湖北工業(yè)級灰度光刻微納加工系統(tǒng)

微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù)，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu)，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點(diǎn)。湖北工業(yè)級灰度光刻微納加工系統(tǒng)

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印與灰度光刻有點(diǎn)類似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù)，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu)，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。江蘇灰度光刻3D打印Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。

全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學(xué)元件。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。而且QuantumX提供了完全的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度?？焖佟?zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工。與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，灰度光刻在制造復(fù)雜芯片時(shí)具有明顯的優(yōu)勢。

現(xiàn)代光電設(shè)備在系統(tǒng)的復(fù)雜化與小型化得到了巨大改進(jìn)。一種應(yīng)用需求為使用定制的透鏡陣列來準(zhǔn)直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復(fù)合激光線。消費(fèi)類相機(jī)和投影模塊中的微型光學(xué)元件通常需要多個(gè)元件才能滿足性能規(guī)格。復(fù)雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn)。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會導(dǎo)致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差，從而抑制準(zhǔn)直性能。硅灰度光刻技術(shù)可以在單個(gè)高折射率表面上實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的透鏡形狀，同時(shí)還可以在多個(gè)孔之間提供精確的對準(zhǔn)和間距。多孔徑透鏡陣列設(shè)計(jì)用于沿快軸準(zhǔn)直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角。陣列中的每個(gè)元素還包含偏心和衍射項(xiàng)，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線?；叶裙饪棠募液茫客扑]納糯三維科技（上海）有限公司。湖北工業(yè)級灰度光刻微納加工系統(tǒng)

灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合，如直接激光寫入（Direct Laser Writing）等。湖北工業(yè)級灰度光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，推動著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機(jī)。湖北工業(yè)級灰度光刻微納加工系統(tǒng)