四川零售美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)

美國(guó)ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股**的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為**終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

   美國(guó)ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(ＲＯ)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、ＥＤＩ裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。ＥＤＩ裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置完全可以滿足要求。ＥＤＩ裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。四川零售美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)

安全

1)避免接觸氫氧化鈉，過(guò)乙酸，過(guò)氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學(xué)物質(zhì)，過(guò)氧化氫是氧化劑。

2)將整個(gè)管線降壓以避免高壓化學(xué)藥劑噴濺。

3) EDI系統(tǒng)在高電壓下運(yùn)行，在任何維護(hù)工作前，確保整流器不通電并鎖定。

清洗化學(xué)品規(guī)范

  所有化學(xué)品應(yīng)必須達(dá)到推薦使用的等級(jí)或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(jí)(≥99.80%), ACS或USP級(jí)醋酸(CH3COOOH)以及過(guò)氧化氫(H2O2)30%:ACS級(jí),或達(dá)到水系統(tǒng)清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)ACS或技術(shù)級(jí)氫氧化鈉(NaOH):球狀, NF, ACS或凈化級(jí); 或50%w/w 溶液。 進(jìn)口美國(guó)IONPURE EDI模塊美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。

IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色：

采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封，確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏；

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無(wú)需使用化學(xué)藥劑；

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，不似批處理設(shè)備呈周期變化；

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹(shù)脂罐；

具有優(yōu)良的電絕緣性能；

在7bar（100psi）、45℃（113oF）條件下，可以連續(xù)運(yùn)行；

采用專利注冊(cè)的“全填充”技術(shù)，不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。

美國(guó)ionpure edi模塊的進(jìn)水指標(biāo)要求： ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水 ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。 ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm。 ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，edi比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。 ◎溫度：5～35℃。 ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。 ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。 ◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。 ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。 ◎變價(jià)金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。 ◎H2S：<0.01ppm。 ◎二氧化硅：<0.5ppm。 ◎色度：<5APHA。 ◎二氧化碳的總量：<10ppm。 ◎ SDI 15min：<1.0。美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保貨真價(jià)實(shí)。

西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹(shù)脂的壽命縮短，增加運(yùn)行成本，嚴(yán)重影響生產(chǎn)。

導(dǎo)致西門子EDI模塊故障的主要原因：

  1、西門子EDI模塊長(zhǎng)期在大電流，低于額定流量情況下運(yùn)行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)** 先發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴(yán)重會(huì)碳化漏水。

  2、西門子EDI模塊長(zhǎng)期沒(méi)有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無(wú)法調(diào)節(jié)，電壓上升。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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