高能電子衍射敏RHEED）高能電子衍射是常用的判斷襯底及薄膜樣品單晶程度的方法。高能電子衍射元件發(fā)出電子沿著需要觀察的薄膜晶向掠入射在高能電子衍射屏涂有熒光粉）上形成電子衍射條紋。高能電子衍射元件和屏夾角約180度，連線經(jīng)過中心點。因為薄膜為二維結構，所以其單晶晶格在倒易空間中表現(xiàn)為一系列的倒易棒，高能電子在倒易空間中表現(xiàn)為一個半徑很大的球面。兩者相切，即得到一系列平行的衍射條紋，間距由薄膜的晶格常數(shù)決定。這樣的高能電子衍射條紋，就可以證明樣品的單晶程度是否良好。加熱系統(tǒng)：通常由電加熱器或加熱管組成，用于將內(nèi)部的物質加熱至所需溫度。寧夏真空腔體生產(chǎn)廠家 鋁合金真空腔體主要應用于半導體行業(yè)，尤...

真空腔體進行檢漏工作： 真空腔體檢漏主要有三種：氦質譜檢漏，真空封泥檢測法，真空計檢漏法。 氦質譜檢漏是一項很重要的技能，因檢漏效率高，操作簡單，儀器反應靈敏，精度高，不容易受到其他氣體干擾，在真空腔體檢漏中得到了很多應用。氦質譜檢漏儀是根據(jù)質譜學原理，用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由分析器、離子源、分析器、冷陰極電離規(guī)、收集器組成的質譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣等部分組成。質譜室里的燈絲發(fā)射出來的電子，在室內(nèi)來回地振蕩，并與室內(nèi)氣體和經(jīng)漏孔進人室內(nèi)的氦氣相互碰撞使其電離成正離子，這些氦離子在加速電場作用下進入磁場，在洛倫茲力的作用下偏轉，進而形成了圓弧形軌道，改變加速電壓可使...

真空腔體的使用方法介紹： 1、將反應物倒入襯套內(nèi)，真空腔體并保障加料系數(shù)小于0.8。 2、保障釜體下墊片位置正確（凸起面向下），然后放入襯套和上墊片，先擰緊釜蓋混合設備，然后用螺桿把釜蓋旋扭擰緊為止。 3、將設備置于加熱器內(nèi)，按照規(guī)定的升溫速率升溫至所需反應溫度。（小于規(guī)定的使用溫度）。 4、當確認內(nèi)部溫度低于反應物系種溶劑沸點后方能打開釜蓋進行后續(xù)操作。真空腔體待反應結束將其降溫時，也要嚴格按照規(guī)定的降溫速率操作，以利于設備的使用壽命。 5、確認內(nèi)部溫度低于反應物系種溶劑沸點后，先用螺桿把釜蓋旋扭松開，然后將釜蓋打開。 6、真空腔體每次使用后要及時將其...

真空腔體使用時的常見故障及措施：真空腔體是可以讓物料在真空狀態(tài)下進行相關物化反應的綜合反應工具。具有加熱快、抗高溫、耐腐蝕、環(huán)境污染小、自動加熱等幾大特點，是食品、生物制藥、精細化工等行業(yè)常用的反應設備之一，用來完成硫化、烴化、氫化、縮合、聚合等的工藝反應過程。 真空腔體使用時常見的一些故障及解決辦法如下： 1、容器內(nèi)有溶劑，受飽和蒸汽壓限制。解決辦法：放空溶劑，空瓶試。 2、真空泵能力下降。解決辦法：真空泵換油（水），清洗檢修。 3、真空皮管，接頭松動，真空表具泄漏。解決辦法：沿真空管路逐段檢查、排除。 4、儀器作保壓試驗，在沒有任何溶劑的情況下，關斷所有外...

