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來源: 發(fā)布時間:2020-01-05

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下壓框架并施加真空。等待5-8秒,直到框架完全是空的。9.在連續(xù)運行真空的情況下,添加30mL洗滌緩沖液(MultiBlot為15毫升)。重復(fù)洗滌步驟3次以上(總共4次洗滌)。當(dāng)框架完全為空時,將TURN真空關(guān)閉。10.在印跡架的表面上涂適量的二抗(對于多印跡,為2.5mL,5毫升用于迷你印跡,或10毫升用于Midi印跡)。在室溫下孵育10分鐘,然后關(guān)閉真空。同樣,溶液將被吸收到印跡架中,并且表面可能看起來干燥。重要提示:孵育10分鐘后,再抽真空。11.向下壓框架并施加真空。益啟生物的MerckWB實驗加速器怎么樣?金山區(qū)Merck實驗加速器WB實驗加速器銷售

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