北京快恢復二極管MUR1640CTR

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   在實際應用時，用到30V時，則trr約為35ns，而用到350V時，trr》35ns，trr還隨著結濕上升而增加，Tj=125℃時的trr,約為25℃時的2倍左右。同時，trr還隨著流過正向峰值電流IFM的増加而增加。IRM和Qrr主要是用來計算FRED的功耗和RC電路，但他們亦隨結溫的升高而増大。125℃結溫時的Qrr是25℃時的約、而125℃結溫時的Qrr是25℃時的近3倍以上。因此，在選用FRED時必須充分慮這些參數(shù)的測試條件、以便作必要的調整。因此，trr短，IRM小和S大的FRED模塊是逆變電路中的二極管，而trr短和Qrr小的FRED，使逆變電路中的開關器件和二極管的損耗減少。FRED150A~1200V的外型尺寸見圖4。圖4FRED的外型尺寸4.快恢復二極管模塊應用隨著電力電子技術向高頻化、模塊化方向發(fā)展，F(xiàn)RED作為一種高頻器件也得到蓬勃發(fā)展，現(xiàn)已用于各種高頻逆變裝置和斬波調速裝置內，起到高頻整流、續(xù)流、吸收、隔離和箝位的作用，這對發(fā)展我國高頻逆變焊機、高頻開關型電鍍電源、高頻高效開關電源、高頻快速充電電源、高頻變頻裝置以及功率因數(shù)校正裝置等將起到推動作用。這些高效、節(jié)能、節(jié)電和節(jié)材。湖南快恢復二極管MUR2040CT快恢復二極管被廣泛應用在電動車充電器上。

管質量的好壞取決于芯片工藝。目前，行業(yè)內使用的二極管芯片工藝主要有兩種：玻璃鈍化（GPP）和酸洗（OJ）。二極管的GPP工藝結構，其芯片P-N結是在鈍化玻璃的保護之下。玻璃是將玻璃粉采用800度左右的燒結熔化，冷卻后形成玻璃層。這玻璃層和芯片熔為一體，無法用機械的方法分開。而二極管的OJ工藝結構，其芯片P-N結是在涂膠的保護之下。采用涂膠保護結，然后在200度左右溫度進行固化，保護P-N結獲得電壓。OJ的保護膠是覆蓋在P-N結的表面。玻璃鈍化（GPP）和酸洗（OJ）特性對比玻璃鈍化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工藝由于結構的不同，當有外力產(chǎn)生時，冷熱沖擊，OJ工藝結構的二極管，由于保護膠和硅片不貼合，會產(chǎn)生漏氣，導致器件出現(xiàn)一定比率的失效。GPP工藝結構的TVS二極管，可靠性很高，在150度的HTRB時，表現(xiàn)仍然很出色；而OJ工藝的產(chǎn)品能夠承受100度左右的HTRB。

行業(yè)內使用的二極管芯片工藝主要有兩種：玻璃鈍化（GPP）和酸洗（OJ）。二極管的GPP工藝結構，其芯片P-N結是在鈍化玻璃的保護之下。玻璃是將玻璃粉采用800度左右的燒結熔化，冷卻后形成玻璃層。這玻璃層和芯片熔為一體，無法用機械的方法分開。而二極管的OJ工藝結構，其芯片P-N結是在涂膠的保護之下。采用涂膠保護結，然后在200度左右溫度進行固化，保護P-N結獲得電壓。OJ的保護膠是覆蓋在P-N結的表面。玻璃鈍化（GPP）和酸洗（OJ）特性對比玻璃鈍化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工藝由于結構的不同，當有外力產(chǎn)生時，冷熱沖擊，OJ工藝結構的二極管，由于保護膠和硅片不貼合，會產(chǎn)生漏氣，導致器件出現(xiàn)一定比率的失效。GPP工藝結構的TVS二極管，可靠性很高，在150度的HTRB時，表現(xiàn)仍然很出色；而OJ工藝的產(chǎn)品能夠承受100度左右的HTRB。MUR1660CT是什么類型的管子？

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封裝技術是功率半導體突破的關鍵！北京快恢復二極管MUR1640CTR

   快恢復二極管的總功率損耗與正向通態(tài)壓降VF，通態(tài)電流IF，反向電壓VR,反向漏電流IR，正向過沖電壓Vfp，反向恢復漏電流峰值Irp。以及反向電流下降時間tb等有關。盡管如此，對于給定的快恢復二極管應用，通態(tài)電流和反向電壓通常應用電路決定的，只要不超過額定使用條件即可。然而在給定的IF和VR條件下的VF，IR，Vrp，Irp和tb等二極管的特性卻是由所使用的快恢復二極管本身的性能決定的。我們能通過算式5清楚地看到，上述任何一個參數(shù)的升高都將導致功率損耗的増加。相反地，如果我們能夠降低其中的某些參數(shù)值，則可以降低功率損耗，在所有的功率損耗中，通態(tài)損耗所占比例，因此降低通態(tài)損耗是降低總功率損耗的主要路徑和方法。而對于通態(tài)損耗來講，正向電流由應用條件和額定決定，為恒定值，占空比也由應用條件決定，由算式1可以清楚地看到降低正向壓降是降低功率損耗的主要途徑。而正向壓降正是快恢復二極管本身的性能能力決定的。所以選擇低功耗二極管主要的要看在同等條件下的正向壓降。壓降越低的，其功耗也越低。北京快恢復二極管MUR1640CTR