雙光子聚合3D打印無掩膜激光直寫

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。歡迎咨詢無需機(jī)械加工或任何模具，能直接從計(jì)算機(jī)圖形數(shù)據(jù)中生成任何形狀的零件。雙光子聚合3D打印無掩膜激光直寫

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。上海微納米3D打印無掩膜激光直寫納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe供應(yīng)高精度微納3D打印系統(tǒng)系列產(chǎn)品。

我們的3D打印技術(shù)采用了先進(jìn)的增材制造方法，能夠?qū)?shù)字模型轉(zhuǎn)化為實(shí)體產(chǎn)品。相比傳統(tǒng)的制造方法，這項(xiàng)技術(shù)具有許多優(yōu)勢。首先，它能夠?qū)崿F(xiàn)高度定制化，根據(jù)客戶的需求精確打印出復(fù)雜的結(jié)構(gòu)和形狀。其次，由于材料的精確控制和優(yōu)化設(shè)計(jì)，產(chǎn)品的質(zhì)量和性能得到了明顯提升。此外，這項(xiàng)技術(shù)還能夠減少廢料和能源的浪費(fèi)，對環(huán)境友好。我們的3D打印技術(shù)廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，包括航空航天、汽車制造、醫(yī)療器械等。在航空航天領(lǐng)域，我們的技術(shù)可以制造出輕量化的零部件，提高飛機(jī)的燃油效率和性能。在汽車制造領(lǐng)域，我們的技術(shù)可以生產(chǎn)出復(fù)雜的汽車零部件，提高汽車的安全性和舒適性。在醫(yī)療器械領(lǐng)域，我們的技術(shù)可以制造出個(gè)性化的假肢和植入物，提高患者的生活質(zhì)量。我們公司一直致力于技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品質(zhì)量的提升。通過引入這項(xiàng)**的3D打印技術(shù)，我們將進(jìn)一步鞏固我們在行業(yè)中的**地位。我們相信，這項(xiàng)技術(shù)的推出將為我們的客戶帶來更多的商機(jī)和競爭優(yōu)勢。如果您對我們的3D打印技術(shù)感興趣或有任何疑問，請隨時(shí)與我們聯(lián)系。我們的團(tuán)隊(duì)將竭誠為您提供專業(yè)的解答和支持。讓我們一起開創(chuàng)未來，共同推動(dòng)行業(yè)的發(fā)展！

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。歡迎咨詢微納3D打印技術(shù)可以使用多種材料進(jìn)行打印，包括金屬、陶瓷、聚合物等。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭微納尺度3D打印能批量復(fù)制微小結(jié)構(gòu)，制造出真正處于微觀級別的器件，實(shí)現(xiàn)了一般3D打印無法企及的精度。北京進(jìn)口3D打印PPGT

雙光子零件可以3D打印出小于100nm分辨率物體。雙光子聚合3D打印無掩膜激光直寫

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