福州存儲柜多少錢一臺

來源: 發(fā)布時間:2022-06-24

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機尺寸、真空腔體尺寸。1.內(nèi)膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架:2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃溫度波動度:0.5℃4.真空泵:油泵或無油真空泵。真空度:133pa,5.加熱方式:腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側(cè)加熱使的HMDS液進(jìn)入箱體內(nèi)不能完本轉(zhuǎn)成氣態(tài))6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規(guī)降溫)。存儲柜哪個性價比高?合肥真萍科技告訴您。福州存儲柜多少錢一臺

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真萍科技精密鼓風(fēng)烤箱采用進(jìn)口液晶顯示控制器,產(chǎn)品采用綜合的電磁兼容設(shè)計和人性化的菜單設(shè)計,使得設(shè)備操作完全傻瓜化,控溫效果較好。高亮度寬視窗液晶顯示,示值清晰、直觀。微電腦智能控制。設(shè)定溫度和時間后,儀表自行控制加熱功率,并顯示加熱狀態(tài),控溫精確而穩(wěn)定。超溫報警并自動切斷加熱電源。電器控制系統(tǒng):1.電氣控制元器件均采用國內(nèi)品牌“正泰”2.電氣線路設(shè)計新穎,合理布線,安全可靠3.箱體頂部為電氣控制柜,方便于集中檢查維修安全保護(hù)系統(tǒng):1.超溫報警2.欠相缺相保護(hù)3.過電流保護(hù)4.快速熔斷器5.接地保護(hù)漳州存儲柜報價合肥真萍與您分享存儲柜對如今市場的影響。

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它是利用真空泵進(jìn)行抽氣抽濕,使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài),降低水的沸點,加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空干燥箱的特點。1.長方體工作室,增加有效容積,微電腦溫度控制器,精確控溫。2.雙層玻璃視窗觀察工作室內(nèi)物體,一目了然。3.箱體閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度。4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成,確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。5.儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環(huán)境里進(jìn)行,所以不會氧化。6.真空程序分段控制,該型號機型,抽真空過程可提供程序化編程,根據(jù)客戶要求編輯設(shè)定真空值,保壓時間值。可實現(xiàn)多段抽真空和保壓編程。

一、產(chǎn)品材質(zhì)1.外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板/內(nèi)箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼;2.保護(hù)裝置定時報警斷電裝置、超溫斷電、漏電保護(hù)斷路器、電機過載保護(hù)。二、產(chǎn)品特點1.雙邊配有鏈條傳動,解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象;2.烘箱分段式加熱,單獨電箱控制,方便操作,結(jié)構(gòu)主要由輸送機系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成,多段單獨;3.PID溫度控制,爐內(nèi)溫度均勻;4.輸送速度變頻調(diào)速,調(diào)節(jié)自如,運行平穩(wěn),產(chǎn)能高;5.每段單獨箱體設(shè)置廢氣排放接口,可外接到車間外面,避免車間廢氣污染。存儲柜常見的用途有哪些?合肥真萍告訴您。

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精密鼓風(fēng)烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴(yán)格的實驗檢測。真萍科技精密鼓風(fēng)烤箱采用進(jìn)口液晶顯示控制器,產(chǎn)品采用綜合的電磁兼容設(shè)計和人性化的菜單設(shè)計,使得設(shè)備操作完全傻瓜化,控溫效果較好。高亮度寬視窗液晶顯示,示值清晰、直觀。微電腦智能控制。設(shè)定溫度和時間后,儀表自行控制加熱功率,并顯示加熱狀態(tài),控溫精確而穩(wěn)定。超溫報警并自動切斷加熱電源。電器控制系統(tǒng):1.電氣控制元器件均采用國內(nèi)品牌“正泰”2.電氣線路設(shè)計新穎,合理布線,安全可靠3.箱體頂部為電氣控制柜,方便于集中檢查維修安全保護(hù)系統(tǒng):1.超溫報警2.欠相缺相保護(hù)3.過電流保護(hù)4.快速熔斷器5.接地保護(hù)使用存儲柜的好處有哪些?淮北存儲柜價格多少

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。福州存儲柜多少錢一臺

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