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(1)進水電導率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保廠家直供。四川銷售美國IONPURE EDI模塊貨源充足

美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程：

a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。 四川美國IONPURE EDI模塊貨源充足美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)銷售。

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學再生,可連續(xù)運行,進而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:

美國ionpure IP-LXM30Z模塊的凈水基本過程

  ·連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定

  ·容易實現(xiàn)全自動控制

  ·無須用酸堿再生

  ·不會因再生而停機

  ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施

  ·產(chǎn)水率高(可達95%)

  ·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設(shè)施

  ·占地面積小

  ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿

  ·降低運行及維護成本

  ·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施

  ·安裝簡單、費用低廉

 ·設(shè)備初投資大

美國Ionpure EDI模塊在運行過程中，樹脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運行過程中，雖然樹脂不斷進行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動態(tài)平衡；美國Ionpure EDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國 Ionpure EDI模塊內(nèi)的樹脂也就不再需要化學藥品的再生，   且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了***的保證。

美國Ionpure EDI模塊由陰/陽離子交換膜，混床樹脂，淡/濃水室和陰/陽電極構(gòu)成。

美國Ionpure EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保免費咨詢。

美國IONPURE IP-LXM30ZEDI模塊設(shè)備進水指標要求

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm。

◎電導率：<40μS/cm

◎PH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。

◎溫度： 5～35℃。

◎進水壓力：<4bar（60psi）。

◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。

◎有機物（TOC）：<0.5ppm。

◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。

◎變價金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。

◎H2S：<0.01ppm。

◎二氧化硅：<0.5ppm。

◎色度：<5APHA。

◎二氧化碳的總量：<10ppm

◎ SDI15min：<1.0。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。四川直銷美國IONPURE EDI模塊哪家好

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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