上海微機(jī)械增材制造技術(shù)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-03-01

    Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法,“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產(chǎn)品,在科學(xué)研究中得到了較廣的應(yīng)用,并在哈佛大學(xué)納米系統(tǒng)中心,加州理工學(xué)院,倫敦帝國(guó)理工學(xué)院,蘇黎世聯(lián)邦理工大學(xué)和慶應(yīng)義塾大學(xué)使用。 對(duì)比傳統(tǒng)制造,增材制造有什么優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)?上海微機(jī)械增材制造技術(shù)

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過(guò)2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)的主導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來(lái)進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。山東微納機(jī)器人增材制造工藝增材制造(Additive Manufacturing,AM)技術(shù)是采用材料逐漸累加的方法制造實(shí)體零件的技術(shù)。

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3D打印(3D Printing),又稱作Additive Manufacturing (增材制造),是一種用digital file (數(shù)字文件) 生成一個(gè)三維物體的過(guò)程。在3D打印的過(guò)程中,一層層的材料被逐次疊加起來(lái),直到形成后期的物體形態(tài)。每一層可以看作這個(gè)物體的一個(gè)很薄的橫截面,而每層的厚度則決定了打印的精度,層的厚度越小,打印的精度越高,打印出來(lái)的實(shí)體與digitalmodel(數(shù)字模型)本身越接近。3D打印在創(chuàng)建物體形態(tài)上有極大的自由度,幾乎不受形態(tài)復(fù)雜度限制,這也是3D打印相比于傳統(tǒng)制造方法(主要是SubtractiveManufacturing即減材制造)的一個(gè)重要優(yōu)勢(shì)。使用傳統(tǒng)減材制造方法時(shí),部件的復(fù)雜度直接影響流程的復(fù)雜度,復(fù)雜的形態(tài)會(huì)使開(kāi)模難度加大、使用工具更加復(fù)雜、成本大幅上漲。然而對(duì)于3D打印技術(shù)來(lái)說(shuō),由于其獨(dú)特的分層成形原理,簡(jiǎn)單的形態(tài)和復(fù)雜的形態(tài)幾乎可以一視同仁。譬如,外表閉合一體而內(nèi)部鏤空的形態(tài),或者無(wú)接縫的鏈接結(jié)構(gòu)(interlockingstructures),無(wú)法通過(guò)傳統(tǒng)制造工藝獲得,只能通過(guò)AdditiveManufacturing建造。

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過(guò)傳統(tǒng)的微納3D打印來(lái)制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問(wèn)題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu),包括光子集成電路,光纖頂端和預(yù)制晶片等。增材制造(Additive Manufacturing,AM)俗稱3D打印,融合了計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、材料加工與成型技術(shù)。

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。上海微機(jī)械增材制造技術(shù)

增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別你知道嗎?想要了解請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維。上海微機(jī)械增材制造技術(shù)

世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。上海微機(jī)械增材制造技術(shù)

納糯三維科技(上海)有限公司致力于儀器儀表,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。納糯三維擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專(zhuān)業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),以高度的專(zhuān)注和執(zhí)著為客戶提供PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)。納糯三維不斷開(kāi)拓創(chuàng)新,追求出色,以技術(shù)為先導(dǎo),以產(chǎn)品為平臺(tái),以應(yīng)用為重點(diǎn),以服務(wù)為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值,提供更優(yōu)服務(wù)。納糯三維始終關(guān)注儀器儀表行業(yè)。滿足市場(chǎng)需求,提高產(chǎn)品價(jià)值,是我們前行的力量。