UHV閘閥三星半導(dǎo)體

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：首先，它已向中國(guó)臺(tái)灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時(shí)完成了對(duì)半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。其次，該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動(dòng)性能，保證可使用 25 萬(wàn)次，且檢修方便，維護(hù)成本較低。它無(wú) Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會(huì)有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。其保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì)也很獨(dú)特，Protecrion Ring 通過(guò)流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固，并通過(guò)打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。閘閥流動(dòng)阻力小。閥體內(nèi)部介質(zhì)通道是直通的，介質(zhì)成直線流動(dòng)，流動(dòng)阻力小。UHV閘閥三星半導(dǎo)體

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥：防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥，-三重防護(hù)閘閥：屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng)，還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥，屏蔽門閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；三級(jí)預(yù)防閘閥，三重防護(hù)閘閥：產(chǎn)品范圍：4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬(wàn)次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥；鋁閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓氣動(dòng)?維護(hù)前可用次數(shù)：10萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?a href="http://sd-js.cn/zdcbsx/4ivboge38o/24078236.html" target="_blank">UHV閘閥三星半導(dǎo)體高壓閘閥結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造和維修比較方便。工作行程小，啟閉時(shí)間短。密封性好，密封面間磨擦力小，壽命較長(zhǎng)。

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰。控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動(dòng)控制操作。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。

微泰高壓閘閥可以應(yīng)用于多種設(shè)備，如蒸發(fā)、濺射、金剛石生長(zhǎng)、PECV、PVD集群、卷對(duì)卷、涂層、蝕刻、擴(kuò)散和CVD等。它具有陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒和易于維護(hù)等特點(diǎn)，可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動(dòng)或氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應(yīng)時(shí)間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar，8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開始時(shí)壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動(dòng)壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動(dòng)壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護(hù)前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°、機(jī)構(gòu)溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C、閥體不銹鋼304或316L和驅(qū)動(dòng)器鋁6061陽(yáng)極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外，微泰高壓閘閥已在中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其他設(shè)備上得到應(yīng)用。如果您需要了解更多關(guān)于微泰高壓閘閥的信息，請(qǐng)聯(lián)系上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。真空閘閥由一個(gè)滑動(dòng)門或板組成，可以移動(dòng)以阻止或允許通過(guò)真空閥體，從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。

微泰,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型? Product Range : 32 x 222 / 46 x 236 ，50 x 336 / 56 x 500 ，? Cycles of first service : 1,000,000 ? Response Time : 2sec ? Customer Specified Flanges ，轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng)，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu)，保證高耐用性和長(zhǎng)壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造，其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊，易于維護(hù)。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng)，并且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長(zhǎng)的使用壽命。此外，即使長(zhǎng)時(shí)間使用柵極，它們產(chǎn)生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。真空閘閥的設(shè)計(jì)具有獨(dú)特的特征。它們具有堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)，通常使用不銹鋼或鋁等材料來(lái)抵抗真空條件。多位閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

閘閥的結(jié)構(gòu)緊湊，閥門剛性好，通道流暢，流阻數(shù)小，密封面采用不銹鋼和硬質(zhì)合金，使用壽命長(zhǎng)。UHV閘閥三星半導(dǎo)體

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的三重保護(hù)保護(hù)環(huán)機(jī)能：采用鋁質(zhì)材料，減輕重量的同時(shí)提高保護(hù)環(huán)內(nèi)部粗糙度，有效防止工程副產(chǎn)物的堆積黏附；通過(guò)提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì)，且保護(hù)環(huán)逐步收窄，進(jìn)一步提升流速，防止粉塵黏附；采用三元系 O 型圈，確保保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定，可保證 30 萬(wàn)次驅(qū)動(dòng)。該閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，能夠替代 HVA 閘閥、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。UHV閘閥三星半導(dǎo)體