高精度雙光子聚合

來源: 發(fā)布時間:2022-08-04

多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業(yè)微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內(nèi)的其他行業(yè)帶領機構一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創(chuàng)新,并可以應用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。雙光子聚合到底是什么技術?有什么特點?運用在哪些領域?高精度雙光子聚合

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借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合,適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領域應用。我們的客戶成功將微納光學結構直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合。高精度雙光子聚合Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術的發(fā)展趨勢。

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Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,例如光電應用中,他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng),內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。

由歐盟委員會及歐盟“地平線2020“計劃(Horizon2020)資助的HandheldOCT項目于2020年初正式啟動。祝賀Nanoscribe成為該項目成員之一。這個由多所大學,研究機構以及公司的科學家們和工程師們所組成的聯(lián)合項目致力于開發(fā)一種用于眼科檢查的便攜式可移動成像設備?;诘统杀竞托⌒突攸c的集成光子芯片技術,該項目有望將光學相干斷層掃描(OCT)從局限的眼科臨床應用帶入更廣的眼科護理移動應用中來。由維也納醫(yī)科大學牽頭的HandheldOCT研究項目旨在運用成熟的光學相干斷層掃描成像技術(OCT),來實現(xiàn)便攜式現(xiàn)場即時眼科護理檢查。預計此款正在開發(fā)的具備先進技術和成本效應的便攜式集成光子芯片技術OCT成像設備將用于診斷和監(jiān)測多種眼部疾病,例如,老年性黃斑病變、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼,這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導致失明的主要因素。該便攜式設備將會在維也納總醫(yī)院進行測試以驗證其在眼科診斷的效果。雙光子聚合技術是近年發(fā)展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯(lián)的一種新型的光聚合技術。

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為了探索待測物微納米表面形貌,探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,在組成材料和幾何構造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展,這也限制了基于力傳感反饋的測量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司??査刽敹?D打印雙光子聚合3D打印

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解雙光子聚合技術的特點和用途。高精度雙光子聚合

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。高精度雙光子聚合