真空腔是·種用于實驗軍和工業(yè)生產(chǎn)中的重要設備，它的工作原理是利用真空環(huán)境下的特殊物理和化學性質米進行各種實驗和加工。真空腔的主要作用是在無氧、無塵、無水和無氣的環(huán)境下進行實驗和加工，以避免外界環(huán)境對實驗和加工的干擾和影響。 真空腔的工作原理是通過抽取腔體內(nèi)的氣體，使其壓力低于大氣壓，從而形成真空環(huán)境。真空腔通常由一個密的腔體和一個真空泵組成。真空泵通過抽取腔體內(nèi)的氣體，使共壓力逐漸降低，直到達到所需的真空度。真空度是指腔體內(nèi)的氣體分子數(shù)密度，通常用帕斯卡(Pa)或號巴(mbar)表示。 真空腔體烘烤時的真空度變化成果，烘烤選用環(huán)繞加熱帶的方法。廣州半導體真空腔體定制 真空腔體檢修過...

真空腔體的制作工藝介紹：為了減小腔體內(nèi)壁的表面積，通常用噴砂或電解拋光的方式來獲得平坦的表面。超高真空系統(tǒng)的腔體，更多的是利用電解拋光來進行表面處理。 焊接是真空腔體制作中重要的環(huán)節(jié)之一。為避免大氣中熔化的金屬和氧氣發(fā)生化學反應從而影響焊接質量，通常采用氬弧焊來完成焊接。氬弧焊是指在焊接過程中向鎢電極周圍噴射保護氣體氬氣，以防止熔化后的高溫金屬發(fā)生氧化反應。超高真空腔體的氬弧焊接，原則上必須采用內(nèi)焊，即焊接面是在真空一側，以免存在死角而發(fā)生虛漏。 真空腔體的內(nèi)壁外表吸附大量的氣體分子或其他有機物，成為影響真空度的放氣源。湖南鍍膜機腔體定制 真空腔的工作原理基于真空環(huán)境下的特殊物理和...

真空系統(tǒng)是一種非常特殊的系統(tǒng)，其可以通過將系統(tǒng)中的氣體抽出以及添加吸附劑等方式創(chuàng)建真空環(huán)境。這種環(huán)境在各行各業(yè)中都有著普遍的應用，尤其在高科技領域中得到了普遍的使用。暢橋真空小編將會討論真空系統(tǒng)在哪些行業(yè)中被普遍應用，并且為你詳細介紹每一種應用領域。 航空航天領域：在航空航天領域中，真空技術也有著普遍的應用。例如，在太空器的氣氛中使用真空技術，可以消除大氣的阻力，從而增加其速度和高度。在制造飛船的過程中，也需要使用真空技術來實現(xiàn)部分工藝，例如利用真空干燥器在飛船內(nèi)消除水份等。 化學工業(yè)領域：真空技術在化學工業(yè)領域中也具有重要的應用。例如，在高分子材料的制造過程中，我們需要使用真...

在科技飛速發(fā)展的現(xiàn)在，很多科學儀器與設備都需要在一定的真空環(huán)境下工作，真空腔體為敏感的元器件提供真空環(huán)境，保證其正常工作，因此，真空腔體的設計成為了整個真空系統(tǒng)設計非常重要的部分?，F(xiàn)有的高真空度真空腔體設計形狀多種多樣，材料以不銹鋼、鋁合金、鈦合金為主。鋁合金重量輕、加工成本低，但由于其質地較軟無法使用刀口密封方式，只能使用橡膠圈密封的方式;鋁合金材質的真空腔體優(yōu)點是拆裝方便，不足之處是只能使用橡膠圈密封，密封方式單一，鋁合金材質和橡膠圈都有很大的放氣率，溫度適應性差，無法使用熔融焊工藝，因此適用范圍窄。鈦合金重量輕但加工成本高，焊接難度大、焊接方式受限，無法用于方形真空腔體加工。不銹鋼材料出...

