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銅電鍍工藝流程:種子層沉積—圖形化—電鍍—后處理,光伏電鍍銅工藝流程主要包括種子層沉積、圖形化、電鍍及后處理四大環(huán)節(jié),目前各環(huán)節(jié)技術(shù)路線不一,多種組合工藝方案并行,需要綜合性能、成本來選擇合適的工藝路線。(1)種子層沉積:異質(zhì)結(jié)電池表面沉積有透明導(dǎo)電薄膜(TCO)作為導(dǎo)電層、減反射層,由于銅在TCO層上的附著性較差,兩者間為物理接觸,附著力主要為范德華力,電極容易脫落,一般需要在電鍍前在TCO層上先行使用PVD設(shè)備沉積種子層(100nm),改善電極接觸與附著性問題。(2)圖形化:由于在TCO上鍍銅是非選擇性的,需要形成圖形化的掩膜以顯現(xiàn)待鍍銅區(qū)域的線路圖形,劃分導(dǎo)電與非導(dǎo)電部分。圖形化過程中,將感光膠層覆蓋于HJT電池表面,通過選擇性光照,使得不需要鍍銅的位置感光材料發(fā)生改性反應(yīng),而需要鍍銅的位置感光材料不變;在顯影步驟時,待鍍銅區(qū)域內(nèi)未發(fā)生改性反應(yīng)的感光材料會被去除,形成圖形化的掩膜,后續(xù)電鍍時銅將沉積于該線路圖形區(qū)域內(nèi)露出的種子層上并發(fā)生導(dǎo)電,而其他位置不會發(fā)生銅沉積,實現(xiàn)選擇性電鍍。HJT降低成本的主要途徑之一是電鍍銅。河南專業(yè)電鍍銅工藝
電鍍銅的外觀通常呈現(xiàn)出金屬光澤,表面光滑平整,色澤呈現(xiàn)出深黃色或紅棕色。電鍍銅的外觀質(zhì)量與電鍍工藝和材料有關(guān),一般來說,電鍍銅的外觀質(zhì)量越好,其表面光澤越強(qiáng),色澤越鮮艷,且不易出現(xiàn)氧化、腐蝕等問題。電鍍銅的外觀質(zhì)量受到多種因素的影響,如電鍍液的成分、溫度、電流密度、電鍍時間等。在電鍍過程中,如果電鍍液的成分不均勻或溫度、電流密度不穩(wěn)定,就會導(dǎo)致電鍍銅的外觀質(zhì)量不佳,表面可能會出現(xiàn)氣泡、凹凸不平、色澤不均等問題。此外,電鍍銅的外觀質(zhì)量還與基材的材料和表面處理有關(guān)。如果基材表面不平整或存在污垢、油脂等物質(zhì),就會影響電鍍銅的外觀質(zhì)量。因此,在進(jìn)行電鍍銅之前,需要對基材進(jìn)行適當(dāng)?shù)那逑春吞幚恚源_保電鍍銅的外觀質(zhì)量。杭州專業(yè)電鍍銅設(shè)備供應(yīng)商光伏電鍍銅設(shè)備圖形轉(zhuǎn)移技術(shù), 會用到曝光機(jī)、油墨印刷機(jī)等。
電鍍銅的電流效率是指在電鍍過程中,實際沉積在工件表面的銅質(zhì)量與理論上應(yīng)沉積的銅質(zhì)量之比。電流效率的計算公式為:電流效率=實際沉積銅質(zhì)量/理論沉積銅質(zhì)量×100%其中,實際沉積銅質(zhì)量可以通過稱量電鍍前后工件的重量差來計算,而理論沉積銅質(zhì)量則可以通過法拉第電解定律來計算。法拉第電解定律表明,在相同的電流密度下,電解質(zhì)量與電流時間成正比,與電解液中離子濃度成正比。因此,在電鍍銅的過程中,需要控制電流密度和電解液中銅離子的濃度,以提高電流效率。同時,還需要注意電鍍過程中的溫度、攪拌速度、PH值等因素,以保證電鍍質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。
光伏電鍍銅的技術(shù)采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極,實現(xiàn)整片電池的工藝轉(zhuǎn)換,打破瓶頸,創(chuàng)新行業(yè)發(fā)展。光伏電鍍銅設(shè)計的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差,甚至可以實現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。太陽能電池電鍍銅技術(shù)。這項技術(shù)不僅可提升太陽能電池板效能,而且可大規(guī)模降低成本。以開掘市場潛力,全新的電鍍工藝旨在進(jìn)一步針對低成本電池的需求。電鍍銅+電鍍錫的組合確實能夠有效降低生產(chǎn)成本,同時允許實現(xiàn)共線生產(chǎn),有助于降低設(shè)備成本。
電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊,憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。電鍍銅技術(shù)路線是對傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷環(huán)節(jié)的替代,可以分為“種子層制備 +圖形化+金屬化+后處理”四大環(huán)節(jié)。廣東泛半導(dǎo)體電鍍銅設(shè)備供應(yīng)商
電鍍銅工藝圖形化:光刻路線和激光路線并行。河南專業(yè)電鍍銅工藝
電鍍銅現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊,憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。河南專業(yè)電鍍銅工藝