上海美國IONPURE EDI模塊貨源充足

美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程：

a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)銷售。上海美國IONPURE EDI模塊貨源充足

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 江蘇零售美國IONPURE EDI模塊貨源充足美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報價。

a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

美國ionpure edi模塊的進水指標要求： ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm。 ◎電導率：<40μS/cm。 ◎PH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，edi比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。 ◎溫度：5～35℃。 ◎進水壓力：<4bar（60psi）。 ◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。 ◎有機物（TOC）：<0.5ppm。 ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。 ◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。 ◎H2S：<0.01ppm。 ◎二氧化硅：<0.5ppm。 ◎色度：<5APHA。 ◎二氧化碳的總量：<10ppm。 ◎ SDI 15min：<1.0。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保貨源充足。

美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流，小流量運行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，**終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護，EDI的膜片和通道滋生有機物，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，**終無法使用。

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清洗

隨著工作時間的累積，需要對美國IonpureEDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：

-硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)；

-在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。

例行的消毒** 好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒,消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 上海美國IONPURE EDI模塊貨源充足

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