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密封的平板/m歧管組件放在倒置顯微鏡。6.在擴(kuò)展的灌注實(shí)驗(yàn)中，定期將7孔倒空至避免出口溢流到歧管和灌注系統(tǒng)中。在CellASICOONX2軟件的“運(yùn)行”選項卡上，單擊“暫?！卑粹o。按下儀器上或“工具”下拉菜單中的“密封”按鈕在下拉菜單中，單擊開封板。從板，并抽吸良好。7.將歧管重新密封到板上，然后在在“運(yùn)行”選項卡上，單擊“恢復(fù)”以重新啟動每個融合協(xié)議。解決方案切換1.從選定的進(jìn)水口（1-5）吸出溶液。加至350μL所需的解決方案。如果少于四個單位（A-D）使用時，用緩沖液填充未使用的進(jìn)口井，以防只托水。2.根據(jù)以下說明將微流體板密封到ONIX2歧管上：CellASIC@ONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南。3.打開CelIASICOONIX2軟件，在下拉列表，然后單擊ProtocolEditor選普陀區(qū)Merck細(xì)胞分析儀Merck儀器質(zhì)量有保障的超濾杯在哪里買您知道嗎？

鋼滾動墊聚酯，HIPS和丙烯酸尸體收集盤苯乙烯丁二烯共聚物潤濕盤聚對苯二甲酸乙二醇酯（PETG）化學(xué)相容性SNAP i.d.2.0蛋白質(zhì)檢測系統(tǒng)與水溶液，稀酸和堿兼容。不要暴露于有機(jī)溶劑中。貯存 ：將所有組件存放在室溫下。 訂購信息在xxx上在線購買產(chǎn)品。產(chǎn)品描述：數(shù)量/包基本系統(tǒng)SNAPL.d.02.0基礎(chǔ)SNAP2BASE1個基本單元（1）油管組裝套件（1）印跡油（1），滾動墊（1）潤濕盤（2）抗體收集盤（2）Qulck-StartGulde（1）。WesternBlotting程序的組件SNAPLd.o2.0MultiBlot保持架SNAP2FRMB011個多印跡框架d（1）MultBlot持有人（2rs（2）SNAPL.d.2.0迷你吸盤固定架（單個包裝）SNAP2FRMN011個迷

養(yǎng)室培養(yǎng)室的面積為20x1.2毫米，陷阱高度為0.7，09.1.1。13.23和45um。帶正蛋白標(biāo)記的支持帖保持統(tǒng)一的高度入口功能和下表列出了每個培養(yǎng)單位的比較小/比較大狼數(shù)量。圖1.平板配置BD04A板具有4個單獨(dú)分別的單元[A-DI。每個都有5個進(jìn)水口（1-5升細(xì)胞入口（8升細(xì)胞（6）。大出口井（7）。流動）每個通道的孔（A-D）的阻力都匹配處理相應(yīng)的培養(yǎng)室。板已發(fā)貨用PBS（磷酸鹽緩沖鹽水）溶液預(yù)涂，可以在實(shí)驗(yàn)之前，請先將其替換為所選擇的緩沖液。盤子是給的只能使用一次。 細(xì)胞誘捕機(jī)制局限性該板與乙酸和有機(jī)溶劑（例如餅酮，乙醇和甲醇的命運(yùn)應(yīng)進(jìn)行相容性測試在使用前與其他酸或有機(jī)溶劑一起使用。印版操作如果需要溫度控制，請使用CellASICONIX2集成塊XT（CAx2-MXT20]。請參閱Cel上海益啟細(xì)胞跨膜電阻儀訂購方便。

（1）消除印跡和印跡支架之間的氣泡滾動墊（1）提供光滑的表面以用于組裝印跡潤濕托盤（2）用于潤濕吸墨紙架和吸墨紙抗體收集盤（2）收集抗體以進(jìn)行回收快速入門指南（未顯示）SNAP i.d.o 2.0 MultiBlot持有接受MultiBlot支架進(jìn)行印跡孵育SNAP2FRMB01框架和蓋子SNAP ID。@ 2.0迷你印跡保存接受Mini吸盤架進(jìn)行吸盤孵育SNAP2FRM***框架和蓋子SNAP2FRMNO2SNAP i.d. @ 2.0 Midi印跡控股接受Midi印跡支架進(jìn)行印跡孵育SNAP2FRMD01框架和蓋子SNAP2FRMD02SNAP i.d.o 2.0 MultiBlot固定器接受多達(dá)4.5倍8.4厘米的污點(diǎn)SNAP2BHMB050（包括2個MultiBlot孔空白）只在運(yùn)行上海益啟生物微流控細(xì)胞芯片分析儀訂購方便。虹口區(qū)Merck細(xì)胞分析儀Merck儀器聯(lián)系電話

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盤，請在步驟5之后插入托盤。有關(guān)詳細(xì)信息，請參閱“抗體恢復(fù)”部分。 6.在整個表面上涂適量的一抗吸墨紙架的數(shù)量（對于MultiBlot為2.5毫升，對于迷你吸墨紙為5毫升，或10 mL用于Midi印跡）。7.在室溫下孵育10分鐘。解決方案將是吸收到污點(diǎn)固定器中，表面可能會變干。重要提示：請勿在吸塵器清潔后再使用真空吸塵器。孵育10分鐘。8.向下壓框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在連續(xù)運(yùn)行真空的情況下，添加30 mL洗滌緩沖液（MultiBlot為15毫升）。重復(fù)洗滌步驟3次以上（總共4次洗滌）。當(dāng)框架完全為空時，將TURN真空關(guān)閉。10.在印跡架的表面上涂適量的二抗（對于多印跡，為2.5 mL，5毫升用于迷你印跡，或10毫升用于Midi印跡）。在室溫下孵育10分鐘，然后上海MerckWB實(shí)驗(yàn)加速器Merck儀器代理價格