實驗室小型不銹鋼真空腔體的功能劃分集中，主要為生長區(qū)，傳樣測量區(qū)，抽氣區(qū)三個部分。對于分子束外延生長腔，重要的參數(shù)是其中心點A的位置，即樣品在生長過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源，高能電子衍射（RHEED），高能電子衍射屏，晶體振蕩器，生長擋板，CCD，生長觀察視窗的法蘭口均對準中心點。 暢橋真空科技(浙江)有限公司是一家專業(yè)從事真空設備的設計制造以及整合服務的提供商。公司經(jīng)過十余年的發(fā)展，積累了大量真空設備設計制造經(jīng)驗以及行業(yè)內(nèi)專業(yè)技術人才。目前主要產(chǎn)品包括非標真空腔體、真空鍍膜腔體、真空大型設備零組件等各類高精度真空設備，產(chǎn)品廣泛應用于航空航天、電子信息、光學產(chǎn)業(yè)、半導體、冶金、醫(yī)藥...

真空腔體的使用條件及操作流程： 1、使用前須了解真空腔體的使用范圍，實際使用不得大于范圍的2/3，并且也不能大于表頭量程的2/3。 2、將內(nèi)襯放入釜之前，需注意攪拌磁子是否已放入，物料總體積不能大于裝置體積的2/3。 3、加料時，物料盡量加到釜底，尤其催化劑應被原料或溶劑覆蓋。 4、加料完畢，擦干凈真空腔體及釜蓋密封面，不能粘附其他雜質，避免密封不緊。 5、蓋上釜蓋，用扭力扳手按對角線方向多次逐步將螺母旋緊，嚴防用力不均，產(chǎn)生偏斜，損傷密封面。 6、上緊釜蓋后，氨氣或反應所用氣體置換釜內(nèi)空氣，一般用10公斤壓力需置換3次。置換時，注意要緩慢充放，避免反應...

真空腔體的使用條件及操作流程： 1、使用前須了解真空腔體的使用范圍，實際使用不得大于范圍的2/3，并且也不能大于表頭量程的2/3。 2、將內(nèi)襯放入釜之前，需注意攪拌磁子是否已放入，物料總體積不能大于裝置體積的2/3。 3、加料時，物料盡量加到釜底，尤其催化劑應被原料或溶劑覆蓋。 4、加料完畢，擦干凈真空腔體及釜蓋密封面，不能粘附其他雜質，避免密封不緊。 5、蓋上釜蓋，用扭力扳手按對角線方向多次逐步將螺母旋緊，嚴防用力不均，產(chǎn)生偏斜，損傷密封面。 6、上緊釜蓋后，氨氣或反應所用氣體置換釜內(nèi)空氣，一般用10公斤壓力需置換3次。置換時，注意要緩慢充放，避免反應...

真空系統(tǒng)是一種非常特殊的系統(tǒng)，其可以通過將系統(tǒng)中的氣體抽出以及添加吸附劑等方式創(chuàng)建真空環(huán)境。這種環(huán)境在各行各業(yè)中都有著普遍的應用，尤其在高科技領域中得到了普遍的使用。暢橋真空小編將會討論真空系統(tǒng)在哪些行業(yè)中被普遍應用，并且為你詳細介紹每一種應用領域。 航空航天領域：在航空航天領域中，真空技術也有著普遍的應用。例如，在太空器的氣氛中使用真空技術，可以消除大氣的阻力，從而增加其速度和高度。在制造飛船的過程中，也需要使用真空技術來實現(xiàn)部分工藝，例如利用真空干燥器在飛船內(nèi)消除水份等。 化學工業(yè)領域：真空技術在化學工業(yè)領域中也具有重要的應用。例如，在高分子材料的制造過程中，我們需要使用真...

