無錫安全四氟化碳優(yōu)化價格

來源: 發(fā)布時間:2022-05-08

    四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常環(huán)境下是相對惰性的,在不通風(fēng)的地方會引起窒息。在射頻等離子體環(huán)境中,氟自由基表現(xiàn)為典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高純度的四氟化碳能很好的控制加工過程,使尺寸和形狀得到更好的控制,這不同于其他的鹵烴遇到空氣或氧氣時不利于各種特殊的控制(如半導(dǎo)體各項異性控制)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子燭刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。無錫安全四氟化碳優(yōu)化價格

一種四氟化碳?xì)怏w濃度檢測校正方法,包括:

通過雙光路檢測系統(tǒng)利用雙波長紅外差分檢測法測量出不同溫度下的四氟化碳?xì)怏w濃度值;

將測量出的所述四氟化碳?xì)怏w濃度值和對應(yīng)的溫度值輸入至RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進行訓(xùn)練;

將對測試樣本測量所得的四氟化碳?xì)怏w濃度值輸入至訓(xùn)練好的所述RBF神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進行測試并開展反演計算,得到校正后的四氟化碳?xì)怏w實際濃度值。

推薦地,在本發(fā)明實施例提供的上述四氟化碳?xì)怏w濃度檢測校正方法中,通過雙光路檢測系統(tǒng)利用雙波長紅外差分檢測法測量出四氟化碳?xì)怏w濃度值,包括:所述紅外光源發(fā)出的紅外光束經(jīng)準(zhǔn)直后進入內(nèi)置有四氟化碳?xì)怏w的所述氣體采樣室;被四氟化碳?xì)怏w吸收特定波長的紅外光束作為測量光;波長不受四氟化碳?xì)怏w影響的紅外光束作為參考光;

在所述測量光經(jīng)所述濾光片透射后,檢測所述測量光的光強;在所述參考光經(jīng)所述第二濾光片透射后,檢測所述參考光的光強;


華東***四氟化碳優(yōu)化價格也要注意使用四氟化碳的注意事項。

    四氟化碳又稱四氟甲烷,被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定,但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w,如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大,有開裂、有危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,可用于硅、二氧化硅,磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面都有著大量的應(yīng)用。

    CF4具有高的穩(wěn)定性,屬于完全不燃性氣體,常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng),900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過渡金屬反應(yīng),1000℃不與碳、氫及CH4反應(yīng)。室溫下可與液氨-金屬鈉試劑反應(yīng),高溫下CF4可與堿金屬、堿土金屬及SiO2反應(yīng),生成相應(yīng)的氟化物。CF4在800℃下開始分解,CF4在電弧作用下可與CO和CO2反應(yīng)生成COF2,有人還試圖在碳弧溫度中使CF4聚合來合成其他碳氟化合物。由于C-F鍵的化學(xué)穩(wěn)定性極強,因此以CF4為表示的全氟烴可認(rèn)為是無毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球變暖勢(GWP)的下限值分別為620、190和53,呈明顯下降趨勢,且遠(yuǎn)小于氯氟烴(CFC)、SF6和CO2。 供氟速率和反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。

 四氟化碳有  制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體泄漏檢驗劑等用途。四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。    可以用聚四氟乙烯,環(huán)氧樹脂和醋酸纖維。尼龍在高溫,有水和空氣時變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。溫室氣體,其造成溫室效應(yīng)的作用是二氧化碳的數(shù)千倍。鎮(zhèn)江***四氟化碳推薦企業(yè)

溫度較低時,四氟化碳與二氧化碳不發(fā)生作用。無錫安全四氟化碳優(yōu)化價格

R-14商品名稱Reflube14。R-14屬于FC類物質(zhì)——對臭氧層沒有破壞、但存在溫室效應(yīng);目前對于R14制冷劑的生產(chǎn)、銷售以及在新制冷設(shè)備上的初裝、售后設(shè)備上的再添加均沒有限制。四氟化碳(四氟甲烷/全氟甲烷)CF4R-14制冷劑,別名R14、氟利昂14、PFC-14,商品名稱有Freon14等,中文名稱四氟化碳、四氟甲烷,英文名稱CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane,化學(xué)式CF4,產(chǎn)品用途R-14作為一款特種**溫制冷劑,主要應(yīng)用于要求溫度非常低的深冷設(shè)備中(包括科研制冷、醫(yī)用制冷等),R14同時也是**溫配合冷媒的重要組分。四氟化碳(四氟甲烷)是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟甲烷高純氣配高純氧氣的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、泄漏檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。無錫安全四氟化碳優(yōu)化價格

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