**常用的靶材包括氧化鋁、氮化硅、氧化鈦、金屬鋁、銅等材料。對于半導(dǎo)體工業(yè)而言,精密的制備和純凈的材料質(zhì)量是非常關(guān)鍵的。靶材的影響因素主要包括靶材材料的純度和制備工藝。高純度的靶材材料能夠保證制備出的薄膜成分純度更高,由此得到的器件的性能也會更穩(wěn)定,更有可靠性。同時,制備過程中的工藝控制也是非常關(guān)鍵的。控制靶材的加熱溫度、濺射功率等參數(shù)可以實現(xiàn)精密的控制制備,從而得到質(zhì)量更好的薄膜。靶材的種類及制備工藝合金靶材結(jié)合了多種金屬的優(yōu)點,提供了改善的物理和化學(xué)性能。江蘇AZO靶材咨詢報價
研究直流磁控反應(yīng)濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測氧儀等手段對毒化發(fā)生的機理進行分析,并對若干誘導(dǎo)因素進行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導(dǎo)毒化發(fā)生.ITO薄膜作為一種重要的透明導(dǎo)電氧化物半導(dǎo)體材料,因具有良好的導(dǎo)電性能及光透射率廣泛應(yīng)用于液晶顯示、太陽能電池、靜電屏蔽、電致發(fā)光等技術(shù)中,用氧化銦+氧化錫燒結(jié)體作為靶材,直流磁控反應(yīng)濺射法制備ITO薄膜與用銦錫合金靶相比,具有沉積速度快,膜質(zhì)優(yōu)良,工藝易控等優(yōu)點成為目前的主流?但是,此法成膜過程中會經(jīng)常發(fā)生??靶材表面黑色化,生成黑色不規(guī)則球狀節(jié)瘤,本文稱此現(xiàn)象為??靶材毒化,毒化使濺射速率下降,膜質(zhì)劣化,迫使停機清理靶材表面后才能繼續(xù)正常濺射,嚴重影響了鍍膜效率。北京ITO靶材售價陶瓷靶材具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和高熔點特性。
4.性能參數(shù)a.純度鎢靶材的純度通常達到99.95%或更高。純度是影響靶材性能的關(guān)鍵因素,它決定了材料的均勻性和應(yīng)用性能,尤其在半導(dǎo)體制造和高精度科學(xué)實驗中極為重要。b.晶體結(jié)構(gòu)鎢靶材的晶體結(jié)構(gòu)通常為體心立方(BCC)結(jié)構(gòu)。晶體尺寸可以通過制備過程中的溫度和壓力條件進行調(diào)控,以適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。c.熱導(dǎo)率鎢的熱導(dǎo)率大約為173W/(m·K)。高熱導(dǎo)率使鎢靶材在高溫應(yīng)用中保持穩(wěn)定,有助于快速散熱,防止因過熱而導(dǎo)致的性能退化。d.電導(dǎo)率鎢的電導(dǎo)率約為18.3×10^6S/m。這一特性使得鎢靶材在電子束和X射線應(yīng)用中顯示出良好的性能,因為良好的電導(dǎo)率有助于減少熱損耗和提高能量轉(zhuǎn)換效率。e.磁性鎢本身是非鐵磁性的,但它在特定的條件下可以表現(xiàn)出微弱的磁性。這種特性在研究磁性材料和磁性器件的新應(yīng)用中具有潛在價值。f.熱膨脹系數(shù)鎢的熱膨脹系數(shù)在室溫下約為4.5×10^-6K^-1。這表明鎢在溫度變化時的尺寸變化相對較小,有利于在溫度變化大的環(huán)境中保持結(jié)構(gòu)和性能的穩(wěn)定。g.抗拉強度和硬度鎢的抗拉強度在1000到3000MPa之間,硬度可達到2000到4000HV。這種**度和硬度使得鎢靶材在物理沖擊和磨損的環(huán)境中表現(xiàn)出***的耐久性。
溶膠-凝膠法:合成溶膠:選取合適的銦鹽和錫鹽作為原料,通過化學(xué)反應(yīng)在溶劑中形成溶膠,控制反應(yīng)條件可以獲得高均勻性的溶膠。老化:將形成的溶膠進行老化處理,以提高其穩(wěn)定性,防止在后續(xù)的熱處理過程中發(fā)生不均勻沉淀。干燥與熱解:經(jīng)過老化的溶膠經(jīng)過干燥,去除大部分溶劑后,通過熱解除去有機物質(zhì),得到ITO前驅(qū)體粉末。燒結(jié):與粉末冶金法類似,將熱解后的粉末進行高溫?zé)Y(jié),得到致密的ITO靶材。冷壓燒結(jié)工藝:冷壓成型:在室溫下將ITO粉末放入模具中,通過機械壓力將粉末壓制成型。這個過程中沒有熱量的參與,因此稱為冷壓。去除結(jié)合劑:如果在冷壓過程中使用了結(jié)合劑,需要在燒結(jié)前去除結(jié)合劑,通常是通過一系列熱處理步驟完成。燒結(jié):將冷壓成型后的ITO坯體放入燒結(jié)爐中,在高溫下進行燒結(jié)。冷壓燒結(jié)可以減少材料在高溫狀態(tài)下的時間,從而降低晶粒長大速率,有利于控制材料的微觀結(jié)構(gòu)。由于氧化鋁靶材高硬度和耐磨性,常用于切割工具的涂層。
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,如今,常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,硫化物陶瓷濺射靶材,碲化物陶瓷濺射靶材,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),砷化鉛靶材(PbAs),砷化銦靶材(InAs)對于某些金屬靶材,熔煉和鑄造是關(guān)鍵的制備步驟。陜西濺射靶材多少錢
經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn),低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強度。江蘇AZO靶材咨詢報價
電子行業(yè): 在半導(dǎo)體制造和集成電路制作中,利用鎳靶材的高純度和良好的電導(dǎo)性能,可以生產(chǎn)高質(zhì)量的導(dǎo)電層。建議在控制良好的環(huán)境下使用,以維持材料的純凈和穩(wěn)定。磁性材料應(yīng)用: 由于其獨特的鐵磁性質(zhì),鎳靶材適合用于磁性材料的制備,如硬盤驅(qū)動器和磁性存儲設(shè)備。使用時應(yīng)注意環(huán)境溫度,以保持材料的磁性穩(wěn)定。薄膜涂層: 在汽車、航空和裝飾行業(yè),鎳靶材用于制作耐磨、防腐的金屬薄膜。應(yīng)用時,建議考慮其耐腐蝕性和機械性能,以確保涂層的長期穩(wěn)定性。化學(xué)催化: 在化學(xué)工業(yè)中,利用鎳靶材的催化性能,可以促進某些化學(xué)反應(yīng)。使用時,需注意反應(yīng)條件,避免靶材在極端條件下退化??蒲泻蛯嶒炇覒?yīng)用: 在科學(xué)研究中,尤其是物理和化學(xué)研究,鎳靶材被用于實驗和材料分析。建議根據(jù)實驗要求精確選擇鎳靶材的規(guī)格和純度。能源行業(yè): 在某些能源應(yīng)用中,如燃料電池,鎳靶材的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性使其成為理想的選擇。適用時應(yīng)考慮其耐高溫和化學(xué)穩(wěn)定性。江蘇AZO靶材咨詢報價