四氟化碳(CF4)是目前微電子工業(yè)中使用的等離子體蝕刻氣體，廣用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。四氟化碳早就是通過氟碳直接反應(yīng)法制得的，該方法經(jīng)過不斷的發(fā)展與完善，如今己成為工業(yè)上制備全氟烷的主要的方法之一。氟氣與碳反應(yīng)劇烈，反應(yīng)不易控制。因此，人們一直在研究四氟化碳的安全生產(chǎn)工藝。 以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。南京直銷四氟化碳
吸入四氟化碳的后果與濃度有關(guān)，包括頭疼、惡心、頭昏眼花及心血管系統(tǒng)的破壞（主要是心臟）。長時間接觸會導(dǎo)致嚴(yán)重的心臟破壞。四氟化碳的密度比較高，可以塡滿地面空間范圍，在不通風(fēng)的地方會導(dǎo)致窒息。在使用四氟化碳的同時，也要注意使用四氟化碳的注意事項，如在泄漏時，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進(jìn)行隔離，嚴(yán)格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗后再用。華東***四氟化碳價格走勢只有適當(dāng)?shù)臈l件下，四氟化碳才能與氧化劑和還原劑進(jìn)行反應(yīng)。
四氯化碳有什么作用？四氯化碳可以做萃取劑來萃取有機物（極性分子相似相溶）。萃取實驗中萃取出的碘單質(zhì)是紫紅色的，而其他鹵素也會有其他對應(yīng)的顏色，所以四氯化碳有的時候用于鹵素除雜與鑒定；曾用作滅火劑但是由于在一些條件下四氯化碳會產(chǎn)生窒息性的劇毒氣體——光氣;另外它也不能用于撲滅活潑金屬鉀、鈉的失火，因四氯化碳會強烈分解?，F(xiàn)被1211滅火劑替代；可與水置于同一容器防倒吸（利用密度梯度分離，導(dǎo)氣管需伸入下層）。
在使用四氟化碳的同時，也要注意使用四氟化碳的注意事項，如在泄漏時，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進(jìn)行隔離，嚴(yán)格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗后再用。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術(shù)。
四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源，用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常環(huán)境下是相對惰性的，在不通風(fēng)的地方會引起窒息。在射頻等離子體環(huán)境中，氟自由基表現(xiàn)為典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高純度的四氟化碳能很好的控制加工過程，使尺寸和形狀得到更好的控制，這不同于其他的鹵烴遇到空氣或氧氣時不利于各種特殊的控制（如半導(dǎo)體各項異性控制）。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 溫室氣體，其造成溫室效應(yīng)的作用是二氧化碳的數(shù)千倍。***四氟化碳廠家價格
用硅膠除去氣體中的水分，經(jīng)精餾而得成品。南京直銷四氟化碳
CF4具有高的穩(wěn)定性，屬于完全不燃性氣體，常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng)，900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過渡金屬反應(yīng)，1000℃不與碳、氫及CH4反應(yīng)。室溫下可與液氨-金屬鈉試劑反應(yīng)，高溫下CF4可與堿金屬、堿土金屬及SiO2反應(yīng)，生成相應(yīng)的氟化物。CF4在800℃下開始分解，CF4在電弧作用下可與CO和CO2反應(yīng)生成COF2，有人還試圖在碳弧溫度中使CF4聚合來合成其他碳氟化合物。由于C-F鍵的化學(xué)穩(wěn)定性極強，因此以CF4為表示的全氟烴可認(rèn)為是無毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球變暖勢（GWP）的下限值分別為620、190和53，呈明顯下降趨勢，且遠(yuǎn)小于氯氟烴（CFC）、SF6和CO2。 南京直銷四氟化碳