不銹鋼真空腔體功能劃分集中，主要為生長區(qū)，傳樣測量區(qū)，抽氣區(qū)三個部分。對于分子束外延生長腔，重要的參數(shù)是其中心點A的位置，即樣品在生長過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源，高能電子衍射（RHEED）元件，高能電子衍射屏，晶體振蕩器，生長擋板，CCD，生長觀察視窗的法蘭口均對準中心點。蒸發(fā)源：由鎢絲加熱盛放生長物質的堆塌，通過熱偶絲測量溫度，堆鍋中的物質被加熱蒸發(fā)出來，在處于不銹鋼真空腔體中心點的襯底上外延形成薄膜。每個蒸發(fā)源都有其各自的蒸發(fā)源擋板控制源的開閉，可以長出多成分或成分連續(xù)變化的薄膜樣品。真空度是指腔體內(nèi)的氣體分子數(shù)密度，通常用帕斯卡(Pa)或號巴(mbar)表示。西安不銹鋼真空腔體制造晶體...

真空腔使用注意事項： 1、真空腔外殼必須有效接地，以確保使用安全。 2、真空腔不需連續(xù)抽氣使用時，應先關閉真空閥，再關閉真空泵電源，否則真空泵油要倒灌至腔內(nèi)。 3、取出被處理物品撕，如處理的是易燃物品，必須待溫度冷卻到低于燃點后，才能放入空氣，以免發(fā)生氧化反應引起燃燒。 4、真空腔無防爆裝置，不得放入易爆物品干燥。 5、真空腔與真空泵之間建議跨過濾器，以防止潮濕體進入真空泵。 6、非必要時，請勿隨意拆開邊門，以免損壞電器系統(tǒng)。 7、本設備應裝適用空氣開關。 8、電氣絕緣完好，設備外殼必須有可靠的保護接地或保護接零。 當真空腔體直徑較大或采用的...

真空腔體幾種表面處理方法： 化學拋光：化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點是不需復雜設備，可以拋光形狀復雜的工件,可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的問題是拋光液的配制?；瘜W拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。 電解拋光：電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。 電化學拋光過程分為兩步：（1）宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。（2）微光平整陽極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。 ...

真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器，真空腔體的制作要考慮容積、材質和形狀。不銹鋼是目前超高真空系統(tǒng)的主要結構材料。其中300系列不銹鋼(表1)是含Cr10%——20%的低碳鋼，具有優(yōu)良的抗腐蝕性、放氣率低、無磁性、焊接性好、導電率和導熱率低、能夠在-270——900℃工作等優(yōu)點，在高真空和超高真空系統(tǒng)中，應用普遍。 近年來，為了降低真空腔體的制作成本，采用鑄造鋁合金來制作腔體也逐漸普及。另外，采用鈦合金來制作特殊用途真空腔體的例子也不少。 為了減小腔體內(nèi)壁的表面積，通常用噴砂或電解拋光的方式來獲得平坦的表面。超高真空系統(tǒng)的腔體，更多的是利用電解拋光來進行表面處理。焊接是真空腔體...

真空腔體一般是指通過真空裝置對反應釜進行抽真空，讓物料在真空狀態(tài)下進行相關物化反應的綜合反應容器，可實現(xiàn)真空進料、真空脫氣、真空濃縮等工藝?？筛鶕?jù)不同的工藝要求進行不同的容器結構設計和參數(shù)配置，實現(xiàn)工藝要求的真空狀態(tài)下加熱、冷卻、蒸發(fā)、以及低高配的混配功能，具有加熱快、抗高溫、耐腐蝕、環(huán)境污染小、自動加熱、使用方便等特點，是食品、生物制藥、精細化工等行業(yè)常用的反應設備之一，用來完成硫化、烴化、氫化、縮合、聚合等的工藝反應過程。 真空腔體的結構特征如下： 1、結構設計需能在真空狀態(tài)下不失穩(wěn)，因為真空狀態(tài)下對鋼材厚度和缺陷要求很嚴格； 2、釜軸的密封采用特殊衛(wèi)生級機械密封設計...

