東莞紅外 溫度傳感器技術(shù)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-11-17

    m需為偶數(shù)。第二金屬結(jié)構(gòu)62淀積于多晶硅層外側(cè)的兩端,以便于引出溫度傳感器的輸出端子。在本實(shí)施例中,第三金屬層60為金屬鋁層。上述熱電偶傳感結(jié)構(gòu),利用兩不同類型的半導(dǎo)體兩端的溫度不同時(shí),會(huì)在半導(dǎo)體內(nèi)部產(chǎn)生溫差電動(dòng)勢(shì),不同類型的半導(dǎo)體其溫差電動(dòng)勢(shì)不同,將兩種半導(dǎo)體兩端連接形成閉合回路時(shí),在回路中有電流產(chǎn)生,半導(dǎo)體兩端的溫差不同時(shí),所產(chǎn)生的電動(dòng)勢(shì)不同。在本方案中,采用n型半導(dǎo)體和p型半導(dǎo)體構(gòu)成塞貝克結(jié)構(gòu)且多個(gè)塞貝克結(jié)構(gòu)串聯(lián),可以增強(qiáng)溫度傳感器的靈敏度。在一實(shí)施例中,可以將溫度傳感器兩輸出端子作為冷端且保持冷端溫度恒定,將串聯(lián)的多晶硅層作為熱端感測(cè)實(shí)際環(huán)境溫度,當(dāng)環(huán)境溫度發(fā)生變化時(shí),冷端和熱端的溫差發(fā)生變化,因此冷端的電勢(shì)會(huì)發(fā)生變化,與顯示儀表連接后,顯示儀表會(huì)顯示熱電偶受當(dāng)前環(huán)境溫度影響得到的電勢(shì)所對(duì)應(yīng)的熱端溫度,即當(dāng)前環(huán)境溫度。因上述熱電偶傳感器中上層有金屬結(jié)構(gòu),對(duì)于直接暴露在空氣中時(shí)容易氧化的金屬層,其上還需形成有一層鈍化層,可對(duì)金屬結(jié)構(gòu)進(jìn)行保護(hù)。同時(shí),需要在對(duì)應(yīng)溫度傳感器引出端子處開(kāi)設(shè)有通孔,通過(guò)通孔可引出輸出端子。在本實(shí)施例中,是在外側(cè)多晶硅端部的金屬鋁上方的鈍化層開(kāi)設(shè)有通孔。深圳美信美溫度傳感器測(cè)試嚴(yán)格過(guò)關(guān)。東莞紅外 溫度傳感器技術(shù)

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    并在鈍化層上對(duì)應(yīng)所述溫度傳感器引出輸出端子處設(shè)有通孔。因上述熱電阻傳感器中上層有金屬結(jié)構(gòu)如金屬鋁和金屬鉑,對(duì)于直接暴露在空氣中時(shí)容易氧化的金屬層,其上還形成一層鈍化層,可對(duì)金屬層進(jìn)行保護(hù)。同時(shí),需要在對(duì)應(yīng)溫度傳感器引出端子處開(kāi)設(shè)通孔,通過(guò)通孔可引出輸出端子。在本實(shí)施例中,是在兩端的金屬鋁上方的鈍化層開(kāi)設(shè)通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設(shè)的氧化硅層和氮化硅層。在一實(shí)施例中,測(cè)溫單元為一熱電偶傳感結(jié)構(gòu),其具體形成過(guò)程為:步驟s:在所述氧化硅薄膜上淀積一層多晶硅層,所述多晶硅層包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條。如圖和圖所示,在氧化硅薄膜上淀積一層多晶硅層,該多晶硅層包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條。n型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅴ族元素形成導(dǎo)電類型為n型的多晶硅,且其內(nèi)部摻雜均勻。p型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅲ族元素形成導(dǎo)電類型為p型的多晶硅,且其內(nèi)部摻雜均勻。n型多晶硅條和p型多晶硅條形狀相同,在本方案中,n型多晶硅條和p型多晶硅條為長(zhǎng)條型,多晶硅條平行設(shè)置,具有相同的間距。步驟s:在多晶硅層上淀積第三金屬層,第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu)。上海小米溫度傳感器選哪家溫度傳感器現(xiàn)貨供應(yīng)商-深圳市美信美科技有限公司。

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    可以將溫度傳感器兩輸出端子作為冷端且保持冷端溫度恒定,將串聯(lián)的多晶硅層作為熱端感測(cè)實(shí)際環(huán)境溫度,當(dāng)環(huán)境溫度發(fā)生變化時(shí),冷端和熱端的溫差發(fā)生變化,因此冷端的電勢(shì)會(huì)發(fā)生變化,與顯示儀表連接后,顯示儀表會(huì)顯示熱電偶受當(dāng)前環(huán)境溫度影響得到的電勢(shì)所對(duì)應(yīng)的熱端溫度,即當(dāng)前環(huán)境溫度。通常,形成測(cè)溫單元還包括鈍化步驟,即,步驟s:在金屬層上形成鈍化層,并在鈍化層上對(duì)應(yīng)溫度傳感器引出輸出端子處設(shè)有通孔。因上述熱電偶傳感器中上層有金屬結(jié)構(gòu)如金屬鋁層,對(duì)于直接暴露在空氣中時(shí)容易氧化的金屬層,其上還形成一層鈍化層,可對(duì)金屬結(jié)構(gòu)進(jìn)行保護(hù)。同時(shí),需要在對(duì)應(yīng)溫度傳感器引出端子處開(kāi)設(shè)通孔,通過(guò)通孔可引出輸出端子。在本實(shí)施例中,是在外側(cè)多晶硅端部的金屬鋁上方的鈍化層開(kāi)設(shè)通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設(shè)的氧化硅層和氮化硅層。上述溫度傳感器制備方法,可以得到氧化硅薄膜,且氧化硅薄膜與硅通過(guò)空腔隔離,空腔下方的硅不會(huì)影響上方氧化硅薄膜的隔離效果,因此無(wú)需通過(guò)深槽刻蝕工藝將多余的硅刻蝕掉,簡(jiǎn)化了制備過(guò)程。節(jié)約制備時(shí)間,節(jié)省了制備成本。由于氧化硅薄膜導(dǎo)熱率低,將測(cè)溫單元制備在氧化硅薄膜上,具有較好的測(cè)溫效果。

