Etch閘閥氣動閥

來源: 發(fā)布時間:2024-08-10

微泰半導體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當閘板升起時,閘閥打開,允許流體通過;當閘板降下時,閘閥關(guān)閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機構(gòu)和設(shè)計來實現(xiàn)精確的控制和可靠的密封,以滿足半導體設(shè)備中對工藝控制的要求。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁N⑻┌雽w主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,三重防護閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))等設(shè)備。Etch閘閥氣動閥

閘閥

微泰,高壓閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)保科技有限公司??刂崎l閥氣動閥真空閘閥的設(shè)計具有獨特的特征。它們具有堅固的結(jié)構(gòu),通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。

Etch閘閥氣動閥,閘閥

微泰,加熱閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*使用加熱套或內(nèi)部加熱器加熱*加熱控制器*應用:去除粉末/氣體設(shè)備。加熱閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:ISO、JIS、ASA、CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。I型輸送閥,-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染,確保高耐用性-采用LM導軌和單鏈路(LM-guide&Single Link)結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動方式,使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式(Jaw type)和夾式(Clamp type)。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。為特定的真空系統(tǒng)和工藝選擇適當尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關(guān)重要。

Etch閘閥氣動閥,閘閥

微泰半導體閘閥的特點:閥門驅(qū)動部分的所有滾子和軸承都進行了防護處理,形成屏蔽和保護環(huán)(Shield Blocker 和 Protection Ring)用三重預防方式切斷粉末(Powder),延長閥門驅(qū)動和使用壽命。三重預防驅(qū)動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部,有三重保護驅(qū)動保護環(huán),長久延長GV壽命的Shield方法-供應給海外半導體T公司、M公司和I公司Utility設(shè)備。擋板與閥體的距離小于1mm,阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入,屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料,考慮了復原力,并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護保護環(huán)的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環(huán)內(nèi)部照明的改善-保護環(huán)內(nèi)部流速的增加-三元環(huán)應用確保驅(qū)動性能。微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導體CVD設(shè)備中的主要閥門??刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用。HV閘閥法蘭閘閥

真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進出真空室的機械裝置。Etch閘閥氣動閥

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,一、控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。Etch閘閥氣動閥