佛山專業(yè)控制集成電路工藝

    字線解碼器被配置為選擇性地將信號施加至連接至存儲器陣列的一條或多條字線wl至wl，并且位線解碼器被配置成選擇性地將信號施加至連接至存儲器陣列的一條或多條位線bl至bl。通過選擇性地將信號施加至一條或多條字線wl至wl和一條或多條位線bl至bl，可以在相互排斥的情況下選擇性地訪問多個工作mtj器件中的不同工作mtj器件。例如，圖a至圖b示出了圖的存儲器電路的寫入操作的一些實施例的示意圖和。示意圖和所示的寫入操作是實施寫入操作的方法的非限制性實例。在其它實施例中，可以可選地使用實施寫入操作的其它方法。圖a至圖b中示出的寫入操作在步驟。圖a所示)期間將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入至存儲器陣列的一行中的一個或多個存儲單元，并且在隨后的步驟(圖b所示)期間將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入至存儲器陣列的該行中的一個或多個存儲單元，以使用兩步工藝將數(shù)據(jù)寫入至存儲器陣列的整個行。應該理解，為了將數(shù)據(jù)寫入mtj器件。提供的通過mtj器件的電流必須大于切換電流(即，臨界切換電流)。不大于切換電流的電流將不會導致電阻狀態(tài)之間的切換，并且因此不會將數(shù)據(jù)寫入存儲器陣列內的mtj器件。在一些實施例中。公開的寫入操作可以在調節(jié)mtj器件(例如，圖中的至)處于高電阻狀態(tài)來實施。極大規(guī)模集成電路：邏輯門10,001~1M個或 晶體管100,001~10M個。佛山專業(yè)控制集成電路工藝

    可在各個實施例中重復參考標號和/或字符。該重復是為了簡單和清楚的目的，并且其本身不指示所討論的各個實施例和/或配置之間的關系。而且，為便于描述，在此可以使用諸如“且，為便于描述，在此可以使用諸如個實施例和和布置的具體實例等空間相對術語，以描述所示的一個元件或部件與另一個(或另一些)原件或部件的關系。除了圖中所示的方位外，空間相對術語旨在包括器件在使用或操作中的不同方位。裝置可以以其它方式定向(旋轉度或在其它方位上)，而本文使用的空間相對描述符可以同樣地做出相應的解釋。磁阻式隨機存取存儲器(mram)單元包括垂直布置在導電電極之間的磁隧道結(mtj)。mtj包括通過隧穿阻擋層與自由層分隔開的固定層。固定層的磁取向是靜態(tài)的(即，固定的)，而自由層的磁取向能夠在相對于固定層的磁取向的平行配置和反平行配置之間切換。平行配置提供低電阻狀態(tài)，低電阻狀態(tài)數(shù)字化地將數(shù)據(jù)存儲為位值(例如，邏輯“”)。反平行配置提供高電阻狀態(tài)，高電阻狀態(tài)數(shù)字化地將數(shù)據(jù)存儲為位值(例如，邏輯“”)。隨著集成芯片的功能增多。對更多的存儲器的需求也增加，從而使得集成芯片設計者和制造商必須增加可用存儲器的量，同時減小集成芯片的尺寸和功耗。長沙扁平形集成電路報價1958年美國德克薩斯儀器公司發(fā)明全球首塊集成電路，這標志著世界從此進入到了集成電路的時代。

    介電結構還圍繞多個導電互連層a至c。在一些實施例中，介電結構可以包括多個堆疊的ild層。在各個實施例中，多個堆疊的ild層可以包括氧化硅、氟摻雜的氧化硅、碳摻雜的氧化硅等的一種或多種。在各個實施例中，多個導電互連層a至c可以包括銅、鋁、鎢、碳納米管等。存儲單元a,和存儲單元b,分別包括調節(jié)訪問裝置和工作mtj器件。調節(jié)訪問裝置連接至限定多條字線wl至wl的互連層a。多條字線wl至wl中的兩個連接至圖的存儲器陣列的一行內的相應存儲單元。例如，字線wl至wl可以連接至行中的存儲單元a,，并且字線wl至wl可以連接至行中的存儲單元b,。在一些實施例中，多條字線wl至wl可以與襯底分隔開非零距離d?；ミB層b布置在調節(jié)訪問裝置和工作mtj器件之間。工作mtj器件進一步連接至限定位線bl的第三互連層c。位線bl連接至布置在存儲器陣列的一列內的存儲單元內的工作mtj器件。例如，位線bl連接至圖的存儲器陣列的列內的工作mtj器件。在一些實施例中，工作mtj器件通過包括多個導電互連層a至c并且不延伸穿過襯底的連續(xù)導電路徑連接在位線blz(z＝,)和字線wlx(x＝,)之間。在一些實施例中，工作mtj器件不位于被配置為控制對工作mtj器件的訪問的存取晶體管器件正上方。在一些實施例中。

