TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-11-27

    本實(shí)用新型涉及肖特基二極管技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種溝槽式mos型肖特基二極管。背景技術(shù):肖特基二極管是以其發(fā)明人肖特基博士命名的,肖特基二極管是肖特基勢(shì)壘二極管,其簡(jiǎn)稱(chēng)為sbd,其是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬-半導(dǎo)體結(jié)原理制作的,因此,sbd也稱(chēng)為金屬-半導(dǎo)體(接觸)二極管或表面勢(shì)壘二極管,它是一種熱載流子二極管,然而,現(xiàn)有的肖特基二極管,在焊接到線路板上后,焊接后,肖特基二極管一般是不能和線路板直接接觸,并且造成肖特基二極管處于線路板上端較高位置,由于肖特基二極管的焊腳一般較細(xì),位于高處的肖特基二極管容易造成晃動(dòng),時(shí)間久了,焊腳的焊接位置容易松動(dòng)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種溝槽式mos型肖特基二極管,以解決現(xiàn)有技術(shù)存在的焊接在線路板本體上的二極管本體的穩(wěn)定性的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種溝槽式mos型肖特基二極管,包括線路板本體,以及設(shè)置在線路板本體上的二極管本體和穩(wěn)定桿,所述二極管本體的外壁套設(shè)有半環(huán)套管和第二半環(huán)套管,所述半環(huán)套管和第二半環(huán)套管朝向穩(wěn)定桿的一端設(shè)置有導(dǎo)桿,所述穩(wěn)定桿上設(shè)置導(dǎo)孔,導(dǎo)孔與導(dǎo)桿滑動(dòng)套接,所述導(dǎo)桿上設(shè)置有擋塊。肖特基二極管MBRF20200CT廠家直銷(xiāo)!價(jià)格優(yōu)惠!質(zhì)量保證!交貨快捷!TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT

TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT,肖特基二極管

    由于肖特基勢(shì)壘高度低于PN結(jié)勢(shì)壘高度,故其正向?qū)ㄩT(mén)限電壓和正向壓降都比PN結(jié)二極管低(約低)。肖特基二極管是一種多數(shù)載流子導(dǎo)電器件,不存在少數(shù)載流子壽命和反向恢復(fù)問(wèn)題。穩(wěn)壓二極管,英文名稱(chēng)Zenerdiode,又叫齊納二極管。利用pn結(jié)反向擊穿狀態(tài),其電流可在很大范圍內(nèi)變化而電壓基本不變的現(xiàn)象,制成的起穩(wěn)壓作用的二極管。[1]此二極管是一種直到臨界反向擊穿電壓前都具有很高電阻的半導(dǎo)體器件。在這臨界擊穿點(diǎn)上,反向電阻降低到一個(gè)很小的數(shù)值,在這個(gè)低阻區(qū)中電流增加而電壓則保持恒定,穩(wěn)壓二極管是根據(jù)擊穿電壓來(lái)分檔的,因?yàn)檫@種特性,穩(wěn)壓管主要被作為穩(wěn)壓器或電壓基準(zhǔn)元件使用。穩(wěn)壓二極管可以串聯(lián)起來(lái)以便在較高的電壓上使用,通過(guò)串聯(lián)就可獲得更高的穩(wěn)定電壓。穩(wěn)壓二極管與肖特基二極管的區(qū)別在于:肖特基二極管正向?qū)妷汉艿?,只有,反向在擊穿電壓之前不?huì)導(dǎo)通,起到快速反應(yīng)開(kāi)關(guān)的作用。而穩(wěn)壓二極管正向?qū)妷焊胀ǘ?jí)管一樣約為,反向狀態(tài)下在臨界電壓之前截止,在達(dá)到臨界電壓的條件下會(huì)處于導(dǎo)通的狀態(tài),電壓也不再升高,所以用在重要元器件上,起到穩(wěn)壓作用。湖北肖特基二極管MBR3045PTMBR10100CT是什么類(lèi)型的管子?

TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT,肖特基二極管

    肖特基SBD是肖特基勢(shì)壘二極管(SchottkyBarrierDiode,縮寫(xiě)成SBD)的簡(jiǎn)稱(chēng)。SBD不是利用P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體接觸形成PN結(jié)原理制作的,而是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬-半導(dǎo)體結(jié)原理制作的,因此,SBD也稱(chēng)為金屬-半導(dǎo)體(接觸)二極管或表面勢(shì)壘二極管,它是一種熱載流子二極管。SBD的主要優(yōu)點(diǎn)包括兩個(gè)方面:1)由于肖特基勢(shì)壘高度低于PN結(jié)勢(shì)壘高度,故其正向?qū)ㄩT(mén)限電壓和正向壓降都比PN結(jié)二極管低(約低)。2)由于SBD是一種多數(shù)載流子導(dǎo)電器件,不存在少數(shù)載流子壽命和反向恢復(fù)問(wèn)題。SBD的反向恢復(fù)時(shí)間只是肖特基勢(shì)壘電容的充、放電時(shí)間,完全不同于PN結(jié)二極管的反向恢復(fù)時(shí)間。故開(kāi)關(guān)速度非常快,開(kāi)關(guān)損耗也特別小,尤其適合于高頻應(yīng)用。SBD具有開(kāi)關(guān)頻率高和正向壓降低等優(yōu)點(diǎn),但其反向擊穿電壓比較低,約100V,以致于限制了其應(yīng)用范圍。二、產(chǎn)品介紹1.規(guī)格采用特殊的封裝工藝生產(chǎn)出GR系列共陰肖特基二極管模塊,具有低損耗、超高速、多子導(dǎo)電、大電流、均流效果好等優(yōu)點(diǎn)。特別適合6V~24V高頻電鍍電源,同等通態(tài)條件下比采用快恢復(fù)二極管模塊,底板溫度低14℃以上,節(jié)能9%~13%。

    而是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬-半導(dǎo)體結(jié)原理制作的。因此,SBD也稱(chēng)為金屬-半導(dǎo)體(接觸)二極管或表面勢(shì)壘二極管,它是一種熱載流子二極管。肖特基二極管是貴金屬(金、銀、鋁、鉑等)A為正極,以N型半導(dǎo)體B為負(fù)極,利用二者接觸面上形成的勢(shì)壘具有整流特性而制成的金屬-半導(dǎo)體器件。因?yàn)镹型半導(dǎo)體中存在著大量的電子,貴金屬中有極少量的自由電子,所以電子便從濃度高的B中向濃度低的A中擴(kuò)散。顯然,金屬A中沒(méi)有空穴,也就不存在空穴自A向B的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)。隨著電子不斷從B擴(kuò)散到A,B表面電子濃度逐漸降低,表面電中性被破壞,于是就形成勢(shì)壘,其電場(chǎng)方向?yàn)锽→A。但在該電場(chǎng)作用之下,A中的電子也會(huì)產(chǎn)生從A→B的漂移運(yùn)動(dòng),從而消弱了由于擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)而形成的電場(chǎng)。當(dāng)建立起一定寬度的空間電荷區(qū)后,電場(chǎng)引起的電子漂移運(yùn)動(dòng)和濃度不同引起的電子擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)達(dá)到相對(duì)的平衡,便形成了肖特基勢(shì)壘。肖特基二極管和穩(wěn)壓二極管的區(qū)別肖特基二極管不是利用P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體接觸形成PN結(jié)原理制作的,而是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬-半導(dǎo)體結(jié)原理制作的。因此,SBD也稱(chēng)為金屬-半導(dǎo)體(接觸)二極管或表面勢(shì)壘二極管,它是一種熱載流子二極管。MBRF10150CT是什么類(lèi)型的管子?

TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT,肖特基二極管

    用多級(jí)結(jié)終端擴(kuò)展技術(shù)制作出擊穿電壓高達(dá)KVNi/4H-SiC肖特基二極管,外延的摻雜濃度為×10cm,厚度為115μm,此肖特基二極管利用多級(jí)結(jié)終端擴(kuò)展技術(shù)來(lái)保護(hù)肖特基結(jié)邊緣以防止它提前擊穿。[1]國(guó)內(nèi)的SiC功率器件研究方面因?yàn)槭艿絊iC單晶材料和外延設(shè)備的限制起步比較晚,但是卻緊緊跟蹤國(guó)外碳化硅器件的發(fā)展形勢(shì)。國(guó)家十分重視碳化硅材料及其器件的研究,在國(guó)家的大力支持下經(jīng)已經(jīng)初步形成了研究SiC晶體生長(zhǎng)、SiC器件設(shè)計(jì)和制造的隊(duì)伍。電子科技大學(xué)致力于器件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面,在新結(jié)構(gòu)、器件結(jié)終端和器件擊穿機(jī)理方面做了很多的工作,并且提出寬禁帶半導(dǎo)體器件優(yōu)值理論和寬禁帶半導(dǎo)體功率雙極型晶體管特性理論。[1]34H-SiC結(jié)勢(shì)壘肖特基二極管功率二極管是功率半導(dǎo)體器件的重要組成部分,主要包括PiN二極管,肖特基勢(shì)壘二極管和結(jié)勢(shì)壘控制肖特基二極管。本章主要介紹了肖特基勢(shì)壘的形成及其主要電流輸運(yùn)機(jī)理。并詳細(xì)介紹了肖特基二極管和結(jié)勢(shì)壘控制肖特基二極管的電學(xué)特性及其工作原理,為后兩章對(duì)4H-SiCJBS器件電學(xué)特性的仿真研究奠定了理論基礎(chǔ)。[2]肖特基二極管肖特基二極管是通過(guò)金屬與N型半導(dǎo)體之間形成的接觸勢(shì)壘具有整流特性而制成的一種屬-半導(dǎo)體器件。MBRF2060CT是什么類(lèi)型的管子?TO247封裝的肖特基二極管MBRB30100CT

MBR1045CT是什么類(lèi)型的管子?TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT

    在高溫下能夠穩(wěn)定的工作,它在功率器件領(lǐng)域很有應(yīng)用前景。目前國(guó)際上報(bào)道的幾種結(jié)構(gòu):UMOS、VDMOS、LDMOS、UMOSACCUFET,以及SIAFET等。2008年報(bào)道的雙RESURF結(jié)構(gòu)LDMOS,具有1550V阻斷電壓.[1]碳化硅肖特基二極管2碳化硅肖特基二極管SBD在導(dǎo)通過(guò)程中沒(méi)有額外載流子的注入和儲(chǔ)存,因而反向恢復(fù)電流小,關(guān)斷過(guò)程很快,開(kāi)關(guān)損耗小。傳統(tǒng)的硅肖特基二極管,由于所有金屬與硅的功函數(shù)差都不很大,硅的肖特基勢(shì)壘較低,硅SBD的反向漏電流偏大,阻斷電壓較低,只能用于一二百伏的低電壓場(chǎng)合且不適合在150℃以上工作。然而,碳化硅SBD彌補(bǔ)了硅SBD的不足,許多金屬,例如鎳、金、鈀、鈦、鈷等,都可以與碳化硅形成肖特基勢(shì)壘高度1eV以上的肖特基接觸。據(jù)報(bào)道,Au/4H-SiC接觸的勢(shì)壘高度可達(dá)到eV,Ti/4H-SiC接觸的勢(shì)壘比較低,但也可以達(dá)到eV。6H-SiC與各種金屬接觸之間的肖特基勢(shì)壘高度變化比較寬,低至eV,高可達(dá)eV。于是,SBD成為人們開(kāi)發(fā)碳化硅電力電子器件首先關(guān)注的對(duì)象。它是高壓快速與低功率損耗、耐高溫相結(jié)合的理想器件。目前國(guó)際上相繼研制成功水平較高的多種類(lèi)的碳化硅器件。[1]SiC肖特基勢(shì)壘二極管在1985年問(wèn)世,是Yoshida制作在3C-SiC上的。TO220封裝的肖特基二極管MBR2045CT

常州市國(guó)潤(rùn)電子有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才,集企業(yè)奇思,創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡,一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開(kāi)創(chuàng)新天地,繪畫(huà)新藍(lán)圖,在江蘇省等地區(qū)的電子元器件中始終保持良好的信譽(yù),信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶(hù)不容易,失去每一個(gè)用戶(hù)很簡(jiǎn)單”的理念,市場(chǎng)是企業(yè)的方向,質(zhì)量是企業(yè)的生命,在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下,全體上下,團(tuán)結(jié)一致,共同進(jìn)退,**協(xié)力把各方面工作做得更好,努力開(kāi)創(chuàng)工作的新局面,公司的新高度,未來(lái)和您一起奔向更美好的未來(lái),即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī),也不足以驕傲,過(guò)去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn),才能繼續(xù)上路,讓我們一起點(diǎn)燃新的希望,放飛新的夢(mèng)想!