隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機(jī)、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預(yù)熱回火、退火、老化等的加工制作。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品特點。1.雙邊配有鏈條傳動,解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象;2.烘箱分段式加熱,單獨的電箱控制,方便操作。結(jié)構(gòu)主要由輸送機(jī)系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成,多段單獨的;3.PID溫度控制,爐內(nèi)溫度均勻;4.輸送速度變頻調(diào)速,調(diào)節(jié)自如,運行平穩(wěn),產(chǎn)能高;5.每段單獨的箱體設(shè)置廢氣排放接口,可外接到車間外面,避免車間廢氣污染。網(wǎng)帶爐怎么選?合肥真萍科技告訴您。上海大型網(wǎng)帶爐
使用高溫鐘罩爐有特定的操作方法,需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行,下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項。1、在使用高溫鐘罩爐時,其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行。留意不要超過安全溫度,避免焚毀電熱絲。2、將物料放入爐膛時,切勿碰及熱電偶,因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷。3、將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時,有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中,或墊以耐火泥板或石棉板,避免與爐膛粘連在一起。4、不要讓高溫鐘罩爐受潮,以防漏電。廈門烘干網(wǎng)帶爐批發(fā)選用定制網(wǎng)帶爐有哪些好處呢?合肥真萍科技為您介紹。
冷熱沖擊試驗箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運輸,使用時的適應(yīng)性試驗。用于產(chǎn)品設(shè)計,改進(jìn),鑒定及檢驗等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗箱設(shè)備制造廠商,在冷熱沖擊試驗箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面,帶您了解冷熱沖擊試驗箱。一、溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱均勻度,新標(biāo)準(zhǔn)稱梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任意兩點的溫度平均值之差的較大值。這個指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù),因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后,在任意時間間隔內(nèi),工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點的溫度平均值之差。雖然新舊標(biāo)準(zhǔn)對此指標(biāo)的定義和稱呼相同,但檢測已有所改變,新標(biāo)準(zhǔn)更實際,更苛刻一點,但考核時間短點。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為2℃,純高溫試驗箱200℃以上可按實際使用溫度攝氏度(℃)2%要求。
超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)2.降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa合肥真萍向您介紹網(wǎng)帶爐的好處。
真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應(yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的柜體規(guī)格、配備。1.左右雙開門,3mm鋼化玻璃,1mm厚不銹鋼板,氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉,腳墊采高承載車輪及調(diào)整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板,柜體加裝高載重煞車輪。4.上掀式氣密蓋,方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風(fēng)循環(huán)設(shè)計,單向氮氣循環(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開門式設(shè)計,方便潔凈清理與保養(yǎng)。使用網(wǎng)帶爐前的檢查步驟。北京燒結(jié)網(wǎng)帶爐專賣
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光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。上海大型網(wǎng)帶爐