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來源: 發(fā)布時間:2022-09-12

清洗 隨著工作時間的累積,需要對美國Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi); - 在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢(例如,硅); - 在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢; - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢; - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒,消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。安徽正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家直供

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化學(xué)物質(zhì)使用 ● 系統(tǒng)不需注入 水循環(huán), 完全毋需使用化學(xué)物質(zhì) ● 在濃縮水層運(yùn)用**分層式樹脂排列技術(shù)來降低膜組電阻值 ● 濃縮水之電導(dǎo)度通常會介于20-100μS/cm 控制難易度 ● 原水流入濃縮水層后直接回收, 毋需使用循環(huán)泵浦 ● 配管極為簡易, *有3支配管(進(jìn)水管, 產(chǎn)品水出水管及濃縮水出水管) ● 無循環(huán)泵浦控制電盤 ● 只需利用電源開關(guān)ON/OFF控制即可, 毋需使用PLC程控 ● 配管及控制簡易, 大幅下降整體設(shè)置及維護(hù)成本 回收率 ● 濃縮水之水質(zhì)優(yōu)于原水許多(電導(dǎo)度通常介于20-100μS/cm) ● 可回收至RO前繼續(xù)使用 其它優(yōu)勢 ● 不需注入鹽水循環(huán), 因此不會在陽極產(chǎn)生任何氯氣(Chlorine)破壞膜塊內(nèi)膜片 ● **膜塊電源控制, 單一膜塊需維護(hù)或故障時不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn) ● 另有高溫**膜塊可供選用 安徽正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家直供美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導(dǎo)安裝。

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(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng),極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴(kuò)散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。

(3) 西門子EDI模塊,濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

     EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂,過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞,造成系統(tǒng)壓差上升,產(chǎn)水量下降。


(4) 西門子EDI模塊,硬度的影響。

     如果西門子EDI模塊中進(jìn)水的殘存硬度太高,會導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢,濃水流量下降,產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì),嚴(yán)重時會堵塞組件濃水和極水流道,導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。


(5) 西門子EDI模塊,TOC(總有機(jī)碳)的影響。

     進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染,導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體,堵塞通道。 購買美國IONPURE EDI模塊選擇上海純超環(huán)保沒錯的。

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離子進(jìn)入濃水室后,由于陽離子無法穿過陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來的時候,其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程,這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室,從頂部出來;淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊,則從模塊底部出來;極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流,只是分別進(jìn)入不同的室(極水室和濃水室),并從模塊頂部排出。


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