零售美國IONPURE EDI模塊

(1)進水電導率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量經(jīng)得起檢驗。零售美國IONPURE EDI模塊

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點

1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料；

2、美國IonpureIP-LXM45ZEDI模塊膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

3、采用進口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂；

4、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

6、固定螺絲采用國標標準件；

7、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊出廠比較高試壓7bar不漏水；

8、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電阻低、功耗?。?

9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實；

10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。 安徽廠家直供美國IONPURE EDI模塊價格美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保誠信為本。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準備

   1）關(guān)閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉(zhuǎn)換鈕轉(zhuǎn)到“關(guān)閉”位置。

   2）關(guān)閉下列閥門：原水進水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進出口閥。

   3）將清洗水箱和相關(guān)的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線直接連接到清洗水箱上。把原水進水、濃水進水清洗管線連接到EDI系統(tǒng)的原水進水和濃水進水清洗接口上。注意清洗管線必須牢固、緊密，以防止化學藥品的噴濺。

清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保性價比出眾。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應用而設(shè)計的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。膜堆可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運行環(huán)境：應安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進水溫度

45℃(113?F)

名義流量時的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進水條件 零售美國IONPURE EDI模塊

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