青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-03-22

硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)耦合掉電,是在耦合的過(guò)程中斷電致使設(shè)備連接不上的情況,如果電池電量不足或者使用程控電源時(shí)供電電壓過(guò)低、5V觸發(fā)電壓未接觸好、測(cè)試連接線不良等都會(huì)導(dǎo)致耦合掉電的現(xiàn)象。與此相似的耦合充電也是常見(jiàn)的故障之一,在硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)過(guò)程中,點(diǎn)擊HQ_CFS的“開(kāi)始”按鈕進(jìn)行測(cè)試時(shí)一定要等到“請(qǐng)稍后”出現(xiàn)后才能插上USB進(jìn)行硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng),否則就會(huì)出現(xiàn)耦合充電,若測(cè)試失敗,可重新插拔電池再次進(jìn)行測(cè)試,排除以上操作手法沒(méi)有問(wèn)題后,還是出現(xiàn)充電現(xiàn)象,則是耦合驅(qū)動(dòng)的問(wèn)題了,若識(shí)別不到端口則是測(cè)試用的數(shù)據(jù)線損壞的緣故。硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn):價(jià)格實(shí)惠。青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng)

青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng),硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)

基于設(shè)計(jì)版圖對(duì)硅光芯片進(jìn)行光耦合測(cè)試的方法及系統(tǒng),該方法包括:讀取并解析設(shè)計(jì)版圖,得到用于構(gòu)建芯片圖形的坐標(biāo)簇?cái)?shù)據(jù),驅(qū)動(dòng)左側(cè)光纖對(duì)準(zhǔn)第1測(cè)試點(diǎn),獲取與第1測(cè)試點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的測(cè)試點(diǎn)圖形的第1選中信息,驅(qū)動(dòng)右側(cè)光纖對(duì)準(zhǔn)第二測(cè)試點(diǎn),獲取與第二測(cè)試點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的測(cè)試點(diǎn)圖形的第二選中信息,獲取與目標(biāo)測(cè)試點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的測(cè)試點(diǎn)圖形的第三選中信息,通過(guò)測(cè)試點(diǎn)圖形與測(cè)試點(diǎn)的對(duì)應(yīng)關(guān)系確定目標(biāo)測(cè)試點(diǎn)的坐標(biāo),以驅(qū)動(dòng)左或右側(cè)光纖到達(dá)目標(biāo)測(cè)試點(diǎn),進(jìn)行光耦合測(cè)試;該系統(tǒng)包括上位機(jī),電機(jī)控制器,電機(jī),夾持載臺(tái)及相機(jī)等;本發(fā)明具有操作簡(jiǎn)單,耗時(shí)短,對(duì)用戶(hù)依賴(lài)程度低等優(yōu)點(diǎn),能夠極大提高硅光芯片光耦合測(cè)試的便利性。青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng)硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)硅光芯片的好處:穩(wěn)定性好,精度高。

青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng),硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)

經(jīng)過(guò)多年發(fā)展,硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)如今已經(jīng)成為受到普遍關(guān)注的熱點(diǎn)研究領(lǐng)域。利用硅的高折射率差和成熟的制造工藝,硅光子學(xué)被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)高集成度光子芯片的較佳選擇。但是,硅光子學(xué)也有其固有的缺點(diǎn),比如缺乏高效的硅基有源器件,極低的光纖-波導(dǎo)耦合效率以及硅基波導(dǎo)明顯的偏振相關(guān)性等都制約著硅光子學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展。針對(duì)這些問(wèn)題,試圖通過(guò)新的嘗試給出一些全新的解決方案。首先我們回顧了一些光波導(dǎo)的數(shù)值算法,并在此基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)了一個(gè)基于柱坐標(biāo)系的有限差分模式分析器,它非常適合于分析彎曲波導(dǎo)的本征模場(chǎng)。對(duì)于復(fù)雜光子器件結(jié)構(gòu)的分析,我們主要利用時(shí)域有限差分以及波束傳播法等數(shù)值工具。接著我們回顧了硅基光子器件各項(xiàng)主要的制造工藝和測(cè)試技術(shù)。重點(diǎn)介紹了幾種基于超凈室設(shè)備的關(guān)鍵工藝,如等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,電子束光刻以及等離子體干法刻蝕。為了同時(shí)獲得較高的耦合效率以及較大的對(duì)準(zhǔn)容差,本論文主要利用垂直耦合系統(tǒng)作為光子器件的主要測(cè)試方法。

