上海高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2024-04-05

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”(CMM)。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外,還可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司微納3D打印和灰度光刻技術(shù)有什么區(qū)別?上海高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)

上海高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。上海高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合。

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QuantumXbio是具有高分辨率的多功能生物打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)擁有的**技術(shù)是以雙光子聚合(2PP)為關(guān)鍵,以出色的工程設(shè)計為基礎(chǔ),通過生物學家的想法定制并且重新設(shè)計的。作為2019年推出的First臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制、無菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點,可讓生物打印達到一個新的高度,并有效加速組織工程、細胞生物學和方方面面生物醫(yī)學應用等關(guān)鍵應用的創(chuàng)新。

該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造?;叶裙饪碳夹g(shù)作為一種新型的光刻技術(shù),具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢。

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這款灰度光刻設(shè)備還具備智能化的特點。它配備了先進的自動化控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)自動調(diào)節(jié)和監(jiān)控,減少了人工操作的需求,提高了生產(chǎn)線的穩(wěn)定性和可靠性。同時,設(shè)備還具備故障自診斷和遠程監(jiān)控功能,及時發(fā)現(xiàn)和解決問題,減少了生產(chǎn)線的停機時間,提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備還具備良好的適應性和可擴展性。它可以適應不同材料和工藝的加工需求,為我們的生產(chǎn)線提供了更大的靈活性。同時,設(shè)備還支持模塊化設(shè)計,可以根據(jù)需要進行擴展和升級,滿足我們未來的生產(chǎn)需求。這款全新的灰度光刻設(shè)備為我們的生產(chǎn)線帶來了巨大的改變。它的精度、穩(wěn)定性和高效性使我們能夠更好地滿足客戶的需求,提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。我們相信,有了這款設(shè)備的加入,我們的公司將迎來更加美好的未來。灰度光刻技術(shù)采用圖像處理的方法。上海Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。上海高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)

   Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢上海高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)