實驗室小型不銹鋼真空腔體的功能劃分集中，主要為生長區(qū)，傳樣測量區(qū)，抽氣區(qū)三個部分。對于分子束外延生長腔，重要的參數(shù)是其中心點A的位置，即樣品在生長過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源，高能電子衍射（RHEED），高能電子衍射屏，晶體振蕩器，生長擋板，CCD，生長觀察視窗的法蘭口均對準中心點。 暢橋真空科技(浙江)有限公司是一家專業(yè)從事真空設備的設計制造以及整合服務的提供商。公司經(jīng)過十余年的發(fā)展，積累了大量真空設備設計制造經(jīng)驗以及行業(yè)內(nèi)專業(yè)技術人才。目前主要產(chǎn)品包括非標真空腔體、真空鍍膜腔體、真空大型設備零組件等各類高精度真空設備，產(chǎn)品廣泛應用于航空航天、電子信息、光學產(chǎn)業(yè)、半導體、冶金、醫(yī)藥...

實驗室小型不銹鋼真空腔體的功能劃分集中，主要為生長區(qū)，傳樣測量區(qū)，抽氣區(qū)三個部分。對于分子束外延生長腔，重要的參數(shù)是其中心點A的位置，即樣品在生長過程中所處的位置。所以蒸發(fā)源，高能電子衍射（RHEED），高能電子衍射屏，晶體振蕩器，生長擋板，CCD，生長觀察視窗的法蘭口均對準中心點。 暢橋真空科技(浙江)有限公司是一家專業(yè)從事真空設備的設計制造以及整合服務的提供商。公司經(jīng)過十余年的發(fā)展，積累了大量真空設備設計制造經(jīng)驗以及行業(yè)內(nèi)專業(yè)技術人才。目前主要產(chǎn)品包括非標真空腔體、真空鍍膜腔體、真空大型設備零組件等各類高精度真空設備，產(chǎn)品廣泛應用于航空航天、電子信息、光學產(chǎn)業(yè)、半導體、冶金、醫(yī)藥...

真空系統(tǒng)是一種非常特殊的系統(tǒng)，其可以通過將系統(tǒng)中的氣體抽出以及添加吸附劑等方式創(chuàng)建真空環(huán)境。這種環(huán)境在各行各業(yè)中都有著普遍的應用，尤其在高科技領域中得到了普遍的使用。暢橋真空小編將會討論真空系統(tǒng)在哪些行業(yè)中被普遍應用，并且為你詳細介紹每一種應用領域。 生物科技領域：在生物科技領域中，真空技術也具有重要的應用。例如，在生物實驗中，我們需要使用真空下對細胞進行處理。在基因工程研究中，真空技術在制造過程中也起到了重要的作用。真空技術使得人們能夠更好地控制細胞中的溫度、壓力、氧氣和濕度，從而提高了實驗成果的可靠性和精度。 醫(yī)療衛(wèi)生領域：在醫(yī)療衛(wèi)生領域中，真空技術也是一項非常重要的技術。...

真空腔體的制作工藝介紹：為了減小腔體內(nèi)壁的表面積，通常用噴砂或電解拋光的方式來獲得平坦的表面。超高真空系統(tǒng)的腔體，更多的是利用電解拋光來進行表面處理。 焊接是真空腔體制作中重要的環(huán)節(jié)之一。為避免大氣中熔化的金屬和氧氣發(fā)生化學反應從而影響焊接質量，通常采用氬弧焊來完成焊接。氬弧焊是指在焊接過程中向鎢電極周圍噴射保護氣體氬氣，以防止熔化后的高溫金屬發(fā)生氧化反應。超高真空腔體的氬弧焊接，原則上必須采用內(nèi)焊，即焊接面是在真空一側，以免存在死角而發(fā)生虛漏。 真空腔體的內(nèi)壁外表吸附大量的氣體分子或其他有機物，成為影響真空度的放氣源。河北非標真空設備腔體生產(chǎn)廠家真空腔體釜體、釜蓋的安裝及密封：釜體...

