)施例的流程圖，該存儲(chǔ)器電路包括具有調(diào)節(jié)訪問裝置的存儲(chǔ)單元(例如，mram單元)，該調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問。雖然方法示出和描述為一系列步驟或事件，但是應(yīng)該理解，這些步驟或事件的示出的順序不被解釋為限制意義。例如，一些步驟可以以不同的順序發(fā)生和/或與除了此處示出的和/或描述的一些的其它步驟或事件同時(shí)發(fā)生。此外，可能不是所有示出的步驟對于實(shí)施此處描述的一個(gè)或多個(gè)方面或?qū)嵤├际切枰?，并且此處描述的一個(gè)或多個(gè)步驟可以在一個(gè)或多個(gè)單獨(dú)的步驟和/或階段中實(shí)施。在步驟中，在襯底上方形成互連層?；ミB層可以形成在襯底上方的ild層內(nèi)。出了對應(yīng)于步驟的一些實(shí)施例的截面圖。在步驟中。從集成電路封裝測試企業(yè)業(yè)務(wù)競爭力來看，目前長電科技、華天科技在集成電路封裝行業(yè)的競爭力較強(qiáng)。沈陽計(jì)算機(jī)集成電路封裝

    圖a至圖b示出了具有調(diào)節(jié)訪問裝置的存儲(chǔ)器電路的一些額外實(shí)施例，該調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問。圖a至圖b示出了具有調(diào)節(jié)訪問裝置的存儲(chǔ)器電路的一些額外實(shí)施例，該調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問。圖a至圖b示出了具有調(diào)節(jié)訪問裝置的存儲(chǔ)器電路的一些額外實(shí)施例，該調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問。圖至出了形成具有存儲(chǔ)器電路的集成芯片的方法的一些實(shí)施例，該存儲(chǔ)器電路包括存儲(chǔ)單元，該存儲(chǔ)單元包括被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問的調(diào)節(jié)訪問裝置。出了形成具有存儲(chǔ)器電路的集成芯片的方法的一些實(shí)施例的流程圖，該存儲(chǔ)器電路包括存儲(chǔ)單元，該存儲(chǔ)單元包括被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問的調(diào)節(jié)訪問裝置。具體實(shí)施方式以下公開內(nèi)容提供了許多用于實(shí)現(xiàn)所提供主題的不同特征的不同實(shí)施例或?qū)嵗Ｏ旅婷枋隽私M件和布置的具體實(shí)例以簡化。當(dāng)然，這些是實(shí)例，而不旨在限制。例如，以下描述中，在部件上方或者上形成部件可以包括部件和部件直接接觸形成的實(shí)施例。并且也可以包括在部件和部件之間可以形成額外的部件，從而使得部件和部件可以不直接接觸的實(shí)施例。此外。徐州扁平形集成電路選哪家集成電路是一種將多個(gè)電子元件集成在一起的電路。它是現(xiàn)代電子技術(shù)的重要組成部分。

    多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c可以包括銅、鋁、鎢、碳納米管等。存儲(chǔ)單元a,和存儲(chǔ)單元b,分別包括調(diào)節(jié)訪問裝置和工作mtj器件。調(diào)節(jié)訪問裝置連接至限定多條字線wl至wl的互連層a。多條字線wl至wl中的兩個(gè)連接至圖的存儲(chǔ)器陣列的一行內(nèi)的相應(yīng)存儲(chǔ)單元。例如，字線wl至wl可以連接至行中的存儲(chǔ)單元a,，并且字線wl至wl可以連接至行中的存儲(chǔ)單元b,。在一些實(shí)施例中，多條字線wl至wl可以與襯底分隔開非零距離d。互連層b布置在調(diào)節(jié)訪問裝置和工作mtj器件之間。工作mtj器件進(jìn)一步連接至限定位線bl的第三互連層c。位線bl連接至布置在存儲(chǔ)器陣列的一列內(nèi)的存儲(chǔ)單元內(nèi)的工作mtj器件。例如。位線bl連接至圖的存儲(chǔ)器陣列的列內(nèi)的工作mtj器件。在一些實(shí)施例中，工作mtj器件通過包括多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c并且不延伸穿過襯底的連續(xù)導(dǎo)電路徑連接在位線blz(z＝,)和字線wlx(x＝,)之間。在一些實(shí)施例中，工作mtj器件不位于被配置為控制對工作mtj器件的訪問的存取晶體管器件正上方。在一些實(shí)施例中。調(diào)節(jié)訪問裝置包括調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件。調(diào)節(jié)mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和工作mtj器件分別包括垂直布置在底電極通孔和頂電極通孔之間的mtj。在一些實(shí)施例中，頂電極通孔可以通過通孔(例如。

    偏置電路和字線解碼器可以將電壓施加至偏置電壓線bvly和字線wlx，以設(shè)置存儲(chǔ)器陣列的行內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件的值。隨后，位線解碼器可以施加位線電壓，該位線電壓允許訪問多個(gè)存儲(chǔ)單元a,至c,中的選擇的存儲(chǔ)單元，而不訪問多個(gè)存儲(chǔ)單元a,至c,中的未選擇的存儲(chǔ)單元。例如，為了將數(shù)據(jù)寫入存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件，可以將組偏置電壓施加至字線wl和偏置電壓線bvl。組偏置電壓賦予行內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置低電阻?？梢詫⒔M偏置電壓施加至其它行中的偏置電壓線bvl和字線wl，以賦予其它行內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置高電阻。然后將位線電壓施加至位線bl。存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置的低電阻使得大電流(例如。大于切換電流)流過存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件，同時(shí)存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問裝置的高電阻使得小電流(例如，小于切換電流)流過存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件。圖b示出了對應(yīng)于圖a的存儲(chǔ)器電路的集成電路的一些實(shí)施例的截面圖。圖a至圖b示出了包括存儲(chǔ)器電路的集成芯片的一些額外實(shí)施例，該存儲(chǔ)器電路具有被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問的調(diào)節(jié)訪問裝置。圖a示出了具有以行和列布置的多個(gè)存儲(chǔ)單元a,至c,的存儲(chǔ)器電路的一些額外實(shí)施例的示意圖。多個(gè)存儲(chǔ)單元a,至c。純原無拆封的集成電路，只找深圳美信美科技。

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