南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備

質(zhì)結(jié)電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導(dǎo)電膜層，通過(guò)該層薄膜實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電、減反射、保護(hù)非晶硅薄膜的作用，同時(shí)可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案，實(shí)現(xiàn)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化，高效高產(chǎn)PVD DD CVD。釜川自主研發(fā)的“零界”高效異質(zhì)結(jié)電池整線制造解決方案已實(shí)現(xiàn)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化。南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備

高效異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程中使用的設(shè)備，PECVD 1.等離子化學(xué)氣相沉積（PlasmaEnhancedCVD，PECVD）是指利用輝光放電的物理作用來(lái)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的CVD技術(shù)；2.異質(zhì)結(jié)非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術(shù)，射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD），是PECVD的另外一種技術(shù)。它是利用射頻能量使反應(yīng)氣體等離子化。優(yōu)點(diǎn)：低溫成膜（300-350℃），對(duì)基片影響小，避免了高溫帶來(lái)的膜層晶粒粗大；l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內(nèi)應(yīng)力小，不易產(chǎn)生裂紋；l擴(kuò)大CVD應(yīng)用范圍，特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無(wú)機(jī)薄膜等，薄膜的附著力大于普通CVD。安徽零界高效異質(zhì)結(jié)設(shè)備異質(zhì)結(jié)電池功率高,雙面率高,工序短,低溫工藝,溫度系數(shù)低,衰減低等。

異質(zhì)結(jié)是指由兩種或兩種以上不同材料組成的結(jié)構(gòu)，其中兩種材料的晶格結(jié)構(gòu)、能帶結(jié)構(gòu)、電子親和能、禁帶寬度等物理性質(zhì)不同。在異質(zhì)結(jié)中，由于材料的不同，電子在兩種材料之間會(huì)發(fā)生反射、透射、折射等現(xiàn)象，從而形成電子的能帶結(jié)構(gòu)和電子密度分布的變化，這種變化會(huì)影響電子的傳輸和能量的轉(zhuǎn)移。異質(zhì)結(jié)在半導(dǎo)體器件中有廣泛的應(yīng)用，例如PN結(jié)、MOSFET、LED等。其中，PN結(jié)是基本的異質(zhì)結(jié)器件，由P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體組成，具有整流、放大、開(kāi)關(guān)等功能，廣泛應(yīng)用于電子器件中。MOSFET是一種基于金屬-氧化物-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的異質(zhì)結(jié)器件，具有高速、低功耗、高可靠性等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于集成電路中。LED是一種基于半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)的發(fā)光器件，具有高亮度、長(zhǎng)壽命、低功耗等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于照明、顯示等領(lǐng)域。總之，異質(zhì)結(jié)是半導(dǎo)體器件中的重要組成部分，其物理性質(zhì)和應(yīng)用具有重要意義。

光伏高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案，產(chǎn)業(yè)機(jī)遇：方向清晰：HJT技術(shù)工藝流程短、功率衰減低、輸出功率穩(wěn)定、雙面發(fā)電增益高、未來(lái)主流技術(shù)方向；時(shí)間明確：HJT平均量產(chǎn)效率已超過(guò)PERC瓶頸（25%），行業(yè)對(duì)HJT電池投入持續(xù)加大，電池商業(yè)化已逐漸成熟；機(jī)遇可期：設(shè)備與耗材是HJT規(guī)?；年P(guān)鍵，降本增效是不變的主題，具備HJT整線整合能力的供應(yīng)商優(yōu)勢(shì)明顯。當(dāng)前HJT生產(chǎn)成本約：硅片占比約50%，銀漿占比約25%，靶材約6%左右；當(dāng)前HJT設(shè)備成本約：清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、絲網(wǎng)印刷，設(shè)備投資額占比分別約10%、50%、25%和15%。異質(zhì)結(jié)電池主工藝之一：PECVD設(shè)備。

光伏異質(zhì)結(jié)是太陽(yáng)能電池的主要部件，其主要作用是將太陽(yáng)能轉(zhuǎn)化為電能。為了提高太陽(yáng)能利用率，可以采取以下措施：1.提高光吸收率：通過(guò)增加光伏電池的厚度或使用多層結(jié)構(gòu)，可以提高光吸收率，從而提高太陽(yáng)能利用率。2.優(yōu)化電池結(jié)構(gòu)：通過(guò)優(yōu)化電池結(jié)構(gòu)，如增加電池表面的納米結(jié)構(gòu)、改變電極材料等，可以提高電池的光電轉(zhuǎn)換效率，從而提高太陽(yáng)能利用率。3.提高電池效率：通過(guò)使用高效的電池材料和工藝，可以提高電池的效率，從而提高太陽(yáng)能利用率。4.優(yōu)化光伏系統(tǒng)設(shè)計(jì)：通過(guò)優(yōu)化光伏系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，如調(diào)整光伏電池的朝向、傾角等，可以提高光伏系統(tǒng)的發(fā)電效率，從而提高太陽(yáng)能利用率。綜上所述，提高光吸收率、優(yōu)化電池結(jié)構(gòu)、提高電池效率和優(yōu)化光伏系統(tǒng)設(shè)計(jì)是提高光伏異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能利用率的關(guān)鍵措施。光伏異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，由非晶硅層和晶體硅層組成，具有制造工藝簡(jiǎn)單、快速和低成本的優(yōu)勢(shì)。鄭州N型異質(zhì)結(jié)無(wú)銀

光伏異質(zhì)結(jié)的應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大，包括但不限于家庭、商業(yè)、工業(yè)、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域。南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備

異質(zhì)結(jié)（Heterojunction with Intrinsic Thin-layer，HJT）電池為對(duì)稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層（包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H）、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場(chǎng)作用。HJT是很有潛力優(yōu)勢(shì)的技術(shù)，在將來(lái)HJT電池與鈣鈦礦技術(shù)進(jìn)行復(fù)合疊層，突破轉(zhuǎn)換效率30%成為可能。南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備