北京雙光子灰度光刻技術(shù)3D打印

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-07-21

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。在灰度光刻技術(shù)的幫助下,芯片制造商可以更好地滿足不斷增長的市場需求。北京雙光子灰度光刻技術(shù)3D打印

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這款灰度光刻設(shè)備還具備智能化的特點(diǎn)。它配備了先進(jìn)的自動化控制系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)自動調(diào)節(jié)和監(jiān)控,減少了人工操作的需求,提高了生產(chǎn)線的穩(wěn)定性和可靠性。同時(shí),設(shè)備還具備故障自診斷和遠(yuǎn)程監(jiān)控功能,及時(shí)發(fā)現(xiàn)和解決問題,減少了生產(chǎn)線的停機(jī)時(shí)間,提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備還具備良好的適應(yīng)性和可擴(kuò)展性。它可以適應(yīng)不同材料和工藝的加工需求,為我們的生產(chǎn)線提供了更大的靈活性。同時(shí),設(shè)備還支持模塊化設(shè)計(jì),可以根據(jù)需要進(jìn)行擴(kuò)展和升級,滿足我們未來的生產(chǎn)需求。這款全新的灰度光刻設(shè)備為我們的生產(chǎn)線帶來了巨大的改變。它的精度、穩(wěn)定性和高效性使我們能夠更好地滿足客戶的需求,提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。我們相信,有了這款設(shè)備的加入,我們的公司將迎來更加美好的未來。2PP灰度光刻3D光刻靈活性高:由于無需制作實(shí)體掩膜版,無掩膜光刻技術(shù)可以快速地更改光刻圖案,方便進(jìn)行試制和修改。

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。

Nanoscribe在全球30多個(gè)國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?;?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團(tuán),共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。

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微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,會產(chǎn)生場曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,為了消除場曲這種光學(xué)像差,只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正,從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。雙光子灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合。高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)

灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響。北京雙光子灰度光刻技術(shù)3D打印

這種設(shè)計(jì)策略不僅可用于改進(jìn)現(xiàn)有的傳感器,該項(xiàng)目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設(shè)計(jì)中,研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個(gè)微型轉(zhuǎn)子。從轉(zhuǎn)子上反射出的光脈沖可以被讀取,因此該傳感器可以被用于分析流速。FabryPérot傳感器進(jìn)行溫度和折射率感應(yīng)的測試裝置圖。圖片:資料來源見本文下方。通過動態(tài)可旋轉(zhuǎn)的3D微納加工概念,研究人員展示了智能設(shè)計(jì)如何改進(jìn)現(xiàn)有的傳感器,并為整個(gè)新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。北京雙光子灰度光刻技術(shù)3D打印