蘇州啞光陽極氧化體系

陽極氧化技術(shù)經(jīng)過多年發(fā)展，已由一般的防護(hù)、裝飾用途發(fā)展到具有特殊物理化學(xué)性質(zhì)的功能膜；由單鹽著色發(fā)展到混合鹽著色；由單一均勻色發(fā)展到多彩色、多感色等。當(dāng)前氧化鋁膜朝著功能化方向發(fā)展。主要有兩個(gè)方面，一個(gè)是利用它的多孔結(jié)構(gòu)，研制新型的超精密分離染色后的陽極氧化鋁膜；另一個(gè)是通過在其納米級(jí)微孔中沉積各種性質(zhì)不同的物質(zhì)，如金屬半導(dǎo)體、高分子材料等，來制備新型的功能材料。隨著科技和工藝的不斷發(fā)展，未來應(yīng)用在IT產(chǎn)品中的金屬有朝一日將會(huì)成為真正的“絕世神器”。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司致力于提供陽極氧化，有想法可以來我司。蘇州啞光陽極氧化體系

硬質(zhì)陽極氧化：一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對(duì)來說溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對(duì)較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)陽極氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場(chǎng)合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場(chǎng)合。上海附近陽極氧化品質(zhì)昆山顯榮電子工業(yè)有限公司致力于提供陽極氧化，有需要可以聯(lián)系我司哦！

陽極氧化與導(dǎo)電氧化區(qū)別：1、陽極氧化是在通高壓電的情況下進(jìn)行的，它是一種電化學(xué)反應(yīng)過程;而導(dǎo)電氧化(又叫化學(xué)氧化)不需要通電，只需要在水里浸泡就行了，它是一種純化學(xué)反應(yīng)。2、陽極氧化需要的時(shí)間很長(zhǎng)，往往要幾十分鐘，而導(dǎo)電氧化只需要短短的幾十秒。3、陽極氧化生成的膜有幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米，并且堅(jiān)硬耐磨；導(dǎo)電氧化生成的膜0.01—0.15微米，耐磨性不是很好，但是既能導(dǎo)電又耐大氣腐蝕，這就是它的優(yōu)點(diǎn)。4、氧化膜本來都是不導(dǎo)電的，但因?yàn)閷?dǎo)電氧化生成的膜實(shí)在是很薄，所以就是導(dǎo)電的了。

陽極氧化膜的孔隙直徑為0.01-0.03μm，染料的單分子為0.0015-0.003μm，染料向孔內(nèi)擴(kuò)散，與氧化鋁通過氫鍵、離子鍵等結(jié)合使膜層著色，封孔后固定。氧化膜的孔隙可以通過電流密度來控制，控制活化控制孔徑?？刂蒲趸瘯r(shí)間來控制氧化膜的厚度。陽極氧化是一種電解過程，可在鋁表面上沉積化學(xué)穩(wěn)定的氧化物層。所得的氧化膜比鋁的天然氧化物覆蓋層厚且強(qiáng)。它堅(jiān)硬，多孔，透明，是金屬表面不可或缺的一部分，因此不會(huì)剝離或剝落。一旦沉積，可以在密封之前以多種方式對(duì)氧化膜進(jìn)行著色。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司致力于提供陽極氧化，歡迎您的來電！

鋁制品在生活和工業(yè)上應(yīng)用十分普遍，而鋁制品的表面處理工藝也有很多，通常有陽極氧化處理、化學(xué)轉(zhuǎn)化處理、微弧氧化處理、電鍍處理、化學(xué)鍍處理或表面有機(jī)涂裝(噴粉或噴漆)等等。其中應(yīng)用較普遍的工藝是陽極氧化處理，其通過陽極氧化設(shè)備進(jìn)行陽極氧化處理。為何偏偏陽極氧化會(huì)“備受寵愛”呢?鋁及鋁合金的陽極氧化工藝在工業(yè)上有著普遍的應(yīng)用，可以用來防止制品的腐蝕或達(dá)到防護(hù)-裝飾的雙重目的，如用作耐磨層、電絕緣層、噴漆底層和電鍍底層等。運(yùn)用陽極氧化生產(chǎn)線進(jìn)行陽極氧化處理是常用的方式，已經(jīng)為人們所熟知。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司是一家專業(yè)提供陽極氧化的公司。松江高鹽霧陽極氧化品質(zhì)

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陽極氧化在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長(zhǎng)速度升高，氧化時(shí)間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會(huì)因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長(zhǎng)速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低，不再增加。蘇州啞光陽極氧化體系