這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購買,體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧!實現(xiàn)對光刻膠表面深度的精確控制,從而制備出更加復(fù)雜和精細的微納結(jié)構(gòu)。山東工業(yè)級灰度光刻3D打印
Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。江蘇高分辨率灰度光刻設(shè)備灰度光刻技術(shù)作為一種新型的光刻技術(shù),具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢。
Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明。歡迎咨詢
微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用。
Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用?;叶裙饪碳夹g(shù)可降低成本和提高生產(chǎn)效率。天津Nanoscribe灰度光刻設(shè)備
Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀。山東工業(yè)級灰度光刻3D打印
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢山東工業(yè)級灰度光刻3D打印