杭州新能源四氟化碳高性價(jià)比的選擇

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-14

四氟化碳又名四氟甲烷。無(wú)色無(wú)臭無(wú)味氣體。分子量88.01。熔點(diǎn)-150℃。沸點(diǎn) -128℃。密度1.96克/立方厘米 (-184℃)。微溶于水。對(duì)熱非常穩(wěn)定。用于致冷劑、溶劑、潤(rùn)滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳具有很高的穩(wěn)定性,屬于完全不燃性氣體,但與可燃性氣體燃燒時(shí),會(huì)分解產(chǎn)生有毒氟化物。常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng),900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過(guò)渡金屬反應(yīng),在碳弧溫度下緩慢分解。1 000℃不與碳、氫及甲烷反應(yīng)。室溫下可與液氨一金屬鈉試劑反應(yīng),高溫下可與堿金屬、堿土金屬及SiO 反應(yīng),生成相應(yīng)的氟化物。四氟化碳是不燃?xì)怏w,如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大,有開(kāi)裂、危險(xiǎn)。杭州新能源四氟化碳高性價(jià)比的選擇

    四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來(lái)源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常環(huán)境下是相對(duì)惰性的,在不通風(fēng)的地方會(huì)引起窒息。在射頻等離子體環(huán)境中,氟自由基表現(xiàn)為典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高純度的四氟化碳能很好的控制加工過(guò)程,使尺寸和形狀得到更好的控制,這不同于其他的鹵烴遇到空氣或氧氣時(shí)不利于各種特殊的控制(如半導(dǎo)體各項(xiàng)異性控制)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子燭刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽(yáng)氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 華東安全四氟化碳廠家價(jià)格R-14制冷劑,別名R14、氟利昂14、PFC-14,商品名稱(chēng)有Freon 14等。

四氟化碳,又稱(chēng)為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳,也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中,需要使用四氟化碳。在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。在蝕刻過(guò)程中,用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉,附有油墨的電路上銅皮得以保留,之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干,等工藝。 由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。

    四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體,用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈、多品種、多規(guī)模,各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展,越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言,CF4以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng),因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?四氟化碳沒(méi)有腐蝕性。

四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,廣用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蝕刻。同時(shí),在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可用于金屬冶煉和塑料等行業(yè)。就目前而言,CF4以其相對(duì)低廉的價(jià)格將會(huì)長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng),因此具有廣的發(fā)展?jié)摿?。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中,需要使用四氟化碳。杭州直銷(xiāo)四氟化碳價(jià)格走勢(shì)

或四氯化碳與氟化銀反應(yīng),或四氯化碳與氟化氫反應(yīng),都能生成四氟化碳。杭州新能源四氟化碳高性價(jià)比的選擇

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽(yáng)能電池的生產(chǎn),鋁合金門(mén)窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時(shí),由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業(yè);如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。

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