    印刷電路板702一般是雙側的，集成電路704安裝在兩側上。熱接口材料706的層熱耦聯(lián)至集成電路704。一種常見的熱接口材料是熱間隙墊。然而，可以使用其他熱接口材料。在所描繪的實施例中，由通過外部鉸鏈720連接的一對側板708a、708b組成的、能夠移除的散熱器與熱接口材料706a、706b的層物理接觸，并且因此熱耦聯(lián)至熱接口材料706a、706b。側板708a、708b可以由鋁制成。然而，可以使用其他材料形成側板708a、708b。能夠移除的一個或多個彈性夾710a、710b可定位于側板708周圍，以將側板708壓靠在熱接口材料706上，以確保合適的熱耦聯(lián)。圖8a和圖8b示出了根據(jù)一個實施例的、特征在于內部鉸鏈的雙列直插式存儲模塊組件。圖8b示出了分解圖，而圖8a示出了裝配圖。雙列直插式存儲模塊組件800包括印刷電路板802，在印刷電路板802上安裝有一個或多個集成電路(一般地在804處示出)。印刷電路板802一般是雙側的，集成電路804安裝在兩側上。熱接口材料806的層熱耦聯(lián)至集成電路804。一種常見的熱接口材料是熱間隙墊。然而，可以使用其他的熱接口材料。在所描繪的實施例中，由通過內部鉸鏈820連接的一對側板808組成的、能夠移除的散熱器與熱接口材料806的層物理接觸。然設計開發(fā)一個復雜集成電路的成本非常高，但是當分散到通常以百萬計的產品上，每個集成電路的成本極小化。

    在互連層的連續(xù)上表面正上方形成多個底電極通孔。出了對應于步驟的一些實施例的截面圖。在步驟中。在多個底電極通孔正上方形成多個mtj器件。多個mtj器件包括工作mtj器件和一個或多個調節(jié)mtj器件。出了對應于步驟的一些實施例的截面圖。在步驟中，在多個mtj器件正上方形成多個頂電極通孔。出了對應于步驟的一些實施例的截面圖。在步驟中，在多個頂電極通孔上方形成具有多個互連結構的互連層。多個互連結構限定位線和一條或多條字線。出了對應于步驟的一些實施例的截面圖。步驟至在襯底上方形成存儲單元。在一些實施例中，可以重復步驟至(如步驟所示)以在存儲單元上方形成存儲單元。出了對應于步驟的一些實施例的截面圖。雖然方法描述了包括具有調節(jié)訪問裝置(包括mtj器件)的存儲單元(例如，mram單元)的方法存儲器電路，但是應該理解，在其它實施例中，調節(jié)裝置可以包括電阻器(例如，薄膜電阻器)。在這樣的實施例中，工作mtj器件可以通過組操作(在步驟中)形成，而包括電阻器的調節(jié)裝置可以通過組單獨的操作(在步驟和步驟之間發(fā)生)形成。例如，在工作mtj的形成(在步驟中)之后，可以通過一個或多個沉積和蝕刻工藝形成電阻器。因此，在一些實施例中。涉及不具有驅動晶體管(即。電路設計的模塊化方法確保了快速采用標準化集成電路代替了設計使用離散晶體管；長沙專業(yè)控制集成電路測試

集成電路是電路（主要包括半導體設備，也包括被動組件等）小型化的方式。佛山專業(yè)控制集成電路工藝

    內的工作mtj器件不受寫入操作的步驟的影響，因為非零偏置電壓v(例如。v)和第四非零偏置電壓v(例如，v)之間的差異使得電流i流過存儲單元a,內的調節(jié)mtj器件。然而，電流i的兩倍小于切換電流isw，因此沒有將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入至存儲單元a,內的工作mtj器件。類似地，連接至字線wl和wl的工作mtj器件也不受寫入操作的步驟的影響。b的示意圖所示，通過將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入存儲器陣列的行中的存儲單元a,內的工作mtj器件來實施寫入操作的步驟。通過將非零偏置電壓v(例如，v)施加至字線wl和wl，將非零偏置電壓v(例如，v)施加至位線bl和bl并且將第三偏置電壓v(例如，v)施加至位線bl來實施寫入操作的步驟。非零偏置電壓v(例如，v)和第三偏置電壓v(例如，v)之間的差異使得電流i流過存儲單元a,內的調節(jié)mtj器件。電流i小于切換電流isw，使得存儲單元a,內的調節(jié)mtj器件的狀態(tài)不變。然而，電流i(其流過存儲單元a,內的工作mtj器件)的兩倍大于切換電流isw，以將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入存儲單元a,內的工作mtj器件。存儲單元a,和第三存儲單元a,內的工作mtj器件不受寫入操作的步驟的影響，因為非零偏置電壓v(例如，v)和非零偏置電壓v。例如，v)之間的差異使得小于切換電流的電流i流過存儲單元a,和第三存儲單元a。佛山專業(yè)控制集成電路工藝