2.PCB的疊層(stackup)和阻抗對于一塊受PCB層數(shù)約束的基板(如4層板)來說,其所有的信號線只能走在TOP和BOTTOM層,中間的兩層,其中一層為GND平面層,而另一層為VDD平面層,Vtt和Vref在VDD平面層布線。而當(dāng)使用6層來走線時,設(shè)計一種拓撲結(jié)構(gòu)變得更加容易,同時由于Power層和GND層的間距變小了,從而提高了電源完整性?;ヂ?lián)通道的另一參數(shù)阻抗,在DDR2的設(shè)計時必須是恒定連續(xù)的,單端走線的阻抗匹配電阻50Ohms必須被用到所有的單端信號上,且做到阻抗匹配,而對于差分信號,100Ohms的終端阻抗匹配電阻必須被用到所有的差分信號終端,比如CLOCK和DQS信號。另外,所有的匹配電阻必須上拉到VTT,且保持50Ohms,ODT的設(shè)置也必須保持在50Ohms。在DDR3的設(shè)計時,單端信號的終端匹配電阻在40和60Ohms之間可選擇的被設(shè)計到ADDR/CMD/CNTRL信號線上,這已經(jīng)被證明有很多的優(yōu)點。而且,上拉到VTT的終端匹配電阻根據(jù)SI仿真的結(jié)果的走線阻抗,電阻值可能需要做出不同的選擇,通常其電阻值在30-70Ohms之間。而差分信號的阻抗匹配電阻始終在100Ohms。借助協(xié)議解碼軟件看DDR的會出現(xiàn)數(shù)據(jù)有那些;信息化DDR測試調(diào)試
DDR測試
測試頭設(shè)計模擬針對測試的設(shè)計(DFT)當(dāng)然收人歡迎,但卻不現(xiàn)實。因為自動測試儀的所需的測試時間與花費正比于內(nèi)存芯片的存儲容量。顯然測試大容量的DDR芯片花費是相當(dāng)可觀的。新型DDR芯片的通用DFT功能一直倍受重視,所以人們不斷試圖集結(jié)能有效控制和觀察的內(nèi)部節(jié)點。DFT技術(shù),如JEDEC提出的采用并行測試模式進行多陣列同時測試。不幸的是由于過于要求芯片電路尺寸,該方案沒有被采納。DDR作為一種商品,必須比較大限度減小芯片尺寸來保持具有競爭力的價位。 DDR測試DDR測試推薦貨源什麼是DDR內(nèi)存?如何測試?
DDR測試
DDRDIMM內(nèi)存條測試處理內(nèi)存條測試儀重要的部分是自動處理機。處理機一般采用鍍金連接器以保證與內(nèi)存條良好的電接觸。在頻率為266MHz時,2英寸長的連接器將會造成測試信號極大衰減。為解決上述難題,一種新型處理機面市了。它采用普通手動測試儀的插槽。測試儀可以模擬手動插入,平穩(wěn)地插入待測內(nèi)存條的插槽;一旦測試完成,內(nèi)存條又可以平穩(wěn)地從插槽中拔出。
克勞德高速數(shù)字信號測試實驗室
地址:深圳市南山區(qū)南頭街道中祥路8號君翔達大廈A棟2樓H區(qū)
對于DDR2和DDR3,時鐘信號是以差分的形式傳輸?shù)?,而在DDR2里,DQS信號是以單端或差分方式通訊取決于其工作的速率,當(dāng)以高度速率工作時則采用差分的方式。顯然,在同樣的長度下,差分線的切換時延是小于單端線的。根據(jù)時序仿真的結(jié)果,時鐘信號和DQS也許需要比相應(yīng)的ADDR/CMD/CNTRL和DATA線長一點。另外,必須確保時鐘線和DQS布在其相關(guān)的ADDR/CMD/CNTRL和DQ線的當(dāng)中。由于DQ和DM在很高的速度下傳輸,所以,需要在每一個字節(jié)里,它們要有嚴格的長度匹配,而且不能有過孔。差分信號對阻抗不連續(xù)的敏感度比較低,所以換層走線是沒多大問題的,在布線時優(yōu)先考慮布時鐘線和DQS。DDR的信號探測技術(shù)方法;
4)將Vref的去耦電容靠近Vref管腳擺放;Vtt的去耦電容擺放在遠的一個SDRAM外端;VDD的去耦電容需要靠近器件擺放。小電容值的去耦電容需要更靠近器件擺放。正確的去耦設(shè)計中,并不是所有的去耦電容都是靠近器件擺放的。所有的去耦電容的管腳都需要扇出后走線,這樣可以減少阻抗,通常,兩端段的扇出走線會垂直于電容布線。5)當(dāng)切換平面層時,盡量做到長度匹配和加入一些地過孔,這些事先應(yīng)該在EDA工具里進行很好的仿真。通常,在時域分析來看,差分線的正負兩根線要做到延時匹配,保證其誤差在+/-2ps,而其它的信號要做到+/-10ps。DDR測試信號問題排查;北京智能化多端口矩陣測試DDR測試
DDR規(guī)范里關(guān)于信號建立保持是的定義;信息化DDR測試調(diào)試
DDR測試
除了DDR以外,近些年隨著智能移動終端的發(fā)展,由DDR技術(shù)演變過來的LPDDR(Low-PowerDDR,低功耗DDR)也發(fā)展很快。LPDDR主要針對功耗敏感的應(yīng)用場景,相對于同一代技術(shù)的DDR來說會采用更低的工作電壓,而更低的工作電壓可以直接減少器件的功耗。比如LPDDR4的工作電壓為1.1V,比標準的DDR4的1.2V工作電壓要低一些,有些廠商還提出了更低功耗的內(nèi)存技術(shù),比如三星公司推出的LPDDR4x技術(shù),更是把外部I/O的電壓降到了0.6V。但是要注意的是,更低的工作電壓對于電源紋波和串?dāng)_噪聲會更敏感,其電路設(shè)計的挑戰(zhàn)性更大。除了降低工作電壓以外,LPDDR還會采用一些額外的技術(shù)來節(jié)省功耗,比如根據(jù)外界溫度自動調(diào)整刷新頻率(DRAM在低溫下需要較少刷新)、部分陣列可以自刷新,以及一些對低功耗的支持。同時,LPDDR的芯片一般體積更小,因此占用的PCB空間更小。 信息化DDR測試調(diào)試