江蘇正規(guī)EDI模塊

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-11

美國(guó)IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下:

美國(guó)IONPUREIP-LXM30Z模塊的凈水基本過(guò)程


 ·連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定


 ·容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制


 ·無(wú)須用酸堿再生


 ·不會(huì)因再生而停機(jī)


 ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施


 ·產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)


 ·無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施


 ·占地面積小


 ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿


 ·降低運(yùn)行及維護(hù)成本


 ·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施


 ·安裝簡(jiǎn)單、費(fèi)用低廉


 ·設(shè)備初投資大 EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報(bào)價(jià)。江蘇正規(guī)EDI模塊

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(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。

  進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高,會(huì)造成樹脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染,導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體,堵塞通道。


(6)進(jìn)水中CO2的影響。

  進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì),容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。


(7)總陰離子含量(TEA)的影響。

  高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率,或需要提EDI模塊運(yùn)行電流,而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大,極水余氯濃度增大,對(duì)極膜壽命不利。

  另外,進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響 江蘇正規(guī)EDI模塊EDI模塊上海純超環(huán)保值得推薦。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式




 ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)




 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)




步驟




 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。




 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




 ?步驟 2.




 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)







 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)







 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)




 ?按照說(shuō)明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求)??傮w來(lái)說(shuō),濃水為已用水按1:100的比例稀釋過(guò)。








 ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)




 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)








 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))



IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國(guó)IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。


美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色:

采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封,確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏;

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水,無(wú)需使用化學(xué)藥劑;

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無(wú)波動(dòng),不似批處理設(shè)備呈周期變化;

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐;

具有優(yōu)良的電絕緣性能;

在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續(xù)運(yùn)行;

采用專利注冊(cè)的“全填充”技術(shù),不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。 EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。

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(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。


  在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng),極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。


 工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴(kuò)散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 購(gòu)買EDI模塊上海純超環(huán)保售后服務(wù)。江蘇正規(guī)EDI模塊

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 ·無(wú)須用酸堿再生


 ·不會(huì)因再生而停機(jī)


 ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施


 ·產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)


 ·無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施


 ·占地面積小


 ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿


 ·降低運(yùn)行及維護(hù)成本


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