太倉附近陽極氧化單位

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-17

用陽極氧化設(shè)備進(jìn)行陽極氧化后的鋁或其合金,其硬度和耐磨性可達(dá)250千克/平方毫米~500千克/平方毫米;良好的耐熱性使硬質(zhì)陽極氧化膜的熔點(diǎn)高達(dá)2320℃;而好的絕緣性也使其耐擊穿電壓高達(dá)2000V。如此“百毒不侵”的抗腐蝕能力,能讓鋁在鹽霧中經(jīng)幾千小時(shí)不腐蝕。另外氧化膜中還具有大量的微孔,可吸附各種潤滑劑和美觀艷麗的色彩,例如機(jī)箱的黑化處理。鋁、鋼、鎂、銅及其合金等都可進(jìn)行陽極氧化處理,除IT領(lǐng)域外,這種方法還普遍用于機(jī)械零件、飛機(jī)及汽車零部件、精密儀器及無線電器材、日用品和建筑裝飾等方面。陽極氧化的目的是生產(chǎn)厚的氧化鋁表面層。太倉附近陽極氧化單位

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硬質(zhì)陽極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多,以采用硫酸硬質(zhì)陽極化處理較普遍。采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化法時(shí),應(yīng)考慮影響氧化膜層的各個(gè)因素。(1)硫酸氧化處理的濃度:常采用200-250 g/L,槽液的相對密度(室溫下)為1.12-1.15。(2)水:水是硬質(zhì)陽極氧化處理的主要成分,一般采用蒸餾水或冷開水,而不用自來水,因?yàn)樽詠硭泻新入x子,當(dāng)Cl- >1%時(shí),其制件在氧化過程中就會(huì)腐蝕,并出現(xiàn)白斑。(3)氧化處理的溫度:溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。嚴(yán)格控制溫度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密。(4)電流密度:電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一,它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系。電流密度過低時(shí),氧化膜的生成速度緩慢,處理時(shí)間增加;反之,過高時(shí),會(huì)導(dǎo)致溶液和電極因焦耳效應(yīng)而過熱。使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉。無錫高耐磨陽極氧化企業(yè)鋁的陽極氧化,是在將鋁及其合金的表面上形成厚度為5微米~20微米的保護(hù)膜。

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陽極氧化處理的一般概念:1、陽極氧化膜生成的一般原理,以鋁或鋁合金制品為陽極置于電解質(zhì)溶液中,利用電解作用,使其表面形成氧化鋁薄膜的過程,稱為鋁及鋁合金的陽極氧化處理。其裝置中陰極為在電解溶液中化學(xué)穩(wěn)定性高的材料,如鉛、不銹鋼、鋁等。鋁陽極氧化的原理實(shí)質(zhì)上就是水電解的原理。當(dāng)電流通過時(shí),在陰極上,放出氫氣;在陽極上,析出的氧不僅是分子態(tài)的氧,還包括原子氧(O)和離子氧,通常在反應(yīng)中以分子氧表示。作為陽極的鋁被其上析出的氧所氧化,形成無水的氧化鋁膜,生成的氧并不是全部與鋁作用,一部分以氣態(tài)的形式析出。2、陽極氧化電解溶液的選擇陽極氧化膜生長的一個(gè)先決條件是,電解液對氧化膜應(yīng)有溶解作用。但這并非說在所有存在溶解作用的電解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質(zhì)相同。

氧化膜厚度計(jì)算:陽極氧化生成的氧化膜厚度從理論上可按法拉第第二定律推導(dǎo)的公式進(jìn)行計(jì)算。σ= Kit。式中σ為陽極氧化膜厚度(μm),I為電流密度(A/dm2),t 為氧化時(shí)間(min),K為系數(shù)(當(dāng)氧化鋁密度γ=kg/立方米則K=0.309)。上述公式計(jì)算的前提是以認(rèn)為通過的電量全用于氧化鋁析出,同時(shí)也把氧化鋁及膜的密度視為純凈的氧化鋁密集的值。但實(shí)際情況并非完全如此,為了使K值更切合實(shí)際,應(yīng)將電流效率和在這種工藝條件下所生成膜的密度或孔隙度考慮在內(nèi),即:K = 1.57η/γ式中η為電流效率(電極上實(shí)際析出的物質(zhì)量與又總電量換算出的析出物質(zhì)量之比)。K實(shí)值各國取值大小各異。導(dǎo)電氧化生成的膜**0.01—0.15微米。

