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來源: 發(fā)布時間:2022-03-14

真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國相關(guān)標(biāo)準研究制造,廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的技術(shù)指標(biāo)。 1.無塵等級:Class100:(符合FED-STD 209E標(biāo)準:0.3um≤300個0.5≤100個) 2.溫度范圍:+60℃~ +250℃(極限溫度350℃) 3.溫度均勻性:±2℃(空箱測試) 4.溫度精確度:±1℃(空箱測試) 5.設(shè)備型號規(guī)格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700; 700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000; 1000*1300*1000;1000*1400*1000;合肥真萍與您分享網(wǎng)帶爐的重要性。上海燒結(jié)網(wǎng)帶爐保養(yǎng)

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。江蘇燒結(jié)網(wǎng)帶爐合肥真萍告訴您網(wǎng)帶爐的運用方式。

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恒溫恒濕箱試驗箱是航空、汽車、家電、科研等領(lǐng)域必備的檢測設(shè)備,用于測試電子、電工及其它產(chǎn)品及材料進行高溫、低溫、交變濕熱度或恒定試驗的溫度環(huán)境變化參數(shù)及性能。該系列產(chǎn)品適用于航空航天產(chǎn)品、信息電子儀器儀表、材料、電工、電子產(chǎn)品、各種電子元氣件在高低溫或濕熱環(huán)境下、檢驗其各項性能指標(biāo)。下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗箱的控制特點。   加濕是恒溫恒濕試驗箱不同于高低溫試驗箱的相當(dāng)主要一部分,恒溫恒濕試驗箱采用外置隔離式,全不銹鋼鍋爐式淺表面蒸發(fā)式加濕器。祛濕方式采用機械制冷祛濕,將空氣冷卻到溫度以下,使大于飽和含濕量的水汽凝結(jié)析出,這樣就降低了濕度。   送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng):空氣循環(huán)系統(tǒng)由耐溫低噪音空調(diào)型電機,多葉式離心風(fēng)輪構(gòu)成。它提供了試驗機內(nèi)空氣的循環(huán)。   控制系統(tǒng)是綜合試驗箱的**,它決定了試驗機的升溫速率,精度等重要指標(biāo)。試驗機的控制器大都采用PID控制,也有少部分采用PID與模糊控制相組合的控制方式。由于控制系統(tǒng)基本上屬于軟件的范疇,而且此部分在使用過程中,一般不會出現(xiàn)問題。

超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。 1.升溫時間:①常壓時:90min(常溫~ +260℃) ②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~ +260℃) 2.降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常溫℃) 3.降溫方式:水冷降溫 4.試驗箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式 5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa網(wǎng)帶爐可以去哪里購買?

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真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國相關(guān)標(biāo)準研究制造,廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.烘箱總體由箱體部分,電氣控制柜部分,電加熱部分,風(fēng)道部分,塵埃物過濾部分,N2進氣排氣及風(fēng)冷部分等組裝而成,結(jié)構(gòu)合理,功能實用。2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆可防止微塵。3.內(nèi)膽材料:采進口SUS304#2mm不銹鋼板全周氬焊,并經(jīng)堿性蘇打水清潔有效的防止了機臺本身灰塵的產(chǎn)生。4.保溫材料:采用正廠玻璃纖維公司出品的100K級高密度保溫板填充,有效的防止了熱能浪費。5.電熱部分:采用進口覆套式電熱器(SHEATHEDHEATER)無塵無氧化電熱發(fā)生器。6.風(fēng)道部分:整體結(jié)構(gòu)采用了水平送風(fēng)的方式由左向右送風(fēng)后經(jīng)美國進口H.E.P.A,(特殊風(fēng)道設(shè)計)過濾效果可達99.99%,Class100。合肥真萍告訴您網(wǎng)帶爐的應(yīng)用范圍。江蘇燒結(jié)網(wǎng)帶爐

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光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。上海燒結(jié)網(wǎng)帶爐保養(yǎng)