雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。想要了解灰度光刻技術(shù)的運用,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。江蘇超高速灰度光刻
QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點在于:這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。山東高精度灰度光刻系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容。
Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。
傳感器對可控技術(shù)的重要性,在眾多領(lǐng)域都是顯而易見的,無論是從簡單的家用電器,還是到可穿戴設(shè)備,甚至到航空應(yīng)用,只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,不易故障,并且易于集成到流程中等優(yōu)點。光纖端面的微型傳感器在這個方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小,可以輕松多路復(fù)用,并且不需要額外的外部能源供應(yīng)。對于這些基于光纖的傳感器的加工,雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實上,任何設(shè)計模型都能在微觀尺寸上被實現(xiàn)。然而,大多數(shù)設(shè)計都是靜態(tài)的,打印出來的部件在被加工出來后不能進行進一步的活動。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù)。
這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過先進的光刻技術(shù),它能夠在微米級別上進行精確的圖案制作,確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達到比較高水平。同時,設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升,減少了生產(chǎn)過程中的誤差和損耗,提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術(shù),**縮短了生產(chǎn)周期。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備,它的生產(chǎn)速度提高了30%,提升了我們的生產(chǎn)效率。同時,設(shè)備還具備多通道同時加工的能力,可以同時處理多個產(chǎn)品,進一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。更多灰度光刻技術(shù)詳情,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。北京進口灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)
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Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。江蘇超高速灰度光刻
納糯三維科技(上海)有限公司是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的****,公司位于上海市徐匯區(qū)桂平路391號3號樓11層1106A室,成立于2017-11-08。公司秉承著技術(shù)研發(fā)、客戶優(yōu)先的原則,為國內(nèi)PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)的產(chǎn)品發(fā)展添磚加瓦。Nanoscribe目前推出了PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)等多款產(chǎn)品,已經(jīng)和行業(yè)內(nèi)多家企業(yè)建立合作伙伴關(guān)系,目前產(chǎn)品已經(jīng)應(yīng)用于多個領(lǐng)域。我們堅持技術(shù)創(chuàng)新,把握市場關(guān)鍵需求,以重心技術(shù)能力,助力儀器儀表發(fā)展。納糯三維科技(上海)有限公司研發(fā)團隊不斷緊跟PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè)發(fā)展趨勢,研發(fā)與改進新的產(chǎn)品,從而保證公司在新技術(shù)研發(fā)方面不斷提升,確保公司產(chǎn)品符合行業(yè)標準和要求。納糯三維科技(上海)有限公司以市場為導(dǎo)向,以創(chuàng)新為動力。不斷提升管理水平及PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)品質(zhì)量。本公司以良好的商品品質(zhì)、誠信的經(jīng)營理念期待您的到來!