四川廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊貨源充足

IONPUREIP-LXM45Z EDI模塊設(shè)備的進(jìn)水指標(biāo)：

     ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水；

     ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm；

     ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm；

     ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0；      

     ◎溫度： 5～35℃；

      ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）；

     ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm；

     ◎有機(jī)物（ TOC）：<0.5ppm；

      ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm；

      ◎變價(jià)金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。；

      ◎H2S：<0.01ppm；

     ◎二氧化硅：<0.5ppm；

     ◎色度：<5APHA；

     ◎二氧化碳的總量：<10ppm；

     ◎ SDI 15min：<1.0。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保高性價(jià)比的選擇。四川廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊貨源充足

美國西門子（IONPURE）EDI模塊在運(yùn)行過程中，樹脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運(yùn)行過程中，雖然樹脂不斷進(jìn)行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動態(tài)平衡；美國GEEDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國GEEDI模塊內(nèi)的樹脂也就不再需要化學(xué)藥品的再生，  且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了***的保證。

     美國西門子（IONPURE）EDI模塊由陰/陽離子交換膜，混床樹脂，淡/濃水室和陰/陽電極構(gòu)成。

     美國西門子（IONPURE）EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 上海銷售美國IONPURE EDI模塊貨源充足美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保廠家供應(yīng)。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊在運(yùn)行過程中存在一個(gè)平衡狀態(tài),即:進(jìn)離子總數(shù)＝出離子總數(shù),宏觀表現(xiàn)就是３個(gè)工作區(qū)間相對穩(wěn)定,不發(fā)生上下移動。如果模塊的工作條件發(fā)生變化,則需要比較長的時(shí)間來達(dá)到平衡狀態(tài)。

     美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)在運(yùn)行中可調(diào)因素大致有進(jìn)水流量、濃水流量、電壓等。

     進(jìn)水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過模塊的處理范圍,出水水質(zhì)會***變差。所以當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較高時(shí),適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進(jìn)水的流量是必需的。當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較小時(shí),也可以在美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)增加進(jìn)水的流量,以提高產(chǎn)水的效率。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號出售。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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(3)濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

   EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。

(4)硬度的影響。

  如果IONPUREEDI模塊中進(jìn)水的殘存硬度太高，會導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時(shí)會堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。

(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。

  進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。

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