真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器，真空腔體的制作要考慮容積、材質和形狀。不銹鋼是目前超高真空系統(tǒng)的主要結構材料。其中300系列不銹鋼(表1)是含Cr10%——20%的低碳鋼，具有優(yōu)良的抗腐蝕性、放氣率低、無磁性、焊接性好、導電率和導熱率低、能夠在-270——900℃工作等優(yōu)點，在高真空和超高真空系統(tǒng)中，應用普遍。 近年來，為了降低真空腔體的制作成本，采用鑄造鋁合金來制作腔體也逐漸普及。另外，采用鈦合金來制作特殊用途真空腔體的例子也不少。 為了減小腔體內(nèi)壁的表面積，通常用噴砂或電解拋光的方式來獲得平坦的表面。超高真空系統(tǒng)的腔體，更多的是利用電解拋光來進行表面處理。焊接是真空腔體...

真空腔體幾種表面處理方法： 化學拋光：化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點是不需復雜設備，可以拋光形狀復雜的工件,可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的問題是拋光液的配制。化學拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。 電解拋光：電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。 電化學拋光過程分為兩步：（1）宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。（2）微光平整陽極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。 ...

真空腔使用注意事項： 1、真空腔外殼必須有效接地，以確保使用安全。 2、真空腔不需連續(xù)抽氣使用時，應先關閉真空閥，再關閉真空泵電源，否則真空泵油要倒灌至腔內(nèi)。 3、取出被處理物品撕，如處理的是易燃物品，必須待溫度冷卻到低于燃點后，才能放入空氣，以免發(fā)生氧化反應引起燃燒。 4、真空腔無防爆裝置，不得放入易爆物品干燥。 5、真空腔與真空泵之間建議跨過濾器，以防止潮濕體進入真空泵。 6、非必要時，請勿隨意拆開邊門，以免損壞電器系統(tǒng)。 7、本設備應裝適用空氣開關。 8、電氣絕緣完好，設備外殼必須有可靠的保護接地或保護接零。 控制系統(tǒng)通常由電子或計算機...

真空系統(tǒng)是一種非常特殊的系統(tǒng)，其可以通過將系統(tǒng)中的氣體抽出以及添加吸附劑等方式創(chuàng)建真空環(huán)境。這種環(huán)境在各行各業(yè)中都有著普遍的應用，尤其在高科技領域中得到了普遍的使用。暢橋真空小編將會討論真空系統(tǒng)在哪些行業(yè)中被普遍應用，并且為你詳細介紹每一種應用領域。 生物科技領域：在生物科技領域中，真空技術也具有重要的應用。例如，在生物實驗中，我們需要使用真空下對細胞進行處理。在基因工程研究中，真空技術在制造過程中也起到了重要的作用。真空技術使得人們能夠更好地控制細胞中的溫度、壓力、氧氣和濕度，從而提高了實驗成果的可靠性和精度。 醫(yī)療衛(wèi)生領域：在醫(yī)療衛(wèi)生領域中，真空技術也是一項非常重要的技術。...

真空腔使用注意事項： 1、真空腔外殼必須有效接地，以確保使用安全。 2、真空腔不需連續(xù)抽氣使用時，應先關閉真空閥，再關閉真空泵電源，否則真空泵油要倒灌至腔內(nèi)。 3、取出被處理物品撕，如處理的是易燃物品，必須待溫度冷卻到低于燃點后，才能放入空氣，以免發(fā)生氧化反應引起燃燒。 4、真空腔無防爆裝置，不得放入易爆物品干燥。 5、真空腔與真空泵之間建議跨過濾器，以防止潮濕體進入真空泵。 6、非必要時，請勿隨意拆開邊門，以免損壞電器系統(tǒng)。 7、本設備應裝適用空氣開關。 8、電氣絕緣完好，設備外殼必須有可靠的保護接地或保護接零。 真空腔通常由一個密的腔體和...