耦合掉電,即在耦合的過(guò)程中斷電致使設(shè)備連接不上的情況,如果電池電量不足或者使用程控電源時(shí)供電電壓過(guò)低、5V觸發(fā)電壓未接觸好、測(cè)試連接線不良等都會(huì)導(dǎo)致耦合掉電的現(xiàn)象。與此相似的耦合充電也是常見(jiàn)的故障之一,在硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)過(guò)程中,點(diǎn)擊HQ_CFS的“開(kāi)始”按鈕進(jìn)行測(cè)試時(shí)一定要等到“請(qǐng)稍后”出現(xiàn)后才能插上USB進(jìn)行硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng),否則就會(huì)出現(xiàn)耦合充電,若測(cè)試失敗,可重新插拔電池再次進(jìn)行測(cè)試,排除以上操作手法沒(méi)有問(wèn)題后,還是出現(xiàn)充電現(xiàn)象,則是耦合驅(qū)動(dòng)的問(wèn)題了,若識(shí)別不到端口則是測(cè)試用的數(shù)據(jù)線損壞的緣故。硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)硅光芯片的好處:支持流水線操作,使取指、譯碼和執(zhí)行等操作可以重疊執(zhí)行。

青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng),硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)

硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)中的硅光與芯片的耦合方法及其硅光芯片,方法包括以下步驟:1、使用微調(diào)架將光纖端面與模斑變換器區(qū)域精確對(duì)準(zhǔn),調(diào)節(jié)至合適耦合間距后采用紫外膠將光纖分別與固定塊和墊塊粘接固定;2、將硅光芯片粘貼固定在基板上,硅光芯片的端面耦合波導(dǎo)為懸臂梁結(jié)構(gòu),具有模斑變換器;通過(guò)圖像系統(tǒng),微調(diào)架將光纖端面與耦合波導(dǎo)的模斑變換器耦合對(duì)準(zhǔn),固定塊從側(cè)面緊挨光纖并固定在基板上;3、硅光芯片的輸入端和輸出端分別粘貼墊塊并支撐光纖未剝除涂覆層的部分。硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)組件裝夾完成后,通過(guò)校正X,Y和Z方向的偏差來(lái)進(jìn)行的初始光功率耦合。青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng)

在通信器件的高級(jí)市場(chǎng)上,硅光芯片的作用更加明顯。青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng)

既然提到硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng),我們就認(rèn)識(shí)一下硅光子集。所謂硅光子集成技術(shù),是以硅和硅基襯底材料(如SiGe/Si、SOI等)作為光學(xué)介質(zhì),通過(guò)互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)兼容的集成電路工藝制造相應(yīng)的光子器件和光電器件(包括硅基發(fā)光器件、調(diào)制器、探測(cè)器、光波導(dǎo)器件等),并利用這些器件對(duì)光子進(jìn)行發(fā)射、傳輸、檢測(cè)和處理,以實(shí)現(xiàn)其在光通信、光互連、光計(jì)算等領(lǐng)域中的實(shí)際應(yīng)用。硅光技術(shù)的中心理念是“以光代電”,即采用激光束代替電子信號(hào)傳輸數(shù)據(jù),將光學(xué)器件與電子元件整合至一個(gè)單獨(dú)的微芯片中。在硅片上用光取代傳統(tǒng)銅線作為信息傳導(dǎo)介質(zhì),較大提升芯片之間的連接速度。青海射頻硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)供應(yīng)