微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,這里介紹一下閥門控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,開放/關閉速度LCD顯示;2,當閥門或泵錯誤時,燈點亮:3,自動關閉功能-防止泵跳閘中的逆流;4,有閥門開關位置的信號輸出信號;5,鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進行快速操作;6,無噪音,功耗低;7,歷史管理-打開/關閉/泵關閉等;8,UPS功能(1秒),微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。金屬材料高壓閘閥主要有:碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。閘閥法蘭閘閥
微泰,高壓閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。閘閥法蘭閘閥真空閘閥由一個滑動門或板組成,可以移動以阻止或允許通過真空閥體,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。
微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。
微泰半導體閘閥的特點,首先介紹一下起三重保護的保護環(huán)機能,采用鋁質(zhì)材料減少重量,并提高保護環(huán)的內(nèi)部粗糙度,防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護環(huán)內(nèi)部流速設計,保護環(huán)逐步收窄,提升流速,防止粉塵黏附。采用三元系O型圈,保證保護環(huán)驅(qū)動穩(wěn)定(保證30萬次驅(qū)動)。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動,安裝時有方向性。它的結(jié)構(gòu)長度大于閘閥,同時流體阻力大。
微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護閘閥,應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。閘閥法蘭閘閥
真空閘閥廣泛應用于各個行業(yè),包括半導體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。閘閥法蘭閘閥
半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案,真空插板閥品牌—微泰??刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備中的主要閥門??刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,通過控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)閘板的開啟和關閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥??刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。閘閥法蘭閘閥