    本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ)與屬于的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在的說(shuō)明書中所使用的術(shù)語(yǔ)只是為了描述具體的實(shí)施例的目的,不是旨在于限制。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N溫度傳感器的制備方法,如圖所示,其步驟包括:步驟s:在硅片上形成若干溝槽。結(jié)合圖a所示,獲取一硅晶片,從硅片上方垂直向下開(kāi)設(shè)若干并列的溝槽形成溝槽陣列。在一實(shí)施例中,先在硅片上形成具有陣列圖案的光刻膠層,再以光刻膠作為掩膜版對(duì)硅片進(jìn)行刻蝕形成若干溝槽。在本實(shí)施例中,刻蝕可為常規(guī)的干法刻蝕,具體為深度離子刻蝕。干法刻蝕具有更高的刻蝕精度和更好的各向異性性能,其精度可達(dá)亞微米級(jí)別,通過(guò)干法刻蝕,可以得到形態(tài)較好的溝槽,尤其是溝槽尺寸較小時(shí)利用干法刻蝕效果更佳??赏ㄟ^(guò)調(diào)節(jié)掩膜板圖案和控制刻蝕參數(shù)得到不同形態(tài)的溝槽,其中,溝槽的寬度可為~μm,溝槽的深度可為~μm,相鄰溝槽之間的間隔可為~μm。溝槽的俯視形貌可以為圓形、方形或其他形狀。溝槽的寬度為溝槽側(cè)壁的大距離。如果溝槽為圓形,則溝槽的寬度為其直徑,如果溝槽為正方形,則溝槽的寬度為其對(duì)角的距離。好的溫度傳感器供應(yīng),深圳美信美科技就是牛。

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    測(cè)溫單元形成于空腔上方的氧化硅薄膜后得到的溫度傳感器性能較好。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述測(cè)溫單元包括:金屬層,所述金屬層為金屬鉑層,所述金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu);和第二金屬層,位于所述金屬鉑層外側(cè)兩端,用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述測(cè)溫單元包括:多晶硅層,包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條;和第三金屬層,所述第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu),所述n型多晶硅條和p型多晶硅條通過(guò)所述金屬結(jié)構(gòu)串聯(lián),所述第三金屬層還包括位于所述多晶硅層外側(cè)兩端的第二金屬結(jié)構(gòu),用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。附圖說(shuō)明圖1為一實(shí)施例中溫度傳感器制備方法的方法流程圖;圖2a~2c為一實(shí)施例中溫度傳感器制備方法各步驟對(duì)應(yīng)生成的結(jié)構(gòu)剖視圖。圖3為一實(shí)施例中溫度傳感器側(cè)視圖;圖4為與圖3對(duì)應(yīng)的溫度傳感器俯視圖;圖5為另一實(shí)施例中溫度傳感器側(cè)視圖;圖6為與圖5對(duì)應(yīng)的溫度傳感器俯視圖。具體實(shí)施方式為了便于理解本發(fā)明,下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更的描述。附圖中給出了本發(fā)明的優(yōu)先實(shí)施例。但是,本發(fā)明可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)現(xiàn),并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地。深圳市美信美科技有限公司,只做靠譜的原裝進(jìn)口溫度傳感器。徐州熱電偶溫度傳感器排名

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    即氧化硅薄膜和硅通過(guò)空腔隔開(kāi),基底下部的硅不會(huì)影響上部氧化硅的隔熱效果,因此無(wú)需通過(guò)刻蝕工藝將基底下部的硅刻蝕掉,從而縮短產(chǎn)品制備的時(shí)間,且節(jié)約了成本。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述溝槽的寬度范圍為μm~μm,所述溝槽的深度范圍為μm~μm,所述相鄰溝槽之間的間隔范圍為μm~μm。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述熱退火具體為在氫氣環(huán)境中熱退火,所述熱退火的溫度為℃。在其中一個(gè)實(shí)施例中,在得到所述氧化硅薄膜后還包括在所述氧化硅薄膜上形成氮化硅薄膜或者聚酰亞胺薄膜。在其中一個(gè)實(shí)施例中,在所述氧化硅薄膜上形成測(cè)溫單元具體為:在所述氧化硅薄膜上淀積一層金屬層,所述金屬層為金屬鉑層,所述金屬鉑層呈連續(xù)弓字形結(jié)構(gòu)。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括:一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開(kāi)發(fā)與銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國(guó)際有名品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于:汽車、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。在所述金屬鉑層外側(cè)兩端各淀積一層第二金屬層,用于引出所述溫度傳感器的輸出端子。在其中一個(gè)實(shí)施例中。東莞紅外 溫度傳感器技術(shù)

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