真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器，真空腔體的制作要考慮容積、材質和形狀。不銹鋼是目前超高真空系統(tǒng)的主要結構材料。具有優(yōu)良的抗腐蝕性、放氣率低、無磁性、焊接性好、導電率和導熱率低、能夠在-270—900℃工作等優(yōu)點，在高真空和超高真空系統(tǒng)中，應用普遍。近年來，為了降低真空腔體的制作成本，采用鑄造鋁合金來制作腔體也逐漸普及。另外，采用鈦合金來制作特殊用途真空腔體的例子也不少。暢橋真空科技(浙江)有限公司是一家專業(yè)從事真空設備的設計制造以及整合服務的提供商。公司經(jīng)過十余年的發(fā)展，積累了大量真空設備設計制造經(jīng)驗以及行業(yè)內(nèi)專業(yè)技術人才。目前主要產(chǎn)品包括非標真空腔體、真空鍍膜腔體、真空大型設備零組件等各...

真空腔體進行檢漏工作： 真空腔體檢漏主要有三種：氦質譜檢漏，真空封泥檢測法，真空計檢漏法。 氦質譜檢漏是一項很重要的技能，因檢漏效率高，操作簡單，儀器反應靈敏，精度高，不容易受到其他氣體干擾，在真空腔體檢漏中得到了很多應用。氦質譜檢漏儀是根據(jù)質譜學原理，用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由分析器、離子源、分析器、冷陰極電離規(guī)、收集器組成的質譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣等部分組成。質譜室里的燈絲發(fā)射出來的電子，在室內(nèi)來回地振蕩，并與室內(nèi)氣體和經(jīng)漏孔進人室內(nèi)的氦氣相互碰撞使其電離成正離子，這些氦離子在加速電場作用下進入磁場，在洛倫茲力的作用下偏轉，進而形成了圓弧形軌道，改變加速電壓可使...

晶體振蕩器：晶體振蕩器是分子束外延生長的定標設備。定標時，待蒸發(fā)源蒸發(fā)速度穩(wěn)定后，將石英振蕩器置于中心點。通過讀出石英振蕩器振蕩頻率的變化，可以知道蒸發(fā)源在單位時間內(nèi)在襯底上長出薄膜的厚度。有的不銹鋼真空腔體將晶振放在樣品架放置樣品位置的反面（如小腔），在新腔體的設計中單獨設計了水冷晶振的法蘭口，用一個直線運動裝置（LinearMotion）控制晶振的伸縮。生長擋板：生長擋板通過在蒸發(fā)源和樣品之間的靜態(tài)或動態(tài)遮擋，可以在同一塊襯底上生長出特殊幾何圖形或者多種不同厚度的薄膜樣品。真空腔體不允許內(nèi)外兩層焊接和兩層密封。上海鍍膜機腔體 真空系統(tǒng)是一種非常特殊的系統(tǒng)，其可以通過將系統(tǒng)中的氣體抽出以及...

真空腔體安全閥安裝六項要求： 1.額定蒸發(fā)量大于0.5t/h的鍋爐，至少應安裝兩個安全閥；額定蒸發(fā)量小于或等于0.5t/h的鍋爐，至少應安裝一個安全閥?？煞蛛x式省煤器和蒸汽過熱器的出口必須安裝安全閥。 2.安全閥應垂直安裝在汽包和集箱的比較高的位置。在安全閥和汽包或集箱之間，不應有取蒸汽的出口管道和閥門。 3.杠桿式安全閥應有防止重錘自行移動的裝置和限制杠桿偏移的導向架。彈簧式安全閥應有一個提手和一個防止調節(jié)螺釘被隨意轉動的裝置。 4.額定蒸汽壓力小于或等于3.82MPa的鍋爐，安全閥的喉徑不應小于25mm額定蒸汽壓力大于3.82MPa的鍋爐，安全閥的喉徑不應小于2...