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由于陽極氧化所得的膜層本身在大氣中有足夠的穩(wěn)定性,所以可以利用鋁表面上的氧化膜作為防護(hù)層。鋁在鉻酸溶液中進(jìn)行陽極氧化而得到的氧化膜致密、耐蝕性好;從硫酸溶液中得到的氧化膜的孔隙較前者大,不過其膜層較厚,且吸附能力很強(qiáng),若經(jīng)過適當(dāng)?shù)奶畛浞忾]處理,其耐蝕性也是很好的。特別指出的是,鉻酸陽極氧化法特別適用于鉚接件和焊接件的陽極氧化處理。對于大多數(shù)要求進(jìn)行表面精飾的鋁及其合金制品,經(jīng)過化學(xué)或電化學(xué)拋光后,再用硫酸溶液進(jìn)行陽極氧化可以得到透明度較高的氧化膜。這種氧化膜可以吸附很多種有機(jī)染料和無機(jī)染料,從而具有各種鮮艷的色彩。這層彩色膜既是防腐蝕層,又是裝飾層。在一些特殊工藝條件下,還可以獲得外觀與瓷質(zhì)相似的防護(hù)裝飾性的氧化膜。由于陽極氧化所得的膜層本身在大氣中有足夠的穩(wěn)定性,所以可以利用鋁表面上的氧化膜作為防護(hù)層。太倉附近陽極氧化單位

陽極氧化技術(shù)是應(yīng)用很廣且很成功的。太倉附近陽極氧化單位

陽極氧化的氧化膜的孔徑在100nm~200nm之間,氧化膜厚度10微米左右,孔隙率20%左右,孔距300~500nm之間。氧化膜的截面圖表明氧化膜孔基本上是管狀結(jié)構(gòu),氧化膜發(fā)生溶膜反應(yīng)基本上是在孔的底部發(fā)生的。而一般的硫酸直流陽極氧化膜的孔徑是20nm左右,如果是12微米的氧化膜,那是多深的細(xì)管狀結(jié)構(gòu)啊!假設(shè)這是一個(gè)直徑1m的井,那么它的井深將有600m深。氧化膜的絕大部分優(yōu)良特性,如抗蝕、耐磨、吸附、絕緣等性能都是由多孔外層的厚度及孔隙率所決定的,然而這兩者卻與陽極氧化條件密切相關(guān), 因此可通過改變陽極化條件來獲得滿足不同使用要求的膜層。膜厚是陽極氧化制品一個(gè)很主要的性能指針, 其值的大小直接影響著膜層耐蝕、耐磨、絕緣及化學(xué)著色能力。在常規(guī)的陽極氧化過程中, 膜層隨著時(shí)間的增加而增厚。在逹到較大厚度之后, 則隨著處理時(shí)間的延長而逐漸變薄, 有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表現(xiàn)得特別明顯。因此, 氧化的時(shí)間一般控制在逹較大膜厚時(shí)間之內(nèi)。太倉附近陽極氧化單位

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陽極氧化(anodic oxidation),金屬或合金的電化學(xué)氧化。鋁及其合金在相應(yīng)的電解液和特定的工藝條件下,由于外加電流的作用下,在鋁制品(陽極)上形成一層氧化膜的過程。陽極氧化如果沒有特別指明,通常是指硫酸陽極氧化。 為了克服鋁合金表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷,擴(kuò)大應(yīng)用范圍,延長使用壽命,表面處理技術(shù)成為鋁合金使用中不可缺少的一環(huán),而陽極氧化技術(shù)是應(yīng)用**廣且**成功的。